一種涂裝噴室的排水系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種涂裝噴室的排水系統(tǒng)，其特征在于：包括若干漆霧二次水淋霧化處理室，與所述漆霧二次水淋霧化處理室位置對應(yīng)設(shè)置的循環(huán)水處理基坑，以及集中循環(huán)水處理池；所述循環(huán)水處理基坑包括第一循環(huán)水處理基坑和第二循環(huán)水處理基坑，且都與所述集中循環(huán)水處理池通過循環(huán)水排水溝連通。本實用新型結(jié)構(gòu)簡單，能夠?qū)娡窟^程中產(chǎn)生的污水集中處理，防止直接排出而污染環(huán)境。
【專利說明】一種涂裝噴室的排水系統(tǒng)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種排水系統(tǒng)，特別是指一種涂裝噴室的排水系統(tǒng)。

【背景技術(shù)】
[0002]噴涂是對金屬和非金屬表面覆蓋保護層或裝飾層，而噴涂工位是噴涂生產(chǎn)線的重要工位之一，噴涂時，一部分漆液吸附于零部件表面，一部分漆液以霧狀形式散布于空氣中；因此，為保護操作者的身體健康及防止漆霧污染環(huán)境，噴涂過程中需要進行漆霧水淋處理，從而會產(chǎn)生污水。
實用新型內(nèi)容
[0003]本實用新型的目的在于提供一種涂裝噴室的排水系統(tǒng)，對噴涂過程中污水進行集中處理，防止產(chǎn)生污染。
[0004]為解決上述技術(shù)問題，本實用新型的技術(shù)采用以下技術(shù)方案:
[0005]一種涂裝噴室的排水系統(tǒng),包括若干漆霧二次水淋霧化處理室，與所述漆霧二次水淋霧化處理室位置對應(yīng)設(shè)置的循環(huán)水處理基坑，以及集中循環(huán)水處理池；所述循環(huán)水處理基坑包括第一循環(huán)水處理基坑和第二循環(huán)水處理基坑，且都與所述集中循環(huán)水處理池通過循環(huán)水排水溝連通。
[0006]進一步地，所述漆霧二次水淋霧化處理室有七個，所述第一循環(huán)水處理基坑有八個，且每兩個第一循環(huán)水處理基坑對應(yīng)一個漆霧二次水淋霧化處理室；第二循環(huán)水處理基坑有三個并與三個漆霧二次水淋霧化處理室位置對應(yīng)。
[0007]進一步地，所述第二循環(huán)水處理基坑由分隔墻分隔成兩部分。
[0008]進一步地，所述循環(huán)水排水溝深度為450mm。
[0009]進一步地，所述集中循環(huán)水處理池深度為2500mm。
[0010]進一步地，所述循環(huán)水處理基坑具有面向所述循環(huán)水排水溝的坡度，且循環(huán)水處理基坑的較深處為400mm,較淺處為260mm。
[0011]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的有益效果為:本實用新型結(jié)構(gòu)簡單，能夠?qū)娡窟^程中產(chǎn)生的污水集中處理，防止直接排出而污染環(huán)境。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0012]圖1為本實用新型優(yōu)選實施例的結(jié)構(gòu)示意圖
[0013]圖中:1_漆霧二次水淋霧化處理室；2_循環(huán)水處理基坑；21_第一循環(huán)水處理基坑；22_第二循環(huán)水處理基坑；23_分隔墻；3_集中循環(huán)水處理池；4_循環(huán)水排水溝。

【具體實施方式】
[0014]為讓本領(lǐng)域的技術(shù)人員更加清晰直觀的了解本實用新型，下面將結(jié)合附圖，對本實用新型作進一步的說明。
[0015]如圖1所示為本實用新型的優(yōu)選實施例。
[0016]一種涂裝噴室的排水系統(tǒng),包括若干漆霧二次水淋霧化處理室1，與漆霧二次水淋霧化處理室I位置對應(yīng)設(shè)置的循環(huán)水處理基坑2，以及集中循環(huán)水處理池3 ;循環(huán)水處理基坑2包括第一循環(huán)水處理基坑21和第二循環(huán)水處理基坑22，且都與集中循環(huán)水處理池3通過循環(huán)水排水溝4連通。
[0017]進一步地,漆霧二次水淋霧化處理室I有七個，第一循環(huán)水處理基坑21有八個,且每兩個第一循環(huán)水處理基坑21對應(yīng)一個漆霧二次水淋霧化處理室I ;第二循環(huán)水處理基坑22有三個并與三個漆霧二次水淋霧化處理室I位置對應(yīng)。
[0018]進一步地，第二循環(huán)水處理基坑22由分隔墻23分隔成兩部分。
[0019]進一步地，循環(huán)水排水溝4深度為450mm。
[0020]進一步地，集中循環(huán)水處理池3深度為2500mm。
[0021]進一步地，循環(huán)水處理基坑2具有面向循環(huán)水排水溝4的坡度，且循環(huán)水處理基坑2的較深處為400mm,較淺處為260mm。
[0022]以上所述僅為本實用新型的較佳實施例而已，并不用以限制本實用新型，凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應(yīng)包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種涂裝噴室的排水系統(tǒng)，其特征在于:包括若干漆霧二次水淋霧化處理室，與所述漆霧二次水淋霧化處理室位置對應(yīng)設(shè)置的循環(huán)水處理基坑，以及集中循環(huán)水處理池；所述循環(huán)水處理基坑包括第一循環(huán)水處理基坑和第二循環(huán)水處理基坑，且都與所述集中循環(huán)水處理池通過循環(huán)水排水溝連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1中所述的涂裝噴室的排水系統(tǒng)，其特征在于:所述漆霧二次水淋霧化處理室有七個，所述第一循環(huán)水處理基坑有八個，且每兩個第一循環(huán)水處理基坑對應(yīng)一個漆霧二次水淋霧化處理室；第二循環(huán)水處理基坑有三個并與三個漆霧二次水淋霧化處理室位置對應(yīng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2中所述的涂裝噴室的排水系統(tǒng)，其特征在于:所述第二循環(huán)水處理基坑由分隔墻分隔成兩部分。
4.根據(jù)權(quán)利要求2中所述的涂裝噴室的排水系統(tǒng)，其特征在于:所述循環(huán)水排水溝深度為450_。
5.根據(jù)權(quán)利要求2中所述的涂裝噴室的排水系統(tǒng)，其特征在于:所述集中循環(huán)水處理池深度為2500mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1中所述的涂裝噴室的排水系統(tǒng)，其特征在于:所述循環(huán)水處理基坑具有面向所述循環(huán)水排水溝的坡度，且循環(huán)水處理基坑的較深處為400mm，較淺處為260mmo
【文檔編號】E03F3/02GK203947556SQ201420234779
【公開日】2014年11月19日 申請日期:2014年5月9日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月9日
【發(fā)明者】唐康運 申請人:重慶虎牌科技有限公司