本發(fā)明涉及一種劃線裝置。

背景技術(shù)：

在工業(yè)生產(chǎn)中，經(jīng)常需要切割工件上的廢料。而在切除廢料之前需要在工件上涂抹劃線，切割時則可以沿著所述劃線進行切割。所述劃線可以用作參照定位的標準。然而，一般劃線作業(yè)都是采用人工進行作業(yè)，造成其劃線作業(yè)效率不高，而且由于進料較為不便。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

基于此，有必要提供一種效率較高且進料方便的劃線裝置。

一種劃線裝置，包括底座、劃線板以及劃線機構(gòu)，所述底座上開設(shè)有容置腔，所述容置腔的內(nèi)側(cè)周緣設(shè)置有多個定位凸部，所述容置腔的側(cè)壁上還貫通開設(shè)有進料口，所述劃線板蓋設(shè)于所述底座上并封閉所述容置腔，所述劃線板上開設(shè)有劃線狹槽，所述劃線狹槽貫穿所述劃線板并與所述容置腔連通，所述劃線機構(gòu)設(shè)置于所述底座上且包括驅(qū)動件以及連接于所述驅(qū)動件上的劃線件，所述劃線件穿設(shè)于所述劃線狹槽中并凸伸于所述容置腔中；其中所述底座上設(shè)置有進料組件，所述進料組件包括導軌以及滑動設(shè)置于所述導軌上的移動塊，所述導軌的一端延伸至所述進料口處，所述導軌的兩側(cè)分別設(shè)置有護持條，所述移動塊位于所述兩個護持條之間，所述移動塊上開設(shè)有承載腔。

在其中一個實施方式中，所述移動塊的底部周緣形成有多個定位凹部，所述多個定位凸部用于分別收容于所述多個定位凹部中。

在其中一個實施方式中，所述承載腔的底面開設(shè)有磁吸腔。

在其中一個實施方式中，所述磁吸腔為矩形腔體。

在其中一個實施方式中，所述磁吸腔中設(shè)置有磁性塊。

在其中一個實施方式中，所述磁性塊的表面設(shè)置有鐵片層。

在其中一個實施方式中，所述磁性塊的表面積為所述承載腔的表面積的0.7-0.85倍。

在其中一個實施方式中，所述移動塊的底面開設(shè)有滑動槽，所述導軌凸設(shè)于所述滑動槽中。

由于所述劃線裝置工作時采用驅(qū)動件驅(qū)動所述劃線件進行自動化作業(yè)，因此提高了劃線效率。而且由于可以利用所述移動塊帶動工件進入所述進料口，當已劃線的工件取出時，所述移動塊可以帶動新的工件進入所述容置腔中，因而可以進料較為方便。

附圖說明

圖1為一實施例的劃線裝置的示意圖。

圖2為一實施例的底座及進料組件的剖視圖。

圖3為一實施例的底座的側(cè)視圖。

圖4為一實施例的引導組件與回位組件的剖視圖。

圖5為一實施例的引導板的俯視圖。

具體實施方式

為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點能夠更加明顯易懂，下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實施方式做詳細的說明。在下面的描述中闡述了很多具體細節(jié)以便于充分理解本發(fā)明。但是本發(fā)明能夠以很多不同于在此描述的其它方式來實施，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在不違背本發(fā)明內(nèi)涵的情況下做類似改進，因此本發(fā)明不受下面公開的具體實施的限制。

本發(fā)明涉及一種劃線裝置。所述劃線裝置包括底座、劃線板以及劃線機構(gòu)，所述底座上開設(shè)有容置腔，所述容置腔的內(nèi)側(cè)周緣設(shè)置有多個定位凸部，所述容置腔的側(cè)壁上還貫通開設(shè)有進料口。例如，所述劃線板蓋設(shè)于所述底座上并封閉所述容置腔，所述劃線板上開設(shè)有劃線狹槽，所述劃線狹槽貫穿所述劃線板并與所述容置腔連通，所述劃線機構(gòu)設(shè)置于所述底座上且包括驅(qū)動件以及連接于所述驅(qū)動件上的劃線件。例如，所述劃線件穿設(shè)于所述劃線狹槽中并凸伸于所述容置腔中；其中所述底座上設(shè)置有進料組件，所述進料組件包括導軌以及滑動設(shè)置于所述導軌上的移動塊。例如，所述導軌的一端延伸至所述進料口處，所述導軌的兩側(cè)分別設(shè)置有護持條，所述移動塊位于所述兩個護持條之間，所述移動塊上開設(shè)有承載腔。

