專利名稱：：真空臺遮罩、真空固定裝置及工件真空固定到其上的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明大體上涉及真空固定裝置(vacuumhold-downapparatus)，更具體而言，涉及采用真空固定裝置的檢驗系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
：據(jù)信，以下美國專利代表了所屬領(lǐng)域的現(xiàn)狀5,671910及5，709，023,6,422，548及7，469，886。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的是提供一種真空固定裝置。根據(jù)本發(fā)明一方面提供一種用于各種形狀及/或尺寸的工件的真空固定系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括真空固定臺以及有孔的真空臺遮罩。真空固定臺界定遮罩支撐平面。有孔的真空臺遮罩可選擇性地定位在遮罩支撐平面上，真空固定臺及真空臺遮罩被構(gòu)造成通過在遮罩支撐平面中對真空臺遮罩與真空固定臺進行適當(dāng)?shù)南鄬Χㄎ粊斫缍ǘ鄠€可選擇的不同的相鄰真空孔陣列。根據(jù)本發(fā)明的較佳實施例，真空固定臺在其支撐表面上排列有真空孔口(vacuumorifice)陣列；并且真空臺遮罩在其上面形成有至少兩個孔陣列，所述至少兩個孔陣列相互偏置，所述至少兩個孔陣列中的每一者均可與真空孔口陣列的至少某些真空孔口對齊，所述至少兩個孔陣列中的每一者的每一個孔均被構(gòu)造成位于所述工件中的至少一者的下根據(jù)本發(fā)明的較佳實施例，真空臺遮罩在其支撐表面上排列有孔陣列，該遮罩被構(gòu)造成位于所述工件中的至少一者的下面；并且真空固定臺在其上面形成有至少兩個真空孔口陣列，所述至少兩個真空孔口陣列相互偏置，該遮罩的孔中的至少某些可與所述至少兩個孔口陣列中的每一者的孔口對齊。根據(jù)本發(fā)明另一方面提供一種用于各種形狀及/或尺寸的工件的真空固定系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括真空固定臺以及真空臺遮罩。真空固定臺在其支撐表面上排列有真空孔口陣列。真空臺遮罩在其上面形成有至少兩個孔陣列，所述至少兩個孔陣列相互偏置，所述至少兩個孔陣列中的每一者均可與真空孔口陣列的至少某些真空孔口對齊，所述至少兩個孔陣列中的每一者的每一個孔均被構(gòu)造成位于所述工件中的至少一者的下面。根據(jù)本發(fā)明的又一方面提供一種用于各種形狀及/或尺寸的工件的真空固定系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括真空臺遮罩以及真空固定臺。真空臺遮罩在其支撐表面上排列有孔陣列，5該遮罩被構(gòu)造成位于所述工件中的至少一者的下面。真空固定臺在其上面形成有至少兩個真空孔口陣列，所述至少兩個真空孔口陣列相互偏置，該遮罩的孔中的至少某些可與所述至少兩個孔口陣列中的每一者的孔口對齊。較佳地，每一個孔的橫截面尺寸至少略大于每一真空孔口的橫截面尺寸。較佳地，真空臺遮罩位于真空固定臺的上方。作為另外一種選擇，真空臺遮罩位于真空固定臺的增壓室(plenum)內(nèi)。根據(jù)本發(fā)明的較佳實施例，所述至少兩個陣列的區(qū)域至少部分地重疊。根據(jù)本發(fā)明的較佳實施例，真空固定臺在其上面排列有支撐表面陣列，并且真空臺遮罩在其上面形成有孔陣列。根據(jù)本發(fā)明的較佳實施例，真空臺遮罩具有孔陣列，該遮罩被構(gòu)造成位于所述工件中的至少一者的下面，并且真空固定臺在其上面形成有至少兩個支撐表面陣列，所述至少兩個陣列中的不同陣列的支撐表面具有不同的橫截面構(gòu)形，所述至少兩個陣列中的每一陣列的支撐表面具有相同的橫截面構(gòu)形，該遮罩的孔被構(gòu)造成不覆在所述至少兩個支撐表面陣列中的至少一者的支撐表面上。較佳地，真空臺遮罩位于支撐表面的上方。較佳地，真空臺遮罩可相對于真空固定臺定位在至少兩個可選擇的位置處。另外或作為另外一種選擇，真空臺遮罩包括四個孔陣列。根據(jù)本發(fā)明的較佳實施例，真空臺遮罩可相對于真空固定臺定位在四個可選擇的位置處。