本發(fā)明具體涉及一種特下水槽排放系統(tǒng)、后處理廠處理系統(tǒng)及特下水處理方法。

背景技術(shù)：

1、在后處理廠中，“特下水”特指一類可能含有放射性的生產(chǎn)廢水，其來(lái)源主要包括各類衛(wèi)生出入口人員洗消廢水、放射性區(qū)域地面排水、工藝設(shè)備去污廢水、以及后處理和三廢工藝排放的放射性水平低于某限值的生產(chǎn)廢水。

2、遵循相關(guān)法規(guī)和標(biāo)準(zhǔn)，特下水應(yīng)進(jìn)行“槽式排放”，排放前需檢測(cè)特下水的放射性水平，常規(guī)設(shè)計(jì)流程為：將上游產(chǎn)生的各類特下水收集至特下水槽，待特下水槽滿液位后，取樣檢測(cè)特下水的放射性水平，根據(jù)放射性水平確定特下水后續(xù)所需的處理、處置方式或最終排放去向，由特下水槽排水泵將特下水排至相關(guān)處理、處置設(shè)施或最終環(huán)境受體。特下水槽一般設(shè)置兩部，按上述流程交替使用。

3、目前，特下水常規(guī)的槽式排放流程存在以下主要問(wèn)題：一、收集的特下水中含有細(xì)小的固體雜質(zhì)，長(zhǎng)期運(yùn)行后易在特下水槽底部沉積，形成放射性固體廢物；二、特下水槽內(nèi)水質(zhì)不均，導(dǎo)致取樣檢測(cè)結(jié)果代表性差。為了解決槽底沉積和水質(zhì)不均問(wèn)題，需要另外增加攪拌設(shè)備，將大幅增加設(shè)備成本。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的上述不足，提供一種特下水槽排放系統(tǒng)、后處理廠處理系統(tǒng)及特下水處理方法，能夠在結(jié)構(gòu)上不做大改動(dòng)的情況下，利用現(xiàn)有的排水泵帶動(dòng)特下水回流至特下水槽內(nèi)，對(duì)特下水槽內(nèi)的特下水進(jìn)行攪拌，解決槽底沉積和水質(zhì)不均問(wèn)題，并節(jié)約設(shè)備成本。

2、第一方面，本發(fā)明實(shí)施例提供一種特下水槽排放系統(tǒng)，特下水槽排放系統(tǒng)包括特下水槽、排水泵和回流管。特下水槽用于容置特下水，所述特下水槽的底部設(shè)置有排水口。排水泵設(shè)置在所述特下水槽的排水口上，用于在啟動(dòng)時(shí)排出所述特下水槽內(nèi)的特下水?；亓鞴馨ɑ亓鞲晒芎突亓髦Ч?；所述回流干管的第一端與所述排水泵的出水口連通，所述回流干管的第二端伸入所述特下水槽內(nèi)部；所述回流支管的數(shù)量為多個(gè)，多個(gè)所述回流支管均設(shè)置在所述特下水槽內(nèi)部，且多個(gè)所述回流支管均與所述回流干管的第二端連通。所述排水泵排出的特下水通過(guò)所述回流干管、所述回流支管的出水口回流至所述特下水槽內(nèi)部，以對(duì)所述特下水槽內(nèi)部的特下水進(jìn)行攪拌。

3、在一些實(shí)施例中，多個(gè)所述回流支管沿所述特下水槽的內(nèi)壁均勻分布。

4、在一些實(shí)施例中，每個(gè)所述回流支管上設(shè)置有多個(gè)出水短管，多個(gè)所述出水短管分別設(shè)置在所述特下水槽內(nèi)的不同深度上，每個(gè)所述出水短管的出水口形成所述回流支管的出水口。

5、在一些實(shí)施例中，每個(gè)所述出水短管的出水口均朝向斜向下的方向。

6、在一些實(shí)施例中，每個(gè)所述回流支管中，多個(gè)所述出水短管的橫截面積之和，小于或等于所述回流支管的橫截面積。多個(gè)所述回流支管的橫截面積之和，小于或等于所述回流干管的橫截面積。