請參閱圖1及圖2，一種劃線裝置100，包括底座10、劃線板20以及劃線機構(gòu)40，所述底座上開設(shè)有容置腔11，所述容置腔的內(nèi)側(cè)周緣設(shè)置有多個定位凸部12，所述容置腔的側(cè)壁上還貫通開設(shè)有進料口13，所述劃線板蓋設(shè)于所述底座上并封閉所述容置腔，所述劃線板上開設(shè)有劃線狹槽21，所述劃線狹槽貫穿所述劃線板并與所述容置腔連通，所述劃線機構(gòu)設(shè)置于所述底座上且包括驅(qū)動件41以及連接于所述驅(qū)動件上的劃線件42，所述劃線件穿設(shè)于所述劃線狹槽中并凸伸于所述容置腔中。

所述劃線裝置工作時，將工件設(shè)置于所述容置腔中并通過所述多個定位徒步定位，所述劃線板蓋設(shè)定位于所述容置腔上并使所述劃線狹槽對準所述工件，以露出所述工件上的標示部位。所述驅(qū)動件驅(qū)動所述劃線件沿所述劃線狹槽滑動，從而于所述工件上刻劃出劃線，以作為后續(xù)處理的基準。由于所述劃線裝置工作時采用驅(qū)動件驅(qū)動所述劃線件進行自動化作業(yè)，因此提高了劃線效率，而且由于所述劃線件由所述劃線板上的劃線狹槽引導，因此不易偏位，提高了劃線精度。例如，所述劃線狹槽可以為直線槽，所述劃線件可以為具有刻劃尖的金屬桿，或者具有顏色標示部，以于工件上形成帶有顏色的線條。

例如，為了準確地固定所述劃線板，其中所述底座上設(shè)置有多個連接柱14，所述多個連接柱圍繞所述容置腔設(shè)置，例如，各所述連接柱均勻圍繞所述容置腔設(shè)置，又如，各所述連接柱圍繞所述容置腔設(shè)置且形成正多邊形，例如，N個連接柱形成一個正N邊形，即各所述連接柱位于正多邊形的頂點位置。所述劃線板上還開設(shè)有多個套位槽22，所述多個套位槽環(huán)繞所述劃線板的周緣設(shè)置，所述底座上的多個連接柱分別凸設(shè)于所述多個套位槽中，例如，通過所述底座上的多個連接柱分別凸設(shè)于所述多個套位槽中，以將所述劃線板固定于所述底座上。所述多個連接柱插設(shè)于所述劃線板上的多個套位槽中，既可以對所述劃線板起到定位作用又可以起到固定作用。

例如，為了便于定位，所述連接柱為圓柱形。又如，所述連接柱沿朝向所述劃線板的方向逐漸減小。又如，所述連接柱的端部上形成有定位平面，所述定位平面貼設(shè)于所述套位槽的底面。所述套位槽的底面為平面。所述容置腔為矩形腔體。所述劃線件包括主體部421及設(shè)置于所述主體部一端的標示部422，所述主體部連接于所述驅(qū)動件上。所述主體部為圓柱形。由于所述連接柱沿朝向所述劃線板的方向逐漸減小，因此所述連接柱的頂部直徑較小，從而可以較快地導入所述套位槽中，以實現(xiàn)對所述劃線板的快速定位。

例如，為了便于進料，即實現(xiàn)快速更換工件，其中所述底座上設(shè)置有進料組件30，所述進料組件包括導軌31以及滑動設(shè)置于所述導軌上的移動塊32，所述導軌設(shè)置于所述底座上；所述導軌的一端延伸至所述進料口處，所述導軌的兩側(cè)分別設(shè)置有護持條33，所述移動塊位于所述兩個護持條之間，所述移動塊上開設(shè)有承載腔321。由于所述底座上設(shè)置有導軌，所述導軌上設(shè)置有移動塊，因此可以利用所述移動塊帶動工件進入所述進料口，當已劃線的工件取出時，所述移動塊可以帶動新的工件進入所述容置腔中，因而可以實現(xiàn)快速進料。例如，護持條的長度與導軌的長度相同；又如，護持條與導軌平行設(shè)置，即，護持條的延伸方向與導軌的延伸方向相平行。