另外，所述四個可選擇的位置是由真空固定臺的隅角界定。根據(jù)本發(fā)明的再一方面提供一種用于真空固定臺以及各種形狀及/或尺寸的工件的真空臺遮罩。真空固定臺在其支撐表面上排列有真空孔口陣列。該遮罩包括基板，在該基板上形成有至少兩個孔陣列，所述至少兩個孔陣列相互偏置，所述至少兩個孔陣列中的每一者均可與真空孔口陣列的至少某些真空孔口對齊。根據(jù)本發(fā)明的較佳實施例，所述至少兩個孔陣列的每一個孔的橫截面尺寸至少略大于真空孔口陣列的每一真空孔口的橫截面尺寸。另外或作為另外一種選擇，真空臺遮罩包括四個孔陣列。另外或作為另外一種選擇，所述至少兩個陣列的區(qū)域至少部分地重疊。根據(jù)本發(fā)明的還有一方面提供一種用于將各種形狀及/或尺寸的工件真空固定到真空固定臺上的方法，其中真空固定臺在其支撐表面上排列有真空孔口陣列。該方法包括以下步驟將真空臺遮罩放置到真空固定臺的支撐表面上，真空臺遮罩在其上面形成有至少兩個孔陣列，所述至少兩個孔陣列相互偏置，所述至少兩個孔陣列中的每一者均可與真空孔口陣列的至少某些真空孔口對齊，所述至少兩個孔陣列中的每一者均被構(gòu)造成位于所述工件中的一者的下面；將遮罩定位在支撐表面上，使得所述至少兩個孔陣列中的一者與真空孔口陣列的至少某些真空孔口對齊；以及將所述各種形狀及/或尺寸的工件中的為第一尺寸/形狀的工件放置到真空固定臺上，覆在遮罩的至少一部分上并且覆在所述至少兩個孔陣列中的與真空孔口陣列的至少某些真空孔口對齊的一者上。較佳地，該方法還包括以下步驟從真空固定臺移除第一尺寸/形狀的工件；將遮罩重新定位在支撐表面上，使得所述至少兩個孔陣列中的另一者與真空孔口陣列的至少某些真空孔口對齊；以及將所述工件中的一個第二尺寸/形狀的工件放置到真空固定臺上，覆在遮罩的至少一部分上并且覆在所述至少兩個孔陣列中的與真空孔口陣列的至少某些真空孔口對齊的所述另一者上面。另外，所述至少兩個陣列的區(qū)域至少部分地重疊。結(jié)合附圖閱讀以下詳細說明，將會更清楚地理解和領(lǐng)會本發(fā)明，在附圖中圖1為采用根據(jù)本發(fā)明的各種實施例進行構(gòu)造和操作的真空固定裝置的檢驗系統(tǒng)的簡化示意圖；圖2為典型真空臺遮罩的簡化平面圖，該典型真空臺遮罩適用于本發(fā)明的真空固定裝置且其上面形成有多個孔陣列，這些孔陣列相互偏置；圖3A及圖3B分別為以第一相互對齊排列方式保持在根據(jù)本發(fā)明實施例的真空固定裝置上的為第一尺寸的第一平面工件的平面圖及剖面圖，圖3B為沿圖3A中的線A-A截取的剖視圖；圖4A及圖4B分別為以第二相互對齊排列方式保持在根據(jù)本發(fā)明實施例的真空固定裝置上的為第二尺寸的第二平面工件的平面圖及剖面圖，圖4B為沿圖4A中的線A-A截取的剖視圖；圖5A及圖5B分別為以第三相互對齊排列方式保持在根據(jù)本發(fā)明實施例的真空固定裝置上的為第三尺寸的第三平面工件的平面圖及剖面圖，圖5B為沿圖5A中的線A-A截取的剖視圖；圖6A及圖6B分別為以第四相互對齊排列方式保持在根據(jù)本發(fā)明實施例的真空固定裝置上的為第四尺寸的第四平面工件的平面圖及剖面圖，圖6B為沿圖6A中的線A-A截取的剖視圖；圖7為檢驗系統(tǒng)的簡化示意圖，該檢驗系統(tǒng)采用根據(jù)本發(fā)明的實施例進行構(gòu)造和操作的真空固定裝置；圖8為圖7的真空固定裝置在無真空臺遮罩時的簡化俯視圖；圖9為圖7的真空固定裝置的真空臺遮罩的簡化俯視圖；圖IOA及圖IOB分別為以第一相互對齊排列方式保持在圖7至圖9的真空固定裝置上的為第一尺寸的第一平面工件的平面圖及剖面圖，圖IOB為沿圖IOA中的線B-B截取的剖視圖；圖IlA及圖IlB分別為以第二相互對齊排列方式保持在圖7至圖9的真空固定裝置上的為第二尺寸的第二平面工件的平面圖及剖面圖，圖IlB為沿圖IlA中的線B-B截取的剖視圖；圖12A及圖12B分別為以第三相互對齊排列方式保持在圖7至圖9的真空固定裝置上的為第三尺寸的第三平面工件的平面圖及剖面圖，圖12B為沿圖12A中的線B-B截取的剖視圖；以及圖13A及圖13B分別為以第四相互對齊排列方式保持在圖7至圖9的真空固定裝置上的為第四尺寸的第四平面工件的平面圖及剖面圖，圖13B為沿圖13A中的線B-B截取的剖視圖。