專利名稱：光學(xué)膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光學(xué)膜，具體而言，涉及這樣一種光學(xué)膜，它適合用于表面涂有金屬薄膜，用于反射型液晶顯示裝置或者反射/透射結(jié)合型液晶顯示裝置的反光基板。
背景技術(shù)：
目前，液晶顯示裝置已經(jīng)得到廣泛應(yīng)用，特別是對于小尺寸到中尺寸的裝置來說更是如此，這是因?yàn)橐壕э@示裝置的以下特性與傳統(tǒng)的CRT顯示器相比可以將這種裝置做得更薄、更緊湊，這種顯示器可以在低電壓下工作，能夠減小電力消耗因而節(jié)省能量。而且，液晶顯示裝置，特別是利用外界入射光作為顯示光源的反射型液晶顯示裝置，由例如液晶層和反光基板構(gòu)成，反光基板具有涂敷銀合金這種金屬薄膜的光學(xué)膜。不需要常規(guī)的背光，因此這種反射型液晶顯示裝置可以做得輕而薄，廣泛用作液晶顯示裝置。
近幾年來，從進(jìn)一步提高可見度的觀點(diǎn)來看，對于這種液晶顯示裝置，還需要減小反光基板的吸光性，并提高在氧化空氣這種惡劣環(huán)境下的耐久性。已經(jīng)進(jìn)行了各種研究來實(shí)現(xiàn)這些目的。
例如，對于由三層氧化薄膜和兩層銀薄膜交替地形成于玻璃基板主表面構(gòu)成的光學(xué)膜來說，通過讓這兩層銀薄膜具有穩(wěn)定的晶體取向，可以提高這些銀薄膜在高溫和高濕條件下的穩(wěn)定性(例如，參見日本公開專利公報No.2000-056127)。
此外，另一種光學(xué)膜由透明基板上形成的銀基金屬制成的熱反射金屬膜以及該熱反射金屬膜上形成，由硅、硼和鋁構(gòu)成的組中選出的至少一種金屬的氮化物制作的透明氮化物膜構(gòu)成，該熱反射金屬膜的氧化則借助于該透明氮化物膜來加以抑制(例如，參見日本公開專利公報No.H06-345491)。
此外，另一種光學(xué)膜由形成于透明基板主表面上的氧化銦錫(以后稱做“ITO”)制成的透明高折射率層，形成于該透明高折射率層上的金屬薄膜，以及形成于該金屬薄膜上、由ITO制成的另一透明高折射率層構(gòu)成，該金屬薄膜的外界環(huán)境耐久性則借助于ITO制成的該相鄰?fù)该鞲哒凵渎蕦觼砑右蕴岣?例如，參見日本公開專利公報No.H09-272172)。
然而，在這些光學(xué)膜中，尤其是對于具有通過其結(jié)晶性而穩(wěn)定的金屬薄膜的光學(xué)膜來說，仍然存在一個問題，這就是在氧化空氣中，氧化還原電位對物性值的影響大，金屬薄膜的耐久性因此而下降。此外，對于具有金屬氮化物制成的透明氮化物膜或者ITO制成的透明高折射率層的光學(xué)膜來說，由于光學(xué)膜的整體厚度增大，很難獲得所需要的光學(xué)性能，此外還有一個問題，這就是由于該透明氮化物膜或者由ITO制成的透明高折射率層存在微小針孔，該金屬薄膜會暴露在空氣中，因此該金屬薄膜的耐久性會下降。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種光學(xué)膜，它能夠很容易地獲得所需要的光學(xué)性能，并能夠提高耐久性。
為了實(shí)現(xiàn)上述的目的，在本發(fā)明的一個方面中，提供一種形成于基板主表面上的光學(xué)膜，該光學(xué)膜包括形成于基板主表面上的金屬膜，以及作為島狀物分散地形成于該金屬膜主表面上的多個第一島狀結(jié)構(gòu)和作為島狀物分散地形成于該基板主表面上的多個第二島狀結(jié)構(gòu)中的至少一組，其中該多個第一島狀結(jié)構(gòu)和該多個第二島狀結(jié)構(gòu)中的所述至少一組由從對該金屬膜的金屬具有不同標(biāo)準(zhǔn)電極電位的金屬和金屬氧化物構(gòu)成的組中選出的至少一種制成。
