本發(fā)明涉及土壤修復，尤其是涉及一種用于土壤修復處置場地的防滲排水系統(tǒng)及應用方法。

背景技術(shù)：

1、目前，常見的污染土壤修復治理模式為異位修復治理，即：將污染土壤進行清挖，規(guī)劃地表處置場地后，在處置場地上進行污染土壤的修復施工工作。同時，為了防止處置場地產(chǎn)生二次污染，需采取防滲措施，通常為處置區(qū)鋪設混凝土層。

2、污染土壤修復處置場地鋪設混凝土的方式，間接加大了當?shù)厮嗥髽I(yè)的水泥生產(chǎn)量，間接造成高碳排放，有悖于推動綠色發(fā)展；同時在撤場階段產(chǎn)生固體廢棄物，不滿足低碳環(huán)保預期；

3、基于上述問題，亟需一種用于污染土壤處置場地的低碳環(huán)保防滲方法。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、針對上述問題，本發(fā)明提供了一種用于土壤修復處置場地的防滲排水系統(tǒng)及應用方法，既可有效防止處置區(qū)因堆存污染土壤產(chǎn)生的滲濾液造成二次污染，又可避免傳統(tǒng)防滲措施產(chǎn)生的混凝土防滲層建筑固體廢物。

2、為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種用于土壤修復處置場地的防滲排水系統(tǒng)，包括：處置場地內(nèi)地下土壤層上方設置的處置場地防滲子系統(tǒng)，處置場地四周向下挖設的集水排水子系統(tǒng)；

3、所述場地防滲子系統(tǒng)包括自下至上依次鋪設的底部支撐托板層、第一柔性疏水隔水膜層和頂部防滲熒光板層；

4、所述集水排水子系統(tǒng)包括處置場地四周設置的場地四周排水溝，與所述場地四周排水溝連接、設于處置場地邊緣的地下集水池，所述地下集水池的深度大于所述場地四周排水溝的深度，所述四周排水溝內(nèi)及所述地下集水池內(nèi)均鋪設有第二柔性疏水隔水膜層，所述第二柔性疏水隔水膜層邊緣與所述第一柔性疏水隔水膜層邊緣連接；

5、所述地下集水池底部設有底部浮球閥電磁污水泵；

6、所述頂部防滲熒光板層上方堆存污染土壤，上部積水及滲濾液自然流入所述場地四周排水溝，經(jīng)所述場地四周排水溝流入所述地下集水池，所述底部浮球閥電磁污水泵抽取所述地下集水池內(nèi)廢水至地面水處理設施處置。

7、作為本發(fā)明的進一步改進，所述底部支撐托板層內(nèi)均勻間隔內(nèi)嵌三角型置膜溝槽，所述置膜溝槽貫穿整個底部支撐托板；

8、將所述第一柔性疏水隔水膜層壓入所述置膜溝槽內(nèi)形成三角空腔，所述頂部防滲熒光板層被破壞時，所述頂部防滲熒光板層上部積水及滲濾液滲至所述第一柔性疏水隔水膜層，經(jīng)所述三角空腔排入所述場地四周排水溝及地下集水池。

9、作為本發(fā)明的進一步改進，所述地下集水池內(nèi)上部還設有上部浮球閥電磁雨水泵，將暴雨期所述地下集水池上部的雨水抽取至市政雨水管網(wǎng)。

10、作為本發(fā)明的進一步改進，所述地下集水池設有多個，分布于所述處置場地的四個角落。

11、作為本發(fā)明的進一步改進，所述地下集水池設有多個，均勻分布于所述處置場地的各角落及所述場地四周排水溝上。

12、作為本發(fā)明的進一步改進，所述頂部防滲熒光板層內(nèi)混有熒光粉，黑暗條件下顯熒光，使處置場地可辨識。

13、作為本發(fā)明的進一步改進，所述地下集水池長度、寬度及深度分別為2m、1.5m、1m，所述處置場地四周排水溝寬度及深度分別為0.2m、0.2m。

14、作為本發(fā)明的進一步改進，所述底部支撐拖板層為黑色pe材質(zhì)板黏合制成。

15、作為本發(fā)明的進一步改進，所述頂部防滲熒光板層為透明pe材質(zhì)板黏合制成。

16、本發(fā)明還提供了一種用于土壤修復處置場地的防滲排水系統(tǒng)應用方法，包括：

17、規(guī)劃處置場地，對所述處置場地進行平整壓實處理；

18、在所述處置場地四周向下挖設場地四周排水溝和地下集水池；

19、在平整壓實后的所述處置場地內(nèi)地下土壤層上方鋪設底部支撐托板層；

20、在所述底部支撐托板層上方、四周排水溝內(nèi)及地下集水池內(nèi)整體鋪設柔性疏水隔水膜，所述底部支撐托板層上方形成第一柔性疏水隔水膜層，所述四周排水溝內(nèi)及地下集水池內(nèi)形成第二柔性疏水隔水膜層；