具體實施例方式現(xiàn)在請參照圖1，其為采用根據(jù)本發(fā)明的較佳實施例進行構(gòu)造和操作的真空固定裝置的檢驗系統(tǒng)的簡化示意圖。如圖1所示，提供一種檢驗系統(tǒng)100(例如光學(xué)檢驗系統(tǒng))，例如可從位于以色列Yavne的Orbotech有限公司商購獲得的OrbotechDiscovery8000AOI系統(tǒng)。檢驗系統(tǒng)100包括真空固定臺102，真空固定臺102在其支撐表面106上排列有真空孔口陣列104并用于在對工件(例如平面工件108)進行光學(xué)檢驗期間保持工件。術(shù)語“真空孔口”在全文中以比傳統(tǒng)用法略微更廣的意義使用。當(dāng)提及如在OrbotechDiscovery8000AOI系統(tǒng)中所用的真空固定臺時，平臺表面中所形成的孔洞即為真空孔口。當(dāng)提及美國專利7，259，777的圖15及圖16中所示類型的真空固定臺(此處被稱為“無頂式真空固定臺(toplessvacuumhold-downtable)”)時，該臺的所有非凸起部分均被視為真空孔口。根據(jù)本發(fā)明的較佳實施例，除真空固定臺102之外，真空固定裝置還包括真空臺遮罩110，其中真空臺遮罩110在其上面形成有至少兩個孔陣列，所述至少兩個陣列的孔相互偏置，并且所述至少兩個孔陣列中的每一者均可與至少某些真空孔口104對齊。較佳地，孔的橫截面尺寸至少略大于真空孔口104的橫截面尺寸。視需要，遮罩的孔的橫截面構(gòu)形在遮罩的相對的平面表面上可有所不同。例如，孔的面積可在遮罩的面向工件的表面上相對較大、而在遮罩的面向真空固定臺的表面上相對較小。本發(fā)明的操作的具體特點為當(dāng)試圖檢驗第一尺寸的工件時，將遮罩110相對于真空固定臺102放置在第一位置處，使得第一陣列的孔與真空固定臺102的真空孔口104中的某些對齊，第一陣列的所有孔均位于第一尺寸的工件的下面，并且剩余的真空孔口104均被遮罩110堵住，從而阻止空氣自由流過所有真空孔口104;以及當(dāng)試圖檢驗第二尺寸的工件時，將遮罩110相對于真空固定臺102放置在不同于第一位置的第二位置處，使得第二陣列的孔與真空固定臺102的真空孔口104中的某些對齊，第二陣列的所有孔均位于第二尺寸的工件的下面，并且剩余的真空孔口104被遮罩110堵住，從而阻止空氣自由流過所有真空孔口104。圖1的放大圖A顯示其中遮罩110包括四個孔陣列并且遮罩可相對于真空固定臺102定位在四個可選擇的位置處的實施例。這些陣列被標(biāo)識為I、II、III及IV，并且屬于每一陣列的孔也這樣進行標(biāo)識。這四個可選擇的位置是由真空固定臺102的外圍壁112的四個隅角界定，這些隅角被標(biāo)識為遮罩放置標(biāo)記P-I、P-II>P-III及P-IV。通過將遮罩110的給定隅角定位成與被標(biāo)識為遮罩放置標(biāo)記P-I、P-II、P-III或P-IV的給定隅角相配合，使對應(yīng)陣列I、II、III或IV的孔放置成與真空固定臺102的某些適當(dāng)?shù)目卓?04對齊，如實心黑點所示。圖1的放大圖B顯示其中遮罩110包括五個孔陣列并且遮罩可相對于真空固定臺102定位在五個可選擇的位置處的實施例。這些陣列被標(biāo)識為I、II、III、IV及V，并且屬于每一陣列的孔也這樣進行標(biāo)識。這五個可選擇的位置是由真空固定臺102的外圍壁112的被標(biāo)識為遮罩放置標(biāo)記P-I、P-II、P-III及P-IV的四個隅角以及由遮罩放置標(biāo)記P-V界定。通過將遮罩110的給定部分定位在由遮罩放置標(biāo)記P-I、P-II、P-III、P-IV及P-V中的任一者所指示的給定位置處，使對應(yīng)陣列I、II、III、IV或V的孔放置成與真空固定臺102的某些適當(dāng)?shù)目卓?04對齊，如實心黑點所示。另外，現(xiàn)在參照圖2，其為典型真空臺遮罩110的簡化平面圖，該典型真空臺遮罩110適用于本發(fā)明的真空固定裝置且其上面形成有多個孔陣列，這些孔陣列相互偏置。圖2包括四個孔陣列，這些孔陣列相互偏置。應(yīng)理解，真空臺遮罩的替代構(gòu)形可包括以任何適當(dāng)排列方式排列的更多或更少數(shù)量的孔。第一孔陣列適用于最小的工件并包括四個孔，每一個孔均被標(biāo)識為I。