例如，為了將工件固定于所述移動塊上，所述移動塊的底部周緣形成有多個定位凹部322，所述多個定位凸部用于分別收容于所述多個定位凹部中。所述承載腔的底面開設(shè)有磁吸腔。所述磁吸腔為矩形腔體。所述磁吸腔中設(shè)置有磁性塊323。所述磁性塊的表面設(shè)置有鐵片層。所述磁性塊的表面積為所述承載腔的表面積的0.7-0.85倍，例如，所述磁性塊的表面積為所述承載腔的表面積的0.7倍、0.78倍、0.78倍、0.8倍或0.85倍。例如，所述移動塊的底面開設(shè)有滑動槽，所述導軌凸設(shè)于所述滑動槽中，以便于所述移動塊的滑動。所述多個定位凹部分布于所述滑動槽的兩側(cè)。所述移動塊能夠通過所述多個定位凸部與所述多個定位凹部的配合，從而定位于所述容置腔中，進而實現(xiàn)將工件定位于所述容置腔中。由于所述移動塊中開設(shè)有承載腔，而所述承載腔得底面設(shè)置有磁性塊，因此可以利用磁性塊對鐵質(zhì)的工件進行吸附，使得所述工件能夠更加牢固地定位于所述容置腔中。

例如，請參閱圖3，為了便于收容備用劃線件以及測量工件的各種尺寸，其中所述底座的側(cè)壁上開設(shè)有儲物腔15，所述儲物腔中設(shè)置有多個分隔板16，所述多個分隔板將所述儲物腔分隔成多個儲物隔間，所述多個儲物隔間中收容有多個備用劃線件43，所述底座上還凸設(shè)有標尺部17，所述標尺部鄰近所述儲物腔設(shè)置。由于所述底座的側(cè)壁上開設(shè)有多個儲物隔間，因此可以利用所述多個儲物隔間來收容備用劃線件，以備不時之需。而所述底座上的標尺部可以用來測量工件的各種尺寸，也可以用來測量工件上的劃線，方便了對所述工件的測量。例如，所述標尺部活動插設(shè)于所述底座上，并且凸出于所述底座上；這樣，可以方便地拔出所述標尺部進行測量。

例如，為了便于將備用劃線件設(shè)置與所述儲物隔間中，所述儲物隔間為矩形腔體狀。所述儲物隔間的底部開設(shè)有多個插設(shè)槽，所述多個備用劃線件分別插設(shè)于所述多個插設(shè)槽中。所述插設(shè)槽為圓形槽。所述多個插設(shè)槽的直徑相同。所述插設(shè)槽的底面上設(shè)置有粘貼層。所述粘貼層的厚度為1毫米-3毫米，例如，所述粘貼層的厚度為1毫米、2毫米或3毫米。所述標尺部的端部形成有打磨部18。所述打磨部為矩形塊狀。由于所述儲物隔間中開設(shè)有多個插設(shè)槽，因此方便將所述多個劃線件插設(shè)于所述儲物隔間中。而所述打磨部則可以用于磨削所述劃線件的標示部，以使得標示部變得更為尖銳。而且所述打磨部也可以對所述工件上的毛刺進行打磨，以免刺傷操作人員。

