一種含羰基鎳廢液排放裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]一種含羰基鎳廢液排放裝置，涉及一種對(duì)含羰基鎳廢液管道中，廢水集液井至廢液排出管道之間連接結(jié)構(gòu)改進(jìn)。
【背景技術(shù)】
[0002]在羰基鎳生產(chǎn)中，有時(shí)會(huì)出現(xiàn)如閥門泄漏、設(shè)備故障等小型故障甚至生產(chǎn)事故。在處理過程中，系統(tǒng)泄漏出的羰基鎳經(jīng)水沖洗形成廢液，這部分含羰基鎳的廢液經(jīng)廠房內(nèi)集水溝流入到專用的含羰基鎳廢液收集管網(wǎng)中，由事故廢水集液溝是對(duì)故障廢水進(jìn)行收集，集水溝入口為敞開式布置。
[0003]在實(shí)際運(yùn)行中，當(dāng)發(fā)生生產(chǎn)故障如高壓閥門泄漏、循環(huán)壓縮機(jī)故障或合成釜故障時(shí)，不能及時(shí)隨氣體帶走的羰基鎳介質(zhì)流到地面，經(jīng)廠房內(nèi)洗消處理后流入到專用集水溝，再流入到敞開的生產(chǎn)廢水集水井中，進(jìn)入到后續(xù)處理系統(tǒng)，因此，集水溝與生產(chǎn)廢水之間連接的集水井會(huì)殘留羰基鎳，造成安全隱患，導(dǎo)致人員中毒事故發(fā)生。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本實(shí)用新型的目的就是針對(duì)上述已有技術(shù)存在的不足，提供一種對(duì)管道及集水井結(jié)構(gòu)進(jìn)行改進(jìn)，使含羰基鎳介質(zhì)的廢水得以進(jìn)行水封處理，防止羰基鎳介質(zhì)泄漏至空氣中，形成安全隱患的含羰基鎳廢液排放裝置。
[0005]本實(shí)用新型的目的是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的。
[0006]一種含羰基鎳廢液排放裝置，其結(jié)構(gòu)包括:管狀集液豎井，與管狀集液豎井上部側(cè)壁聯(lián)接的水平集液管，一端與管狀集液豎井側(cè)壁聯(lián)接、另一端與含羰基鎳廢水消毒處理系統(tǒng)聯(lián)接的排液管；其特征在于所述的排液管端口穿入管狀集液豎井中下部側(cè)壁，且在管端口上固定聯(lián)接有垂直水封管；該水封管上端封閉、下底開有通口、下部側(cè)壁開有與排液管端口相通的通孔。
[0007]本實(shí)用新型的一種含羰基鎳廢液排放裝置，將管狀集液豎井和與含羰基鎳廢水消毒處理系統(tǒng)聯(lián)接的排液管的結(jié)構(gòu)進(jìn)行改進(jìn)，使廢液流入到管狀集液豎井溢流進(jìn)入廢液排液管道時(shí)，能對(duì)與集液豎井隧接的廢液排液管進(jìn)行水封，使進(jìn)入集水井的含羰基鎳廢水能夠被水密封，有效防止羰基鎳介質(zhì)泄漏至空氣中形成的安全隱患。
【附圖說明】
[0008]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0009]一種含羰基鎳廢液排放裝置，其結(jié)構(gòu)包括:管狀集液豎井1，與管狀集液豎井上部側(cè)壁聯(lián)接的水平集液管2，一端與管狀集液豎井側(cè)壁聯(lián)接、另一端與含羰基鎳廢水消毒處理系統(tǒng)聯(lián)接的排液管3 ;其所述的排液管端口穿入管狀集液豎井中下部側(cè)壁，且在管端口上固定聯(lián)接有垂直水封管4，該水封管上端封閉、下底開有通口 5、下部側(cè)壁開有與排液管端口相通的通孔。
[0010]實(shí)施例1
[0011 ] 如圖所示，含羰基鎳廢水管按DN300管道布置，進(jìn)口端上延200mm后通過彎頭引入下部距離管道最低處50mm的地方，距離集水井下部也50mm距離，向集水井中補(bǔ)入清凈水，形成50_的水封液位高度。某日儲(chǔ)罐區(qū)閥門泄漏，隔離區(qū)內(nèi)的羰基鎳經(jīng)儲(chǔ)罐自動(dòng)噴淋系統(tǒng)洗消后進(jìn)入集水井，流入過程中內(nèi)對(duì)集水井處CO濃度進(jìn)行監(jiān)測(cè)，實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)為5ppm，說明流入過程中，集水溝出口水中微量羰基鎳介質(zhì)揮發(fā)；流入后5小時(shí)對(duì)集水井及周圍CO濃度進(jìn)行監(jiān)測(cè)，濃度為0ppm，24小時(shí)再進(jìn)行監(jiān)測(cè)，CO濃度仍為Oppm，說明集水井無羰基鎳介質(zhì)揮發(fā)，密封效果良好。
[0012]實(shí)施例2