第二孔陣列適用于次最小的工件并包括九個孔，每一個孔均被標(biāo)識為II。第三孔陣列適用于最小的工件并包括十六個孔，每一個孔均被標(biāo)識為III。第四孔陣列適用于最小的工件并包括二十五個孔，每一個孔均被標(biāo)識為IV。應(yīng)注意，每一陣列的孔均相互間隔開某一間距，該間距與真空孔口104的相互間距相同。還應(yīng)注意，在遮罩110從遮罩放置標(biāo)記P-I移位至遮罩放置標(biāo)記P-II的方向上，孔II與對應(yīng)的孔I偏置某一距離，該距離等于遮罩110從遮罩放置標(biāo)記P-I移位至遮罩放置標(biāo)記P-II的距離。還應(yīng)注意，孔III在第一方向上與對應(yīng)的孔I偏置第一距離且在垂直于第一方向的第二方向上與對應(yīng)的孔I偏置第二距離，其中第一距離等于遮罩110從遮罩放置標(biāo)記P-I移位至遮罩放置標(biāo)記P-III的距離，第二距離等于遮罩110從遮罩放置標(biāo)記P-I移位至遮罩放置標(biāo)記P-III的距離。另外，應(yīng)注意，在遮罩110從遮罩放置標(biāo)記P-III移位至遮罩放置標(biāo)記P-IV的方向上，孔IV與對應(yīng)的孔III偏置某一距離，該距離等于遮罩110從遮罩放置標(biāo)記P-III移位至遮罩放置標(biāo)記P-IV的距離。如上所述，孔I、II、III及IV的相對偏置量及間距對應(yīng)于遮罩110的相對于真空固定臺102的操作位置，以對對應(yīng)于這四個孔陣列的四種不同尺寸的工件進行高效率的真空固定和檢驗。現(xiàn)在請參照圖3A及圖3B，其分別為以第一相互對齊排列方式保持在本發(fā)明真空固定裝置上的為第一尺寸的第一平面工件120的平面圖及剖面圖。圖3B的剖面圖是沿圖3A中的線A-A截取的。如圖3A及圖3B所示，遮罩110在真空固定臺102上定位于由遮罩放置標(biāo)記P-I所界定的第一位置處，使得第一孔陣列的孔I覆在對應(yīng)真空孔口122、124、126及128上。由標(biāo)號130、132、134、136、138、140、142、144、146、148、150、152、154、156、158、160、162、164、166、168及170所標(biāo)識的剩余真空孔口則被遮罩110堵住?，F(xiàn)在請參照圖4A及圖4B，其分別為以第二相互對齊排列方式保持在本發(fā)明真空固定裝置上的為第二尺寸的第二平面工件220的平面圖及剖面圖。圖4B的剖面圖是沿圖4A中的線A-A截取的。如圖4A及圖4B所示，遮罩110在真空固定臺102上定位于由遮罩放置標(biāo)記P-II所界定的第二位置處，使得第二孔陣列的孔II覆在對應(yīng)真空孔口122、124、126、128、130、132、134、136及138上。由標(biāo)號140、142、144、146、148、150、152、154、156、158、160、162、164、166、168及170所標(biāo)識的剩余真空孔口則被遮罩110堵住。現(xiàn)在參照圖5A及圖5B，其分別為以第三相互對齊排列方式保持在本發(fā)明真空固定裝置上的為第三尺寸的第三平面工件320的平面圖及剖面圖。圖5B的剖面圖是沿圖5A中的線A-A截取的。如圖5A及圖5B所示，遮罩110在真空固定臺102上定位于由遮罩放置標(biāo)記P-III所界定的第三位置處，使得第三孔陣列的孔III覆在對應(yīng)真空孔口122、124、126、128、130、132、134、136、138、140、142、144、146、148、150及152上。由標(biāo)號154、156、158、160、162、164、166、168及170所標(biāo)識的剩余真空孔口則被遮罩110堵住?，F(xiàn)在參照圖6A及圖6B，其分別為以第四相互對齊排列方式保持在本發(fā)明真空固定裝置上的為第四尺寸的第四平面工件420的平面圖及剖面圖。圖6B的剖面圖是沿圖6A中的線A-A截取的。如圖6A及圖6B所示，遮罩110在真空固定臺102上定位于由遮罩放置標(biāo)記P-IV所界定的第四位置處，使得第四孔陣列的孔IV覆在對應(yīng)真空孔口122、124、126、128、130、132、134、136、138、140、142、144、146、148、150、152、154、156、158、160、162、164、166,168及170上。