例如，為了便于驅(qū)動所述劃線件沿所述劃線狹槽移動，所述劃線件上設(shè)置有推動桿，所述推動桿形成于所述主體部上。所述底座的一側(cè)設(shè)置有安裝架，所述安裝架上設(shè)置有引導組件，所述引導組件包括相互間隔設(shè)置的兩個引導板，所述驅(qū)動件設(shè)置于所述兩個引導板之間。所述兩個引導板的結(jié)構(gòu)相同。所述引導板上開設(shè)有引導環(huán)槽，所述引導環(huán)槽包括引導狹槽部以及與所述引導狹槽部連通的回位部。所述引導狹槽部的形狀與所述劃線狹槽的形狀相同且對應所述劃線狹槽設(shè)置。所述劃線件的推動桿穿設(shè)于所述兩個引導板上的引導環(huán)槽中。所述推動桿的長度大于所述劃線件的長度的0.5倍，所述兩個引導板之間的距離大于所述劃線板與鄰近所述劃線板的引導板之間的距離，所述引導狹槽部的寬度小于所述劃線狹槽的寬度，所述劃線狹槽沿圓弧形輪廓線延伸。所述引導狹槽部的寬度為所述劃線狹槽的寬度的0.5倍。所述兩個引導板均固定裝設(shè)于所述裝設(shè)架上，所述兩個引導板之間裝設(shè)有回位組件，所述回位組件包括回位銷與彈性拉持條，所述回位銷鄰近所述驅(qū)動部設(shè)置并鄰近所述引導狹槽部的端部，所述彈性拉持條的兩端分別連接于所述回位銷與所述推動桿上。所述驅(qū)動件包括驅(qū)動部、推出桿以及推動塊，所述推出桿的兩端分別連接于所述驅(qū)動部與所述推動塊上，所述推動塊為矩形塊體，所述推動塊的長度方向與所述推出桿的長度方向垂直，所述推動塊遠離所述驅(qū)動部的一側(cè)形成有推動面，所述推動桿推抵于所述推動面上，所述推動面的長度大于所述推動桿的直徑。所述推動桿的表面上包覆有蜂窩層，所述蜂窩層的厚度為2毫米。所述蜂窩層中形成有多個蜂窩孔，所述多個蜂窩孔中收容有硅膠材料。所述回位部的寬度大于所述引導狹槽部的寬度。所述回位部的兩端分別連通所述引導狹槽部的兩端，所述回位部的兩端分別形成有弧形部與引入部，所述弧形部與所述引導狹槽部遠離所述驅(qū)動部的一端連接，所述引入部與所述引導狹槽部鄰近所述驅(qū)動部的一端連接。所述弧形部自所述引導狹槽部的端部朝向所述驅(qū)動部的一側(cè)傾斜延伸。所述引導狹槽部的端部設(shè)置有第一單向擋止片，所述引導狹槽部的端部形成有擋止面，所述第一單向擋止片抵持于所述擋止面上。所述第一單向擋止片的表面與所述弧形部的側(cè)面平齊，所述引入部自述引導狹槽部的端部沿朝向所述驅(qū)動部的方向傾斜延伸。所述引入部的端部設(shè)置有第二單向擋止片。所述推動桿上橫向凸設(shè)有推抵部，所述回位部的兩側(cè)設(shè)置有推抵面，所述推抵面的兩側(cè)分別形成有傾斜面，所述兩個傾斜面分別連接所述引導狹槽部的兩端，所述傾斜面與所述劃線板表面的距離沿朝向所述推抵面的方向逐漸增加。所述引導組件能夠引導所述劃線件準確地沿所述劃線狹槽移動且減少所述劃線件的振動，而所述回位組件則能夠使得所述劃線件能夠自動回位，且能夠避免所述推動桿與所述劃線板的干涉。

為了進一步描述所述引導組件及所述回位組件的詳細結(jié)構(gòu)及有益效果，請參閱圖4及圖5，所述推動桿427形成于所述主體部上。所述底座的一側(cè)設(shè)置有安裝架，所述安裝架上設(shè)置有引導組件60，所述引導組件包括相互間隔設(shè)置的兩個引導板61，所述驅(qū)動件設(shè)置于所述兩個引導板之間。所述兩個引導板的結(jié)構(gòu)相同。所述引導板上開設(shè)有引導環(huán)槽62，所述引導環(huán)槽包括引導狹槽部621以及與所述引導狹槽部連通的回位部622。所述引導狹槽部的形狀與所述劃線狹槽的形狀相同且對應所述劃線狹槽設(shè)置。所述劃線件的推動桿穿設(shè)于所述兩個引導板上的引導環(huán)槽中。當所述驅(qū)動件驅(qū)動所述推動桿沿所述引導環(huán)槽的引導狹槽部移動時，所述劃線件上的標示部能夠沿所述劃線板上的劃線狹槽移動，從而完成劃線作業(yè)。然后，所述推動桿能夠沿所述回位部回復到初始位置，以待下次劃線作業(yè)。例如，為了避免所述劃線件的振動，所述推動桿的長度大于所述劃線件的長度的0.5倍，即所述兩個引導板之間的距離大于所述劃線板與鄰近所述劃線板的引導板之間的距離，例如，為了提高所述標示部的劃線準確度，所述引導狹槽部的寬度小于所述劃線狹槽的寬度，所述劃線狹槽沿圓弧形輪廓線延伸。例如，所述引導狹槽部的寬度為所述劃線狹槽的寬度的0.5倍。因此，當所述推動桿在所述引導狹槽部中產(chǎn)生微小的振動時，所述標示部會在所述劃線件的傳動下產(chǎn)生一定的偏位，然而所述標示部的偏位仍然落在允許的偏差范圍內(nèi)。例如，為了便于所述推動桿的回位，所述兩個引導板均固定裝設(shè)于所述裝設(shè)架上，所述兩個引導板之間裝設(shè)有回位組件70，所述回位組件包括回位銷71與彈性拉持條72，所述回位銷鄰近所述驅(qū)動部設(shè)置并鄰近所述引導狹槽部的端部，所述彈性拉持條的兩端分別連接于所述回位銷與所述推動桿上。因此，當所述驅(qū)動件縮回并釋放所述推動桿時，所述推動桿能夠在所述彈性拉持條的拉動下沿所述回位部回位。