21、在所述第一柔性疏水隔水膜層上方鋪設頂部防滲熒光板層；

22、在所述地下集水池內(nèi)底部安裝底部浮球閥電磁污水泵；

23、在所述頂部防滲熒光板層上方堆存、處置污染土壤；

24、上部積水及滲濾液自然流入四周排水溝，并沿所述四周排水溝流入地下集水池；

25、所述地下集水池內(nèi)底部浮球閥電磁污水泵工作，將所述地下集水池中收集的積水及滲濾液抽排至地面水處理設施。

26、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果為：

27、本發(fā)明通過在處置場地上設置底部支撐托板層、第一柔性疏水隔水膜層及頂部防滲熒光板層實現(xiàn)三重抗?jié)B，可確保系統(tǒng)的防滲效果，同時，通過設置場地四周排水溝、地下集水池，可使污染土壤中的積水和污染土壤修復過程中產(chǎn)生的滲濾液自動流入四周排水溝，實現(xiàn)積水及滲濾液的自動收集，通過設置底部浮球閥電磁污水泵，可自動抽取積水及滲濾液至地面水處置設置進行廢水處理，避免了污染土壤中廢水的二次污染。

28、本發(fā)明底部支撐托板層內(nèi)嵌三角型置膜溝槽，柔性疏水隔水膜壓入置膜溝槽后具有一定的拉伸量，處置場地防滲系統(tǒng)抗破壞性較強；同時在頂部防滲熒光板層遭到破壞后，污染土壤中的積液及滲濾液仍可沿置膜溝槽與柔性疏水隔水膜形成的三角型空腔自然流入場地四周排水溝內(nèi)，避免污染土壤中廢水的二次污染。

29、本發(fā)明集水排水系統(tǒng)的底部浮球閥電磁污水泵可實現(xiàn)日常自動抽排集水池內(nèi)廢水，暴雨期集水池上部浮球閥電磁雨水泵同步進行雨水抽排，系統(tǒng)整體實現(xiàn)雨污分流。

30、本發(fā)明地下集水池、排水溝內(nèi)部設置第二柔性疏水隔水膜層，整體附在集水池和排水溝表層，起隔水作用，避免在污染土壤廢水收集過程中造成二次污染。

31、本發(fā)明頂部防滲熒光板層具有較強的抗?jié)B性，增加第一柔性疏水隔水膜層及底部支撐托板層后實現(xiàn)三重抗?jié)B，可確保防滲效果。

32、本發(fā)明頂部防滲熒光板層具有夜間熒光效應，夜間易辨別，安全理念較強。

技術(shù)特征：

1.一種用于土壤修復處置場地的防滲排水系統(tǒng)，其特征在于，包括：處置場地內(nèi)地下土壤層上方設置的處置場地防滲子系統(tǒng)，處置場地四周向下挖設的集水排水子系統(tǒng)；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于土壤修復處置場地的防滲排水系統(tǒng)，其特征在于：所述底部支撐托板層內(nèi)均勻間隔內(nèi)嵌三角型置膜溝槽，所述置膜溝槽貫穿整個底部支撐托板；

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于土壤修復處置場地的防滲排水系統(tǒng)，其特征在于：所述地下集水池內(nèi)上部還設有上部浮球閥電磁雨水泵，將暴雨期所述地下集水池上部的雨水抽取至市政雨水管網(wǎng)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于土壤修復處置場地的防滲排水系統(tǒng)，其特征在于：所述地下集水池設有多個，分布于所述處置場地的四個角落。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于土壤修復處置場地的防滲排水系統(tǒng)，其特征在于：所述地下集水池設有多個，均勻分布于所述處置場地的各角落及所述場地四周排水溝上。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于土壤修復處置場地的防滲排水系統(tǒng)，其特征在于：所述頂部防滲熒光板層內(nèi)混有熒光粉，黑暗條件下顯熒光，使處置場地可辨識。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于土壤修復處置場地的防滲排水系統(tǒng)，其特征在于：所述地下集水池長度、寬度及深度分別為2m、1.5m、1m，所述處置場地四周排水溝寬度及深度分別為0.2m、0.2m。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于土壤修復處置場地的防滲排水系統(tǒng)，其特征在于：所述底部支撐拖板層為黑色pe材質(zhì)板黏合制成。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于土壤修復處置場地的防滲排水系統(tǒng)，其特征在于：所述頂部防滲熒光板層為透明pe材質(zhì)板黏合制成。

10.一種用于土壤修復處置場地的防滲排水系統(tǒng)應用方法，應用如權(quán)利要求1～9任一項所述的用于土壤修復處置場地的防滲排水系統(tǒng)，其特征在于：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種用于土壤修復處置場地的防滲排水系統(tǒng)及應用方法，涉及土壤修復技術(shù)領域，包括：處置場地內(nèi)地下土壤層上方設置的處置場地防滲子系統(tǒng)，處置場地四周向下挖設的集水排水子系統(tǒng)；場地防滲子系統(tǒng)包括自下至上依次鋪設的底部支撐托板層、第一柔性疏水隔水膜層和頂部防滲熒光板層；集水排水子系統(tǒng)包括處置場地四周設置的場地四周排水溝，與場地四周排水溝連接、設于處置場地邊緣的地下集水池，地下集水池的深度大于場地四周排水溝的深度，四周排水溝內(nèi)及地下集水池內(nèi)均鋪設有第二柔性疏水隔水膜層，地下集水池底部設有底部浮球閥電磁污水泵，其連接地面水處置設施。本發(fā)明有效防止處置區(qū)因堆存污染土壤產(chǎn)生的滲濾液造成二次污染。

技術(shù)研發(fā)人員：張培,苗竹,黃霞,羅雄文,張倩,倪鑫鑫,廉影,劉沛,吳冬冬,王祥,劉新,萬祥,方英
受保護的技術(shù)使用者：北京高能時代環(huán)境技術(shù)股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/2