應(yīng)理解，遮罩可以各種方式與真空固定臺相關(guān)聯(lián)。圖1至圖6顯示遮罩位于真空固定臺上方。作為另外一種選擇，遮罩也可位于真空固定臺的增壓室內(nèi)。在圖1至圖6B中，顯示了規(guī)則的真空孔口圖案，并且在遮罩上提供各種孔陣列。作為另外一種選擇，也可在遮罩上提供規(guī)則的孔圖案，并可在真空固定臺中提供各種真空孔口陣列。在上述說明中，通過在平面中對遮罩進行選擇性的位移而將遮罩定位在第一位置、第二位置、第三位置及第四位置。作為另外一種選擇，遮罩可在各種方向上進行翻轉(zhuǎn)及/或旋轉(zhuǎn)，從而在各個位置之間進行移位?，F(xiàn)在參照圖7至圖13B，其為檢驗系統(tǒng)的簡化示意圖，該檢驗系統(tǒng)采用根據(jù)本發(fā)明的實施例進行構(gòu)造和操作的真空固定裝置。如圖7所示，提供一種檢驗系統(tǒng)500(例如光學(xué)檢驗系統(tǒng))，例如可從位于以色列Yavne的Orbotech有限公司商購獲得的OrbotechDiscovery8000AOI系統(tǒng)。檢驗系統(tǒng)500包括無頂式真空固定臺502，無頂式真空固定臺502在其表面506上排列有支撐結(jié)構(gòu)陣列504并用于支撐可選擇性定位的遮罩510。在對工件(例如平面工件512)進行光學(xué)檢驗期間，工件保持在遮罩510上。根據(jù)本發(fā)明的較佳實施例，可選擇性定位的遮罩510在其上面形成有多個孔514。視需要，遮罩510的孔514的橫截面構(gòu)形在遮罩510的相對的平面表面上可有所不同。例如，孔的面積可在遮罩的面向工件的表面上相對較大、而在遮罩的面向真空固定臺的表面上相對較小。本發(fā)明的該實施例的具體特點為，支撐結(jié)構(gòu)504被構(gòu)造和定位成使得根據(jù)可選擇性定位的遮罩510相對于支撐結(jié)構(gòu)504的位置而使所選的孔514打開并使其他孔514關(guān)閉。本發(fā)明的該實施例的另一具體特點為，對于可選擇性定位的遮罩510的多個可選擇的位置中的每一者，所選的打開的孔514均相互毗鄰。在本發(fā)明的較佳實施例中，如圖8所清楚地顯示，支撐結(jié)構(gòu)504分別界定與遮罩510的孔514進行潛在的密封配合的橫截面積。在第一多個支撐結(jié)構(gòu)504(在此處分別由標(biāo)號520標(biāo)識)中，橫截面積為第一面積；在第二多個支撐結(jié)構(gòu)504(在此處分別由標(biāo)號522標(biāo)識)中，橫截面積為第二面積，第二面積大于第一面積；在第三多個支撐結(jié)構(gòu)504(在此處分別由標(biāo)號524標(biāo)識)中，橫截面積為第三面積，第三面積大于第二面積；并且在第四多個支撐結(jié)構(gòu)504(在此處分別由標(biāo)號526標(biāo)識)中，橫截面積為第四面積，第四面積大于第三面積。在本發(fā)明的較佳實施例中，如圖9所清楚地顯示，遮罩510包括不同的孔陣列514，以允許不同尺寸的工件與遮罩510以及與真空固定臺502進行潛在的密封配合。在所示的實施例中，顯示了四個不同的孔陣列514，包括第一孔陣列514(在此處這些孔分別由標(biāo)號530標(biāo)識)，對應(yīng)于第一工件尺寸；第二孔陣列514(在此處這些孔分別由標(biāo)號532標(biāo)識)，其中第一孔陣列530及第二孔陣列532的組合對應(yīng)于第二工件尺寸，第二工件尺寸大于第一工件尺寸；第三孔陣列514(在此處這些孔分別由標(biāo)號534標(biāo)識)，其中第一孔530、第二孔532及第三孔534的組合對應(yīng)于第三工件尺寸，第三工件尺寸大于第二工件尺寸；以及第四孔陣列514(在此處這些孔分別由標(biāo)號536標(biāo)識)，其中第一孔530、第二孔532、第三孔534及第四孔536的組合對應(yīng)于第四工件尺寸，第四工件尺寸大于第三工件尺寸。