該多個第一島狀結(jié)構(gòu)和該多個第二島狀結(jié)構(gòu)中的所述至少一組的平均間距優(yōu)選不小于400nm。
該平均間距更優(yōu)選在400nm到900nm的范圍。
該多個第一島狀結(jié)構(gòu)和該多個第二島狀結(jié)構(gòu)中的所述至少一組的等效圓平均直徑與平均間距的百分比更優(yōu)選為10％到90％。
該多個第一島狀結(jié)構(gòu)和該多個第二島狀結(jié)構(gòu)中的所述至少一組的平均高度優(yōu)選為2.0nm到7.0nm。
優(yōu)選的是，該金屬膜由從具有正的標(biāo)準(zhǔn)電極電位的金屬構(gòu)成的組中選出的至少一種制成，而該多個第一島狀結(jié)構(gòu)和該多個第二島狀結(jié)構(gòu)中的所述至少一組由從具有負(fù)的標(biāo)準(zhǔn)電極電位的金屬和金屬氧化物構(gòu)成的組中選出的至少一種制成。
該金屬膜更優(yōu)選由銀，鉻和鋁構(gòu)成的組中選出的至少一種制成。
該多個第一島狀結(jié)構(gòu)和該多個第二島狀結(jié)構(gòu)中的所述至少一組更優(yōu)選包括氧化銦錫。
該基板優(yōu)選由玻璃制成。
優(yōu)選將光學(xué)膜用于從反射型液晶顯示裝置和反射/透射結(jié)合型液晶顯示裝置中選擇出來的裝置的反光基板。
根據(jù)本發(fā)明，存在作為島狀物分散地形成于所述金屬膜主表面上的多個第一島狀結(jié)構(gòu)和/或作為島狀物分散地形成于所述基板主表面上的多個第二島狀結(jié)構(gòu)中的至少一組，其中該第一和/或第二島狀結(jié)構(gòu)由對該金屬膜的金屬具有不同標(biāo)準(zhǔn)電極電位的金屬和金屬氧化物構(gòu)成的組中選出的至少一種制成。結(jié)果，該光學(xué)膜可以做薄，由此能夠提高該膜的設(shè)計自由度和光學(xué)性能，因此能夠容易地獲得需要的光學(xué)性能。此外，在該第一和/或第二島狀結(jié)構(gòu)與該金屬膜之間產(chǎn)生具有不同相位的自由電子等離子體振蕩，第一和/或第二島狀結(jié)構(gòu)的氧化反應(yīng)的氧化還原電位變化以及該金屬膜的氧化反應(yīng)的氧化還原電位變化基本停止在平衡的狀態(tài)，從而能夠防止該金屬膜被侵蝕，因此能夠提高該光學(xué)膜的耐久性。
通過下面結(jié)合附圖的詳細(xì)描述，將會更加明了本發(fā)明的上述和其它目的、特征及優(yōu)點(diǎn)。


圖1是一個示意性剖面圖，它示出具有本發(fā)明一個實(shí)施例中的光學(xué)膜的反射型液晶顯示裝置的結(jié)構(gòu)；圖2A和2B示出圖1中出現(xiàn)的反射型液晶基板；具體而言圖2A是一個部分切除的透視圖；以及圖2B是一個剖面圖；圖3是能夠用于解釋在玻璃基板主表面或金屬膜上形成的島狀結(jié)構(gòu)的等效圓的視圖；圖4是示出制造圖2A和2B所示反射型液晶基板的方法的流程圖；以及圖5A到5D是能夠用于解釋制造圖2A和2B中反射型液晶基板的方法的步驟視圖。