例如，為了便于推動所述推動桿，所述驅(qū)動件包括驅(qū)動部411、推出桿412以及推動塊413，所述推出桿的兩端分別連接于所述驅(qū)動部與所述推動塊上，所述推動塊為矩形塊體，所述推動塊的長度方向與所述推出桿的長度方向垂直，所述推動塊遠離所述驅(qū)動部的一側(cè)形成有推動面，所述推動桿推抵于所述推動面上，所述推動面的長度大于所述推動桿的直徑。因此，所述驅(qū)動部可以利用所述推出桿驅(qū)動所述推動塊移動，以推動所述推動桿，使得所述推動桿于所述引導狹槽部中移動。而且由于所述推動面的長度大于所述推動桿的直徑，因此可以允許所述推動桿沿著所述引導狹槽部左右移動。例如，為了避免所述推動桿與所述引導狹槽部產(chǎn)生剛性碰撞，所述推動桿的表面上包覆有蜂窩層，所述蜂窩層的厚度為2毫米。所述蜂窩層中形成有多個蜂窩孔，所述多個蜂窩孔中收容有硅膠材料。蜂窩結(jié)構(gòu)的硅膠材料能夠提升所述蜂窩層的緩沖性能。例如，為了便于所述推動桿的回位，所述回位部的寬度大于所述引導狹槽部的寬度。即當劃線作業(yè)完畢、劃線板打開且工件取走后，所述推動桿能夠在較寬的回位部中回位。例如，為了便于所述彈性拉持條將所述推動桿拉入所述回位部，所述回位部的兩端分別連通所述引導狹槽部的兩端，所述回位部的兩端分別形成有弧形部623與引入部624，所述弧形部與所述引導狹槽部遠離所述驅(qū)動部的一端連接，所述引入部與所述引導狹槽部鄰近所述驅(qū)動部的一端連接。所述弧形部自所述引導狹槽部的端部朝向所述驅(qū)動部的一側(cè)傾斜延伸。所述驅(qū)動部利用所述推出桿及所述推動塊推持所述推動桿抵達所述引導狹槽部的末端，所述推動桿能夠在所述彈性拉持條的拉持下，進入所述弧形部中并沿著所述回位部回位。例如，為了防止所述推動桿在所述引導狹槽部中倒退，所述引導狹槽部的端部設(shè)置有第一單向擋止片625，所述引導狹槽部的端部形成有擋止面，所述驅(qū)動件推動所述推動桿抵達所述引導狹槽部的末端，所述第一單向擋止片能夠轉(zhuǎn)動以供所述推動桿進入所述弧形部。當所述推動桿完全進入所述弧形部中，所述第一單向擋止片能夠回位并抵持于所述擋止面上，從而防止所述推動桿回位。所述第一單向擋止片的表面與所述弧形部的側(cè)面平齊，因此所述推動桿能夠在所述彈性拉持條的拉動下沿所述回位部回位。例如，為了方便所述驅(qū)動件推出所述推動桿，所述引入部自述引導狹槽部的端部沿朝向所述驅(qū)動部的方向傾斜延伸。所述引入部的端部設(shè)置有第二單向擋止片626。當所述推動桿在所述彈性拉持條的拉動下進入所述引導狹槽部中，所述第二單向擋止片能夠阻止所述推動桿退回所述引入部中。此時，所述驅(qū)動部即可推動所述推動桿克服所述彈性拉持條的拉力沿所述引導狹槽部移動。

例如，為了在回位過程提升所述推動桿的高度，以使所述劃線件脫離所述劃線板，所述推動桿上橫向凸設(shè)有推抵部4271，所述回位部的兩側(cè)設(shè)置有推抵面628，所述推抵面的兩側(cè)分別形成有傾斜面，所述兩個傾斜面分別連接所述引導狹槽部的兩端，所述傾斜面與所述劃線板表面的距離沿朝向所述推抵面的方向逐漸增加。即當所述推動桿進入所述回位部時，所述推動桿的推抵部能夠沿所述傾斜面上升并滑上所述推抵面上，從而驅(qū)動所述推動桿遠離劃線板，以避免所述推動桿與所述劃線板干涉。

本發(fā)明的其它實施例還包括上述各實施例中的技術(shù)特征相互組合所形成的能夠?qū)嵤┑募夹g(shù)方案。

以上所述實施例僅表達了本發(fā)明的幾種實施方式，其描述較為具體和詳細，但并不能因此而理解為對本發(fā)明專利范圍的限制。應當指出的是，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本發(fā)明的保護范圍。因此，本發(fā)明專利的保護范圍應以所附權(quán)利要求為準。