根據(jù)本發(fā)明該實施例的操作的具體特點為如圖IOA及圖IOB所示，當(dāng)試圖檢驗第一尺寸的工件540時，將遮罩510相對于無頂式真空固定臺502放置在第一位置處，使得第一孔陣列的孔530不被支撐結(jié)構(gòu)520堵住，第一孔陣列的所有孔530均位于第一尺寸的工件MO的下面，并且遮罩510的剩余孔514均被支撐結(jié)構(gòu)504堵住，從而阻止空氣自由流過剩余孔514；如圖IlA及圖IlB所示，當(dāng)試圖檢驗第二尺寸的工件542時，將遮罩510相對于無頂式真空固定臺502放置在不同于第一位置的第二位置處，使得第二孔陣列的孔532不被支撐結(jié)構(gòu)522堵住并且第一孔陣列的孔530不被支撐結(jié)構(gòu)520堵住，且第一孔陣列的所有孔530及第二孔陣列的所有孔532均位于第二尺寸的工件討2的下面，并且遮罩510的剩余孔514均被支撐結(jié)構(gòu)504堵住，從而阻止空氣自由流過剩余孔514；如圖12A及圖12B所示，當(dāng)試圖檢驗第三尺寸的工件544時，將遮罩510相對于無頂式真空固定臺502放置在不同于第一位置及第二位置的第三位置處，使得第三孔陣列的孔534不被支撐結(jié)構(gòu)5M堵住、第一孔陣列的孔530不被支撐結(jié)構(gòu)520堵住并且第二孔陣列的孔532不被支撐結(jié)構(gòu)522堵住，且第一孔陣列的所有孔530、第二孔陣列的所有孔532及第三孔陣列的所有孔534均位于第三尺寸的工件544的下面，并且遮罩510的剩余孔514均被支撐結(jié)構(gòu)504堵住，從而阻止空氣自由流過剩余孔514；以及如圖13A及圖1所示，當(dāng)試圖檢驗第四尺寸的工件546時，將遮罩510相對于無頂式真空固定臺502放置在不同于第一位置、第二位置及第三位置的第四位置處，使得第四孔陣列的孔536不被支撐結(jié)構(gòu)5堵住、第一孔陣列的孔530不被支撐結(jié)構(gòu)520堵住、第二孔陣列的孔532不被支撐結(jié)構(gòu)522堵住并且第三孔陣列的孔534不被支撐結(jié)構(gòu)5M堵住，并且第一孔陣列的所有孔530、第二孔陣列的所有孔532、第三孔陣列的所有孔534及第四孔陣列的所有孔536均位于第四尺寸的工件M6的下面。圖7的放大圖A顯示一實施例，在該實施例中，遮罩510包括單一均勻相間的孔陣列514并且遮罩可相對于無頂式真空固定臺502定位在四個可選擇的位置處。在圖7所示的實施例中，無頂式真空固定臺502包括四個支撐結(jié)構(gòu)陣列504，這些陣列由標(biāo)號520、522、524及5標(biāo)識，如圖8所清楚地顯示。這四個可選擇的位置是由無頂式固定臺502的外圍壁550的四個隅角界定，這些隅角被標(biāo)識為遮罩放置標(biāo)記P-I、P-II、P-III及P_IV。通過將遮罩510的給定隅角定位成與被標(biāo)識為遮罩放置標(biāo)記P-I、P-II、P-III或P-IV的給定隅角相配合，使遮罩510的孔514中的所選的某些孔放置成不被無頂式真空固定臺502的支11撐結(jié)構(gòu)504堵住。圖IOA及圖IOB分別為以第一相互對齊排列方式保持在本發(fā)明真空固定裝置上的為第一尺寸的第一平面工件540的平面圖及剖面圖。在圖IOA及圖IOB中，遮罩510在無頂式真空固定臺502上定位于第一位置處，使得僅第一孔陣列514的孔530暴露于真空中，其中第一位置是由遮罩510與遮罩放置標(biāo)記P-I進行隅角配合所界定。剩余的孔514均被支撐結(jié)構(gòu)504堵住。圖IlA及圖IlB分別為以第二相互對齊排列方式保持在本發(fā)明真空固定裝置上的為第二尺寸的第二平面工件542的平面圖及剖面圖。在圖IlA及圖IlB中，遮罩510在無頂式真空固定臺502上定位于第二位置處，使得僅第一孔陣列514的孔530及第二孔陣列514的孔532暴露于真空中，其中第二位置是由遮罩510與遮罩放置標(biāo)記P-II進行隅角配合所界定。剩余的孔514均被支撐結(jié)構(gòu)504堵住。圖12A及圖12B分別為以第三相互對齊排列方式保持在本發(fā)明真空固定裝置上的為第三尺寸的第三平面工件544的平面圖及剖面圖。在圖12A及圖12B中，遮罩510在無頂式真空固定臺502上定位于第三位置處，使得僅第一孔陣列514的孔530、第二孔陣列514的孔532及第三孔陣列514的孔534暴露于真空中，其中第三位置是由遮罩510與遮罩放置標(biāo)記P-III進行隅角配合所界定。