專利名稱：：基板吸附裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本實(shí)用新型涉及一種基板吸附裝置，特別是一種具有吸盤可上下相對運(yùn)動的基板吸附裝置。
背景技術(shù)：
：基板在不同階段工作區(qū)時，傳送平臺提供基板傳遞功能到工作區(qū)，而平臺上的吸盤在傳送時提供吸附作用，使基板可在傳送平臺上平穩(wěn)行進(jìn)。此外，在基板行進(jìn)的過程中，還可進(jìn)行其它工藝，如光學(xué)檢測等。圖la與圖lb所示為一種現(xiàn)有基板吸附裝置的俯視示意圖與剖面示意圖。如圖所示，基板吸附裝置10由一個以上的硬質(zhì)吸盤件200所組成，并且設(shè)置于固定裝置300上，其中硬質(zhì)吸盤件200的主體250具有鏤空部255，并且硬質(zhì)吸盤件200具有多個硬質(zhì)吸孔270設(shè)置于主體250上，而這些硬質(zhì)吸孔270對稱設(shè)置于鏤空部255旁。此外，該基板吸附裝置IO還包括一抽力裝置(圖中未示)，其對硬質(zhì)吸盤件200提供一抽真空的吸力，使基板在固定裝置300上的硬質(zhì)吸盤件200進(jìn)行傳送時，通過抽真空的抽力能夠吸附住基板。然而，當(dāng)基板經(jīng)過固化(curing)等工藝后，造成基板翹曲、基板表面不平整的情況下，就難以保證基板在每個硬質(zhì)吸盤件200上的有效吸附，倘若在一排硬質(zhì)吸盤件200中，發(fā)生一個以上的硬質(zhì)吸盤件200抽真空失效，則導(dǎo)致整個系統(tǒng)的抽真空效果將會減損。因此，如何使每個硬質(zhì)吸盤件200能有效達(dá)成抽真空吸附的質(zhì)量，成為發(fā)展的目標(biāo)。圖2a和圖2b所示為現(xiàn)有的另一種基板吸附裝置的俯視示意圖和剖面示意圖。如圖所示，該基板吸附裝置IO與圖la和圖lb的類似，在此不加以贅述。其差異為，圖la與lb在硬質(zhì)吸盤件200的主體250的鏤空部255內(nèi)容納軟質(zhì)吸盤件400，其具有至少一個軟質(zhì)吸嘴450和管狀主體455，并且與硬質(zhì)吸盤件200同時設(shè)置于固定裝置300上。當(dāng)吸真空時，如果基板置于硬質(zhì)吸盤件200上，發(fā)生難以拉下吸附狀況時，可通過軟質(zhì)吸嘴450的協(xié)助，增加咬附基板的吸附能力。然而，上述的現(xiàn)有基板吸附裝置10的硬質(zhì)吸盤件200與軟質(zhì)吸盤件400兩者之間并無公差，只存在約O.lmm至0.2mm的微小高度差。當(dāng)利用兩者的固定高度差配合吸真空時，利用硬質(zhì)吸盤件200與軟質(zhì)吸盤件400本體的下拉作用而吸附住基板。但此結(jié)構(gòu)猶對調(diào)控翹曲基板，難以靈活精確控制。此外，軟質(zhì)吸嘴450的材料較軟，經(jīng)過多次的利用真空效果產(chǎn)生下拉力以咬貼住基板的操作，會造成材料磨損。
實(shí)用新型內(nèi)容為了解決上述問題，本實(shí)用新型目的之一是提供一種基板吸附裝置，其通過固定的吸盤件與可上下相對運(yùn)動的吸盤件的設(shè)置，提供可調(diào)整的吸附力并且減少軟質(zhì)吸盤的損耗。本實(shí)用新型目的之一是提供一種基板吸附裝置，其通過軟質(zhì)或可變角度吸盤件搭配硬質(zhì)吸盤件彼此形成的上下相對運(yùn)動，可以調(diào)整并且提供翹曲基板適當(dāng)?shù)奈搅?，保持傳送中基板的平穩(wěn)。此外，本實(shí)用新型還有利于在基板傳輸中，同時進(jìn)行其它工藝。為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型一個實(shí)施例的基板吸附裝置由一個以上的吸盤組合所構(gòu)成，其中該吸盤組合包括軟質(zhì)吸盤件，其具有至少一個軟質(zhì)吸嘴；以及硬質(zhì)吸盤件，其中硬質(zhì)吸盤件的主體具有鏤空部，以容納軟質(zhì)吸盤件在鏤空部內(nèi)進(jìn)行上下相對運(yùn)動。