7、在一些實(shí)施例中，所述特下水槽設(shè)置在橙區(qū)，橙區(qū)和綠區(qū)之間的屏蔽墻上設(shè)置有手套箱。所述回流干管的第二端穿過(guò)所述手套箱后伸入所述特下水槽內(nèi)部，所述回流干管的位于所述手套箱內(nèi)的部分上引出有取樣控制閥，以通過(guò)所述取樣控制閥對(duì)所述回流干管內(nèi)的特下水進(jìn)行取樣。

8、在一些實(shí)施例中，所述回流干管上設(shè)置有回流干管控制閥。所述特下水槽排放系統(tǒng)還包括遠(yuǎn)程控制面板，所述遠(yuǎn)程控制面板與所述排水泵、所述回流干管控制閥分別電連接，用于控制所述排水泵的啟停，以及控制所述回流干管控制閥的開(kāi)閉。

9、在一些實(shí)施例中，所述遠(yuǎn)程控制面板設(shè)置在綠區(qū)內(nèi)靠近所述手套箱的位置上。

10、在一些實(shí)施例中，特下水槽排放系統(tǒng)還包括進(jìn)液管和排放管。進(jìn)液管與所述特下水槽的頂部連通，所述進(jìn)液管上設(shè)置有進(jìn)水管控制閥。排放管連接在所述排水泵的出水口與所述回流干管的入口端之間。

11、在一些實(shí)施例中，所述排放管包括第一排放管和第二排放管，所述第一排放管和所述第二排放管均連接在所述排水泵的出水口與所述回流干管的入口端之間。所述第一排放管上設(shè)置有第一排放管控制閥，所述第二排放管上設(shè)置有第二排放管控制閥。所述遠(yuǎn)程控制面板還與所述第一排放管控制閥、所述第二排放管控制閥、所述進(jìn)水管控制閥分別電連接，還用于控制所述第一排放管控制閥、所述第二排放管控制閥、所述進(jìn)水管控制閥的開(kāi)閉。

12、由此，本發(fā)明實(shí)施例提供的特下水槽排放系統(tǒng)，通過(guò)在原來(lái)的設(shè)備基礎(chǔ)上增設(shè)回流管，比如設(shè)置回流干管，并使回流干管的第一端與排水泵的出水口連通，排水泵啟動(dòng)后可以將特下水槽內(nèi)的特下水輸送至回流干管中；通過(guò)在特下水槽內(nèi)部設(shè)置多個(gè)回流支管，并使多個(gè)回流支管均與回流干管的第二端連通，可以使回流干管中的特下水通過(guò)回流支管的出水口回流至特下水槽內(nèi)部，以水力攪拌的形式對(duì)特下水槽內(nèi)部的特下水進(jìn)行攪拌，從而使沉積在特下水槽底部的固態(tài)雜質(zhì)能夠均勻混合在特下水中，并使特下水槽內(nèi)各處的特下水的水質(zhì)混合均勻，以解決槽底沉積和水質(zhì)不均問(wèn)題，可以提高取樣檢測(cè)結(jié)果的準(zhǔn)確性。并且，相比于額外增加攪拌設(shè)備對(duì)特下水進(jìn)行攪拌，本發(fā)明實(shí)施例直接利用現(xiàn)有的排水泵，僅需額外增加回流干管和回流支管即可解決槽底沉積和水質(zhì)不均問(wèn)題，有利于節(jié)約設(shè)備成本。

13、第二方面，本發(fā)明實(shí)施例提供一種后處理廠處理系統(tǒng)，后處理廠處理系統(tǒng)包括后處理設(shè)備和第一方面中的特下水槽排放系統(tǒng)。后處理設(shè)備具有排液口，所述排液口用于排出所述后處理設(shè)備的特下水。特下水槽排放系統(tǒng)的特下水槽與所述后處理設(shè)備的排液口連通。

14、第三方面，本發(fā)明實(shí)施例提供一種特下水處理方法，應(yīng)用于上述的特下水槽排放系統(tǒng)，該特下水處理方法包括：?jiǎn)?dòng)排水泵，將特下水槽內(nèi)的特下水排出至回流干管；回流干管中的特下水通過(guò)設(shè)置在所述特下水槽內(nèi)部的多個(gè)回流支管的出水口，回流至所述特下水槽內(nèi)部，以對(duì)所述特下水槽內(nèi)部的特下水進(jìn)行攪拌，使特下水混合均勻。