剩余的孔514均被支撐結(jié)構(gòu)504堵住。圖13A及圖13B分別為以第四相互對齊排列方式保持在本發(fā)明真空固定裝置上的為第四尺寸的第四平面工件546的平面圖及剖面圖。在圖13A及圖13B中，遮罩510在無頂式真空固定臺502上定位于第四位置處，使得第一孔陣列514的孔530、第二孔陣列514的孔532、第三孔陣列514的孔534及第四孔陣列514的孔536暴露于真空中，其中第四位置是由遮罩510與遮罩放置標(biāo)記P-IV進行隅角配合所界定。應(yīng)理解，可由適當(dāng)構(gòu)形及布置的支撐結(jié)構(gòu)504來容納任何適當(dāng)數(shù)量的不同尺寸的工件。還應(yīng)理解，支撐結(jié)構(gòu)504可以任何適當(dāng)?shù)姆绞郊皹?gòu)形加以構(gòu)造，以選擇性地堵住遮罩中的孔。支撐結(jié)構(gòu)504無需固定至無頂式真空固定臺502的其余部分上，并且可相對于其余部分進行可移除式安裝。所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)理解，本發(fā)明并不僅限于上文所具體顯示及說明的內(nèi)容。相反，本發(fā)明包括本文所述各種特征的組合及子組合以及所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員在閱讀上述說明之后所聯(lián)想到的但不屬于現(xiàn)有技術(shù)的各種改進及變化形式。權(quán)利要求1.一種用于各種形狀及/或尺寸的工件的真空固定系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)包括真空固定臺，界定遮罩支撐平面；以及有孔的真空臺遮罩，其可選擇性地定位在所述遮罩支撐平面上，所述真空固定臺及所述真空臺遮罩被構(gòu)造成通過在所述遮罩支撐平面中對所述真空臺遮罩與所述真空固定臺進行適當(dāng)?shù)南鄬Χㄎ粊斫缍ǘ鄠€可選擇的不同的相鄰真空孔陣列。2.如權(quán)利要求1所述的真空固定系統(tǒng)，其特征在于所述真空固定臺在其支撐表面上排列有真空孔口陣列；并且所述真空臺遮罩在其上面形成有至少兩個孔陣列，所述至少兩個孔陣列相互偏置，所述至少兩個孔陣列中的每一者均可與所述真空孔口陣列的至少某些真空孔口對齊，所述至少兩個孔陣列中的每一者的每一個孔均被構(gòu)造成位于所述工件中的至少一者的下面。3.如權(quán)利要求1所述的真空固定系統(tǒng)，其特征在于所述真空臺遮罩在其支撐表面上排列有孔陣列，所述遮罩被構(gòu)造成位于所述工件中的至少一者的下面；并且所述真空固定臺在其上面形成有至少兩個真空孔口陣列，所述至少兩個真空孔口陣列相互偏置，所述遮罩的所述孔中的至少某些可與所述至少兩個孔口陣列中的每一者的孔口對齊。4.如權(quán)利要求2或權(quán)利要求3所述的真空固定系統(tǒng)，其特征在于，每一個孔的橫截面尺寸至少略大于每一真空孔口的橫截面尺寸。5.如權(quán)利要求2或權(quán)利要求3所述的真空固定系統(tǒng)，其特征在于，所述真空臺遮罩可相對于所述真空固定臺定位在至少兩個可選擇的位置處。6.如權(quán)利要求2或權(quán)利要求3所述的真空固定系統(tǒng)，其特征在于，所述真空臺遮罩包括四個孔陣列。7.如權(quán)利要求6所述的真空固定系統(tǒng)，其特征在于，所述真空臺遮罩可相對于所述真空固定臺定位在四個可選擇的位置處。8.如權(quán)利要求7所述的真空固定系統(tǒng)，其特征在于，所述四個可選擇的位置是由所述真空固定臺的隅角界定。9.如權(quán)利要求2或權(quán)利要求3所述的真空固定系統(tǒng)，其特征在于，所述真空臺遮罩位于所述真空固定臺的上方。10.如權(quán)利要求2或權(quán)利要求3所述的真空固定系統(tǒng)，其特征在于，所述真空臺遮罩位于所述真空固定臺的增壓室內(nèi)。11.如權(quán)利要求2或權(quán)利要求3所述的真空固定系統(tǒng)，其特征在于，所述至少兩個陣列的區(qū)域至少部分地重疊。12.