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明人進(jìn)行了刻苦的研究來實(shí)現(xiàn)上述目的，并由此發(fā)現(xiàn)，在光學(xué)膜形成于基板主表面上的情況下，如果該光學(xué)膜包括形成于該基板主表面上的金屬膜，以及作為島狀物分散地形成于該金屬膜主表面上的多個第一島狀結(jié)構(gòu)和/或作為島狀物分散地形成于該基板主表面上的多個第二島狀結(jié)構(gòu)，其中該多個第一島狀結(jié)構(gòu)和/或該多個第二島狀結(jié)構(gòu)由包括對該金屬膜的金屬具有不同標(biāo)準(zhǔn)電極電位的金屬和金屬氧化物構(gòu)成的組中選出的至少一種制成，則該光學(xué)膜可以做薄，由此能夠提高該膜的設(shè)計自由度和光學(xué)性能，從而能夠容易地獲得需要的光學(xué)性能。此外，在該第一和/或第二島狀結(jié)構(gòu)與該金屬膜之間產(chǎn)生具有不同相位的自由電子等離子體振蕩，第一和/或第二島狀結(jié)構(gòu)氧化反應(yīng)的氧化還原電位變化以及金屬膜氧化反應(yīng)的氧化還原電位變化基本停止于平衡狀態(tài)，由此能夠防止該金屬膜被侵蝕，并因此能夠提高該光學(xué)膜的耐久性。而且，本發(fā)明人還發(fā)現(xiàn)如果該第一和/或第二島狀結(jié)構(gòu)的平均間距不小于400nm，優(yōu)選為400nm到900nm的范圍內(nèi)，則該平均間距大約等于或大于該島狀結(jié)構(gòu)中自由電子等離子體振蕩的波長(400nm)，借此能夠更好地防止該金屬膜被侵蝕。而且，本發(fā)明人還發(fā)現(xiàn)如果該金屬膜由從具有正的標(biāo)準(zhǔn)電極電位的金屬構(gòu)成的組中選出的至少一種制成，而該第一和/或第二島狀結(jié)構(gòu)由從具有負(fù)的標(biāo)準(zhǔn)電極電位的金屬和金屬氧化物構(gòu)成的組中選出的至少一種制成，則當(dāng)該島狀結(jié)構(gòu)被氧化時產(chǎn)生的自由電子等離子體振蕩，以及當(dāng)該金屬膜被氧化時產(chǎn)生的自由電子等離子體振蕩彼此抵消，由此該島狀結(jié)構(gòu)的氧化還原電位變化和該金屬膜的氧化還原電位變化分別停止，因此能夠進(jìn)一步提高該金屬膜的耐久性。
本發(fā)明在上述研究結(jié)果的基礎(chǔ)上完成。
現(xiàn)在將參照示出本發(fā)明一個優(yōu)選實(shí)施例的圖來描述本發(fā)明。
圖1是本發(fā)明一個實(shí)施例中具有光學(xué)膜的反射型液晶顯示裝置結(jié)構(gòu)的剖面示意圖。
如圖1所示，反射型液晶顯示裝置10包括能夠透射光的一對玻璃基板11和12，形成于玻璃基板12內(nèi)主表面上和散射入射光13并將該光反射為反射光14的光學(xué)膜30，填充在該光學(xué)膜30和該玻璃基板11之間且控制光透射的液晶層17。如圖1所示，作為反射型液晶裝置10的組成元件，該玻璃基板12和該光學(xué)膜30一起組成反射型液晶基板20。現(xiàn)在利用圖2A和2B來詳細(xì)描述該反射型液晶基板20和光學(xué)膜30。
圖2A和2B示出圖1中出現(xiàn)的反射型液晶基板20；具體地說，圖2A是一個部分切除的透視圖，而圖2B是一個剖面圖。
如圖2A所示，例如，該反射型液晶基板20厚度是0.55mm，并且包括玻璃基板12，以及形成于該玻璃基板12內(nèi)主表面上的光學(xué)膜30。
