專利名稱：用于鐳射壓印轉(zhuǎn)移的雙向拉伸聚丙烯基膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種新型用途的聚丙烯基膜，特別是用于鐳射壓印轉(zhuǎn)移的雙向拉伸聚丙烯基膜。利用此種基膜可以加工出具有鐳射效果的產(chǎn)品，并通過(guò)鐳射轉(zhuǎn)移，從而達(dá)到對(duì)被包裝商品裝飾、裝璜或防偽效果。
上表層、下表層的厚度分別為基膜厚度的10％-12％。
本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是，由于它結(jié)構(gòu)合理，設(shè)計(jì)新穎，可以直接進(jìn)行鐳射壓印蒸鍍轉(zhuǎn)移，其不但可以滿足用戶所要求的鐳射效果、蒸鍍效果和轉(zhuǎn)移效果，同時(shí)大大降低了產(chǎn)品的成本。
圖2，本實(shí)用新型的橫向結(jié)構(gòu)剖示圖。
如


圖1、圖2所示，本實(shí)用新型由上表層1、芯層2、下表層3構(gòu)成，上表層1、芯層2、下表層3通過(guò)設(shè)備熱熔、共擠形成一體，芯層2位于上表層1、下表層3之間，其中，下表層3為轉(zhuǎn)移層。上表層1、下表層3的厚度分別為基膜厚度的10％-12％。構(gòu)成基膜的上表層1、芯層2、下表層3的材質(zhì)主要采用聚丙烯塑料。
基膜可以據(jù)用戶的不同的要求，分切成不同規(guī)格尺寸(長(zhǎng)度和寬度)的成品。也可以利用不同雙向拉伸工藝生產(chǎn)出不同厚度的基膜。
權(quán)利要求1.用于鐳射壓印轉(zhuǎn)移的雙向拉伸聚丙烯基膜，其特征在于，基膜由上表層(1)、芯層(2)、下表層(3)構(gòu)成，芯層(2)位于上表層(1)、下表層(3)之間，下表層(3)為轉(zhuǎn)移層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于鐳射壓印轉(zhuǎn)移的雙向拉伸聚丙烯基膜，其特征在于，上表層(1)、下表層(3)的厚度分別為基膜厚度的10％-12％。
專利摘要本實(shí)用新型涉及用于鐳射壓印轉(zhuǎn)移的雙向拉伸聚丙烯基膜?；び缮媳韺?、芯層、下表層構(gòu)成，上表層、芯層、下表層通過(guò)熱熔共擠成為一體。下表層為轉(zhuǎn)移層?；さ纳媳韺印⑾卤韺拥暮穸确謩e為基膜厚度的10％－12％。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是，由于它結(jié)構(gòu)合理，設(shè)計(jì)新穎，可以直接進(jìn)行鐳射壓印轉(zhuǎn)移。本實(shí)用新型不但可以滿足用戶所要求的鐳射效果、蒸鍍效果和轉(zhuǎn)移效果，同時(shí)大大降低了產(chǎn)品的成本。
文檔編號(hào)B32B27/32GK2602928SQ02228079
公開(kāi)日2004年2月11日 申請(qǐng)日期2002年1月11日 優(yōu)先權(quán)日2002年1月11日
發(fā)明者欒德海, 江暢, 陳德超, 褚峰林 申請(qǐng)人:中包云夢(mèng)塑料薄膜廠