如權(quán)利要求1所述的真空固定系統(tǒng)，其特征在于所述真空固定臺在其上面排列有支撐表面陣列；并且所述真空臺遮罩在其上面形成有孔陣列。13.如權(quán)利要求1所述的真空固定系統(tǒng)，其特征在于所述真空臺遮罩具有孔陣列，所述遮罩被構(gòu)造成位于所述工件中的至少一者的下面；并且所述真空固定臺在其上面形成有至少兩個支撐表面陣列，所述至少兩個陣列中的不同陣列的支撐表面具有不同的橫截面構(gòu)形，所述至少兩個陣列中的每一陣列的支撐表面具有相同的橫截面構(gòu)形，所述遮罩的所述孔被構(gòu)造成不覆在所述至少兩個支撐表面陣列中的至少一者的支撐表面上。14.如權(quán)利要求1、12或13中的任一項所述的真空固定系統(tǒng)，其特征在于，所述真空臺遮罩可相對于所述真空固定臺定位在至少兩個可選擇的位置處。15.如權(quán)利要求1、12或13中的任一項所述的真空固定系統(tǒng)，其特征在于，所述真空臺遮罩包括四個孔陣列。16.如權(quán)利要求15所述的真空固定系統(tǒng)，其特征在于，所述真空臺遮罩可相對于所述真空固定臺定位在四個可選擇的位置處。17.如權(quán)利要求16所述的真空固定系統(tǒng)，其特征在于，所述四個可選擇的位置是由所述真空固定臺的隅角界定。18.如權(quán)利要求12或權(quán)利要求13所述的真空固定系統(tǒng)，其特征在于，所述真空臺遮罩位于所述支撐表面的上方。19.一種用于真空固定臺以及各種形狀及/或尺寸的工件的真空臺遮罩，所述真空固定臺在其支撐表面上排列有真空孔口陣列，所述遮罩包括基板，在所述基板上形成有至少兩個孔陣列，所述至少兩個孔陣列相互偏置，所述至少兩個孔陣列中的每一者均可與所述真空孔口陣列的至少某些真空孔口對齊。20.如權(quán)利要求19所述的真空臺遮罩，其特征在于，所述至少兩個孔陣列的每一個孔的橫截面尺寸至少略大于所述真空孔口陣列的每一真空孔口的橫截面尺寸。21.如權(quán)利要求19或權(quán)利要求20所述的真空臺遮罩，其特征在于，所述真空臺遮罩包括四個孔陣列。22.如權(quán)利要求19或權(quán)利要求20所述的真空臺遮罩，其特征在于，所述至少兩個陣列的區(qū)域至少部分地重疊。23.一種用于將各種形狀及/或尺寸的工件真空固定到真空固定臺上的方法，所述真空固定臺在其支撐表面上排列有真空孔口陣列，所述方法包括以下步驟將真空臺遮罩放置到所述真空固定臺的所述支撐表面上，所述真空臺遮罩在其上面形成有至少兩個孔陣列，所述至少兩個孔陣列相互偏置，所述至少兩個孔陣列中的每一者均可與所述真空孔口陣列的至少某些真空孔口對齊，所述至少兩個孔陣列中的每一者均被構(gòu)造成位于所述工件中的一者的下面；將所述遮罩定位在所述支撐表面上，使得所述至少兩個孔陣列中的一者與所述真空孔口陣列的至少某些真空孔口對齊；以及將所述各種形狀及/或尺寸的工件中的為第一尺寸/形狀的工件放置到所述真空固定臺上，覆在所述遮罩的至少一部分上并且覆在所述至少兩個孔陣列中的與所述真空孔口陣列的至少某些真空孔口對齊的所述一者上。24.如權(quán)利要求23所述的方法，其特征在于，還包括以下步驟從所述真空固定臺移除所述第一尺寸/形狀的工件；將所述遮罩重新定位在所述支撐表面上，使得所述至少兩個孔陣列中的另一者與所述真空孔口陣列的至少某些真空孔口對齊；以及將所述工件中的為第二尺寸/形狀的一個工件放置到所述真空固定臺上，覆在所述遮罩的至少一部分上并且覆在所述至少兩個孔陣列中的與所述真空孔口陣列的至少某些真空孔口對齊的所述另一者上面。25.如權(quán)利要求23或M所述的方法，其特征在于，所述至少兩個陣列的區(qū)域至少部分地重疊。全文摘要本發(fā)明揭露一種用于各種形狀及/或尺寸的工件的真空臺遮罩、真空固定裝置及工件真空固定到其上的方法，其中，真空固定臺界定遮罩支撐平面。有孔的真空臺遮罩可選擇性地定位在所述遮罩支撐平面上，所述真空固定臺及所述真空臺遮罩被構(gòu)造成通過在所述遮罩支撐平面中對所述真空臺遮罩與所述真空固定臺進行適當(dāng)?shù)南鄬Χㄎ粊斫缍ǘ鄠€可選擇的不同的相鄰真空孔陣列。文檔編號B25B11/00GK102152257SQ201110027549公開日2011年8月17日申請日期2011年1月17日優(yōu)先權(quán)日2010年1月17日發(fā)明者A·卡茲申請人:以色列商奧寶科技股份有限公司