本實(shí)用新型另一實(shí)施例的基板吸附裝置由一個以上的吸盤組合所構(gòu)成，其中該吸盤組合包括可變角度吸盤件，其具有至少一個可變角度吸嘴；以及硬質(zhì)吸盤件，其中硬質(zhì)吸盤件的主體具有鏤空部，以容納可變角度吸盤件在鏤空部內(nèi)進(jìn)行上下相對運(yùn)動。圖la與圖lb所示為現(xiàn)有的一種基板吸附裝置的俯視示意圖與剖面示意圖。圖2a和圖2b所示為現(xiàn)有的另一種基板吸附裝置的俯視示意圖與剖面示意圖。圖3a和圖3b所示為本實(shí)用新型一個實(shí)施例的基板吸附裝置的俯視示意圖與剖面示意圖。主要組件符號說明<table>tableseeoriginaldocumentpage7</column></row><table>具體實(shí)施方式圖3a和圖3b所示為本實(shí)用新型的一種基板吸附裝置的俯視示意圖與剖面示意圖。如圖所示，基板吸附裝置10由一個以上的吸盤組合所組成，其中該吸盤組合包括軟質(zhì)吸盤件400;以及硬質(zhì)吸盤件200。軟質(zhì)吸盤件400具有至少一個軟質(zhì)吸嘴450。硬質(zhì)吸盤件200的主體250具有鏤空部255，以容納軟質(zhì)吸盤件400在該鏤空部255內(nèi)進(jìn)行上下相對運(yùn)動，使得硬質(zhì)吸盤200與軟質(zhì)吸盤件400形成上下相對運(yùn)動。此相對運(yùn)動可以提供可調(diào)整的吸附力，對翹曲基板提供適當(dāng)?shù)奈搅?。此相對運(yùn)動，可以是軟質(zhì)吸盤件400上升將基板吸附后，下拉至硬質(zhì)吸盤件200的表面，還可以是軟質(zhì)吸盤件400將基板吸附后，再由硬質(zhì)吸盤件200上升使基板與硬質(zhì)吸盤件200接觸。上述相對運(yùn)動皆為在軟質(zhì)吸盤件400的軟質(zhì)吸嘴450微幅調(diào)控較優(yōu)狀態(tài)以吸附基板之后才運(yùn)動。因此，本實(shí)用新型可有效減少傳統(tǒng)軟質(zhì)吸嘴450的軟性材料的磨損。承上所述，硬質(zhì)吸盤件200可設(shè)置在固定裝置300上。在本實(shí)施例中，軟質(zhì)吸嘴450設(shè)置在管狀主體455上，并且軟質(zhì)吸盤件400設(shè)置在升降裝置600上，如圖3b所示。在實(shí)施例中，如圖未示，軟質(zhì)吸盤件可設(shè)置在固定裝置上，而硬質(zhì)吸盤件則設(shè)置在升降裝置上。承上所述，此基板吸附裝置還包括動力裝置(圖中未示)，以提供升降裝置600上下升降的動力。在實(shí)施例中，還包括設(shè)置抽力裝置(圖中未示)，其提供抽力以供硬質(zhì)吸盤件200與軟質(zhì)吸盤件400吸附物件。可以理解的是，可使用同一抽力裝置或是分別設(shè)置不同的抽力裝置。根據(jù)上述說明，在實(shí)施例中，圖上未示，軟質(zhì)吸盤件也可以為可調(diào)整角度吸盤件?？烧{(diào)整角度吸盤件與硬質(zhì)吸盤件形成上下相對運(yùn)動，8此相對運(yùn)動可以提供可調(diào)整的吸附力，對翹曲基板提供適當(dāng)?shù)奈搅ΑＴ诒緦?shí)施例中，基板吸附裝置的配置與前述實(shí)施例相似，在此不再贅述。本實(shí)用新型的基板吸附裝置對于所吸附的基板可進(jìn)行精準(zhǔn)的調(diào)控能力，能使基板平穩(wěn)的傳送，并且本實(shí)用新型的基板吸附裝置所吸附的基板可以是玻璃基板、晶圓或其它具有平整表面的物體。綜合上述，本實(shí)用新型通過固定吸盤件與可上下相對運(yùn)動的吸盤件的設(shè)置，提供可調(diào)整的吸附力，并且減少軟質(zhì)吸盤的損耗。軟質(zhì)或可變角度吸盤件搭配硬質(zhì)吸盤件彼此形成上下相對運(yùn)動，可以調(diào)整并提供翹曲基板適當(dāng)?shù)奈搅Γ３謧魉椭械幕宓钠椒€(wěn)。此外，本實(shí)用新型還有利于在基板傳輸中，同時進(jìn)行其它工藝。