15、在一些實(shí)施例中，特下水處理方法還包括：對(duì)特下水槽內(nèi)的特下水進(jìn)行取樣；所述對(duì)特下水槽內(nèi)的特下水進(jìn)行取樣，具體包括：在所述回流干管上引出取樣控制閥，通過(guò)所述取樣控制閥對(duì)所述回流干管內(nèi)的特下水進(jìn)行取樣。

16、本發(fā)明實(shí)施例提供的后處理廠處理系統(tǒng)、特下水處理方法具有和上述特下水槽排放系統(tǒng)相同的有益效果，在此不再贅述。

技術(shù)特征：

1.一種特下水槽排放系統(tǒng)，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的特下水槽排放系統(tǒng)，其特征在于，

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的特下水槽排放系統(tǒng)，其特征在于，每個(gè)所述回流支管(5)上設(shè)置有多個(gè)出水短管(7)，多個(gè)所述出水短管(7)分別設(shè)置在所述特下水槽(1)內(nèi)的不同深度上，每個(gè)所述出水短管(7)的出水口形成所述回流支管(5)的出水口。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的特下水槽排放系統(tǒng)，其特征在于，每個(gè)所述出水短管(7)的出水口均朝向斜向下的方向。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的特下水槽排放系統(tǒng)，其特征在于，每個(gè)所述回流支管(5)中，多個(gè)所述出水短管(7)的橫截面積之和，小于或等于所述回流支管(5)的橫截面積；

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的特下水槽排放系統(tǒng)，其特征在于，所述特下水槽(1)設(shè)置在橙區(qū)，橙區(qū)和綠區(qū)之間的屏蔽墻上設(shè)置有手套箱(12)；

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的特下水槽排放系統(tǒng)，其特征在于，所述回流干管(4)上設(shè)置有回流干管控制閥(9)；

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的特下水槽排放系統(tǒng)，其特征在于，所述遠(yuǎn)程控制面板(13)設(shè)置在綠區(qū)內(nèi)靠近所述手套箱(12)的位置上。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的特下水槽排放系統(tǒng)，其特征在于，還包括：

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的特下水槽排放系統(tǒng)，其特征在于，所述排放管(3)包括第一排放管和第二排放管，所述第一排放管和所述第二排放管均連接在所述排水泵(2)的出水口與所述回流干管(4)的入口端之間；

11.一種后處理廠處理系統(tǒng)，其特征在于，包括：

12.一種特下水處理方法，其特征在于，所述方法應(yīng)用于權(quán)利要求1-10任一項(xiàng)所述的特下水槽排放系統(tǒng)，所述方法包括：

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的特下水處理方法，其特征在于，還包括：對(duì)特下水槽(1)內(nèi)的特下水進(jìn)行取樣；

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開(kāi)了一種特下水槽排放系統(tǒng)、后處理廠處理系統(tǒng)及特下水處理方法，能夠在結(jié)構(gòu)上不做大改動(dòng)的情況下，利用現(xiàn)有的排水泵帶動(dòng)特下水回流至特下水槽內(nèi)，對(duì)特下水槽內(nèi)的特下水進(jìn)行攪拌，解決槽底沉積和水質(zhì)不均問(wèn)題，并節(jié)約設(shè)備成本。該特下水槽排放系統(tǒng)包括特下水槽(1)、排水泵(2)和回流管。排水泵(2)設(shè)置在特下水槽(1)的排水口上?；亓鞴馨ɑ亓鞲晒?4)和回流支管(5)；回流干管(4)的第一端與排水泵(2)的出水口連通，回流干管(4)的第二端伸入特下水槽(1)內(nèi)部；回流支管(5)的數(shù)量為多個(gè)，多個(gè)回流支管(5)均設(shè)置在特下水槽(1)內(nèi)部，且多個(gè)回流支管(5)均與回流干管(4)的第二端連通。

技術(shù)研發(fā)人員：梁鵬,韓冰,李祥,李海珠
受保護(hù)的技術(shù)使用者：中國(guó)核電工程有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/6