[0013]如圖所示，含羰基鎳廢水管按DN300管道布置，進(jìn)口端上延200mm后通過彎頭引入下部距離管道最低處50mm的地方，距離集水井下部也50mm距離，向集水井中補(bǔ)入清凈水，形成40_的水封液位高度。某日儲(chǔ)罐區(qū)閥門泄漏，隔離區(qū)內(nèi)的羰基鎳經(jīng)儲(chǔ)罐自動(dòng)噴淋系統(tǒng)洗消后進(jìn)入集水井，流入過程中內(nèi)對(duì)集水井處CO濃度進(jìn)行監(jiān)測(cè)，實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)為5ppm，說明流入過程中，集水溝出口水中微量羰基鎳介質(zhì)揮發(fā)；流入后5小時(shí)對(duì)集水井及周圍CO濃度進(jìn)行監(jiān)測(cè)，濃度為0ppm，24小時(shí)再進(jìn)行監(jiān)測(cè)，CO濃度仍為Oppm，說明集水井無羰基鎳介質(zhì)揮發(fā)，密封效果良好。
[0014]實(shí)施例3
[0015]如圖所示，含羰基鎳廢水管按DN300管道布置，進(jìn)口端上延200mm后通過彎頭引入下部距離管道最低處50mm的地方，距離集水井下部也50mm距離，向集水井中補(bǔ)入清凈水，形成30mm的水封液位高度。某日儲(chǔ)罐區(qū)閥門泄漏，隔離區(qū)內(nèi)的羰基鎳經(jīng)儲(chǔ)罐自動(dòng)噴淋系統(tǒng)洗消后進(jìn)入集水井，流入過程中內(nèi)對(duì)集水井處CO濃度進(jìn)行監(jiān)測(cè)，實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)為5ppm，說明流入過程中，集水溝出口水中微量羰基鎳介質(zhì)揮發(fā)；流入后5小時(shí)對(duì)集水井及周圍CO濃度進(jìn)行監(jiān)測(cè)，濃度為0ppm，24小時(shí)再進(jìn)行監(jiān)測(cè)，CO濃度仍為Oppm，說明集水井無羰基鎳介質(zhì)揮發(fā)，密封效果良好。
[0016]實(shí)施例4
[0017]如圖所示，含羰基鎳廢水管按DN300管道布置，進(jìn)口端上延200mm后通過彎頭引入下部距離管道最低處50mm的地方，距離集水井下部也50mm距離，向集水井中補(bǔ)入清凈水，形成20mm的水封液位高度。某日儲(chǔ)罐區(qū)閥門泄漏，隔離區(qū)內(nèi)的羰基鎳經(jīng)儲(chǔ)罐自動(dòng)噴淋系統(tǒng)洗消后進(jìn)入集水井，流入過程中內(nèi)對(duì)集水井處CO濃度進(jìn)行監(jiān)測(cè)，實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)為5ppm，說明流入過程中，集水溝出口水中微量羰基鎳介質(zhì)揮發(fā)；流入后5小時(shí)對(duì)集水井及周圍CO濃度進(jìn)行監(jiān)測(cè)，濃度為35ppm，24小時(shí)再進(jìn)行監(jiān)測(cè)，CO濃度仍為30ppm，說明集水井中水封液位高度不夠，密封效果不好，因此可以看出水封高度在30mm以上時(shí)能夠形成有效密封。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種含羰基鎳廢液排放裝置，其結(jié)構(gòu)包括:管狀集液豎井，與管狀集液豎井上部側(cè)壁聯(lián)接的水平集液管，一端與管狀集液豎井側(cè)壁聯(lián)接、另一端與含羰基鎳廢水消毒處理系統(tǒng)聯(lián)接的排液管；其特征在于所述的排液管端口穿入管狀集液豎井中下部側(cè)壁，且在管端口上固定聯(lián)接有垂直水封管；該水封管上端封閉、下底開有通口、下部側(cè)壁開有與排液管端口相通的通孔。
【專利摘要】一種含羰基鎳廢液排放裝置，涉及一種對(duì)含羰基鎳廢液管道中，廢水集液井至廢液排出管道之間連接結(jié)構(gòu)改進(jìn)。其結(jié)構(gòu)包括：管狀集液豎井、水平集液管和排液管；其特征在于所述的排液管端口穿入管狀集液豎井中下部側(cè)壁，且在管端口上固定聯(lián)接有垂直水封管；該水封管上端封閉、下底開有通口、下部側(cè)壁開有與排液管端口相通的通孔。本實(shí)用新型的裝置，能使收集到地下管道的含羰基鎳廢水始終處于水封狀態(tài)中，防止廢水中的羰基鎳揮發(fā)到收集井中富集，形成CO混合物后爆炸，損害設(shè)施及揮發(fā)到空氣中造成人員吸入傷害。
【IPC分類】E03F3-02, E03F5-10
【公開號(hào)】CN204326232
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201420757441
【發(fā)明人】楊志強(qiáng), 王芳鎮(zhèn), 肖冬明, 劉俊, 禹松濤, 羅世銘, 王志紅, 陳正乾, 李慧, 李兵樂, 顧小峰, 劉莉, 董偉, 馬良杰, 安建設(shè), 馮建中, 楊永雪
【申請(qǐng)人】金川集團(tuán)股份有限公司
【公開日】2015年5月13日
【申請(qǐng)日】2014年12月7日