以上所述的實(shí)施例僅為說明本實(shí)用新型的技術(shù)思想及特點(diǎn)，其目的在于使本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠了解本實(shí)用新型的內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施，并不能以此限定本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。凡是根據(jù)本實(shí)用新型所公開的精神所作的等效變化或修飾，仍應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的權(quán)利要求中。權(quán)利要求1.一種基板吸附裝置，其由一個以上的吸盤組合所組成，其特征在于，該吸盤組合包括一軟質(zhì)吸盤件，其具有至少一個軟質(zhì)吸嘴；以及一硬質(zhì)吸盤件，其中該硬質(zhì)吸盤件的一主體具有一鏤空部，以容納所述軟質(zhì)吸盤件在該鏤空部內(nèi)進(jìn)行上下相對運(yùn)動。2.如權(quán)利要求l所述的基板吸附裝置，其特征在于，所述軟質(zhì)吸嘴設(shè)置在一管狀主體上。3.如權(quán)利要求l所述的基板吸附裝置，其特征在于，所述硬質(zhì)吸盤件設(shè)置在一固定裝置上。4.如權(quán)利要求3所述的基板吸附裝置，其特征在于，所述軟質(zhì)吸盤件設(shè)置在一升降裝置上。5.如權(quán)利要求4所述的基板吸附裝置，其特征在于，還包括一動力裝置，其提供所述升降裝置上下升降的動力。6.如權(quán)利要求l所述的基板吸附裝置，其特征在于，所述軟質(zhì)吸盤件設(shè)置在一固定裝置上。7.如權(quán)利要求6所述的基板吸附裝置，其特征在于，所述硬質(zhì)吸盤件設(shè)置在一升降裝置上。8.如權(quán)利要求7所述的基板吸附裝置，其特征在于，還包括一動力裝置，其提供所述升降裝置上下升降的動力。9.如權(quán)利要求l所述的基板吸附裝置，其特征在于，還包括一抽力裝置，其提供一吸力給所述軟質(zhì)吸盤件。10.如權(quán)利要求1所述的基板吸附裝置，其特征在于，還包括一抽力裝置，其提供一吸力給所述硬質(zhì)吸盤件。11.一種基板吸附裝置，其由一個以上的吸盤組合所組成，其特征在于，該吸盤組合包括一可變角度吸盤件，其具有至少一個可變角度吸嘴；以及一硬質(zhì)吸盤件，其中該硬質(zhì)吸盤件的一主體具有一鏤空部，以容納所述可變角度吸盤件在該鏤空部內(nèi)進(jìn)行上下相對運(yùn)動。12.如權(quán)利要求ll所述的基板吸附裝置，其特征在于，所述可變角度吸嘴設(shè)置在一管狀主體上。13.如權(quán)利要求ll所述的基板吸附裝置，其特征在于，所述硬質(zhì)吸盤件設(shè)置在一固定裝置上。14.如權(quán)利要求13所述的基板吸附裝置，其特征在于，所述可變角度吸盤件設(shè)置在一升降裝置上。15.如權(quán)利要求14所述的基板吸附裝置，其特征在于，還包括一動力裝置，其提供所述升降裝置上下升降的動力。16.如權(quán)利要求ll所述的基板吸附裝置，其特征在于，所述可變角度吸盤件設(shè)置在一固定裝置上。17.如權(quán)利要求16所述的基板吸附裝置，其特征在于，所述硬質(zhì)吸盤件設(shè)置在一升降裝置上。18.如權(quán)利要求17所述的基板吸附裝置，其特征在于，還包括一動力裝置，其提供所述升降裝置上下升降的動力。19.如權(quán)利要求ll所述的基板吸附裝置，其特征在于，還包括一抽力裝置，其提供一吸力給所述可變角度吸盤件。20.如權(quán)利要求ll所述的基板吸附裝置，其特征在于，還包括一抽力裝置，其提供一吸力予所述硬質(zhì)吸盤件。專利摘要一種基板吸附裝置，其由一個以上吸盤組合所組成，其中吸盤組合包括軟質(zhì)或可變角度吸盤件，其具有至少一個軟質(zhì)或可變角度的吸嘴；以及硬質(zhì)吸盤件，其中該硬質(zhì)吸盤件的主體具有鏤空部以容納軟質(zhì)或可變角度吸盤件于鏤空部內(nèi)以進(jìn)行上下相對運(yùn)動。文檔編號B25J15/06GK201350632SQ20082018421公開日2009年11月25日申請日期2008年12月23日優(yōu)先權(quán)日2008年12月23日發(fā)明者葉東益,顏嘉興申請人:晶彩科技股份有限公司