而且，如圖2B所示，該光學(xué)膜30具有作為島狀物分散地形成于玻璃基板12內(nèi)主表面12a上的多個島狀結(jié)構(gòu)(在下文中稱作“第二島狀結(jié)構(gòu)”)31，形成于第二島狀結(jié)構(gòu)31和玻璃基板12內(nèi)主表面12a上的金屬膜32，作為島狀物分散地形成于與玻璃基板12接觸的主表面32b相對側(cè)的金屬膜32主表面(在下文中稱作“內(nèi)主表面”)32a上的多個島狀結(jié)構(gòu)(在下文中稱作“第一島狀結(jié)構(gòu)”)33。
該金屬膜32由從具有正標(biāo)準(zhǔn)電極電位的金屬構(gòu)成的組中選出的至少一種制成，優(yōu)選由銀、鉻、鋁構(gòu)成的組中選出的至少一種制成，在這個實(shí)施例中它是銀。
第一島狀結(jié)構(gòu)33和第二島狀結(jié)構(gòu)31中的每一組都由金屬和金屬氧化物構(gòu)成的組中選出的至少一種制成，其中金屬和金屬氧化物中的每一種對于金屬膜32的金屬都具有不同的標(biāo)準(zhǔn)電極電位，并優(yōu)選具有負(fù)的標(biāo)準(zhǔn)電極電位，在這個實(shí)施例中它是ITO。結(jié)果，當(dāng)?shù)诙u狀結(jié)構(gòu)31和33被氧化時產(chǎn)生的自由電子等離子體振蕩以及該金屬膜32被氧化時產(chǎn)生的自由電子等離子體振蕩彼此抵消，由此第二島狀結(jié)構(gòu)31和33的氧化還原電位變化和金屬膜32的氧化還原電位變化分別停止，并因此能夠進(jìn)一步提高該金屬膜32的耐久性。
第二島狀結(jié)構(gòu)31和33的平均間距不小于400nm，優(yōu)選在400nm到900nm的范圍內(nèi)。結(jié)果，所述平均間距大約等于或者大于第二島狀結(jié)構(gòu)31和33中自由電子等離子體振蕩的波長(400nm)，借此能夠更好地防止該金屬膜32被侵蝕。
而且，第二島狀結(jié)構(gòu)31和33的等效圓平均直徑與平均間距的百分比在10％到90％的范圍內(nèi)。結(jié)果，能夠更可靠地防止該金屬膜32被侵蝕。
在這里，島狀結(jié)構(gòu)的等效圓是這樣的圓，它的半徑等于島狀結(jié)構(gòu)接觸玻璃基板12或金屬膜32內(nèi)主表面的區(qū)域跨越的最大距離，如圖3所示。該等效圓平均直徑是玻璃基板12或金屬膜32上至少10個隨機(jī)選出島狀結(jié)構(gòu)等效圓的直徑平均值。
而且，該島狀結(jié)構(gòu)的平均間距是玻璃基板12或金屬膜32上至少10個隨機(jī)選出的島狀結(jié)構(gòu)中，一個島狀結(jié)構(gòu)等效圓的中心與最接近那個島狀結(jié)構(gòu)的島狀結(jié)構(gòu)等效圓的中心之間的距離(島狀結(jié)構(gòu)之間的距離)的平均值。
金屬膜32的厚度在10nm到500nm的范圍內(nèi)，例如，25nm，第二島狀結(jié)構(gòu)31的平均高度在2.0nm到7.0nm的范圍內(nèi)，第一島狀結(jié)構(gòu)33的平均高度在2.0到7.0nm的范圍內(nèi)。結(jié)果，能夠更可靠地防止該金屬膜32被侵蝕。第二島狀結(jié)構(gòu)31和33中每一個的平均高度更優(yōu)選在3.0nm至5.0nm的范圍內(nèi)。結(jié)果，能夠更可靠地防止該金屬膜32被侵蝕。
在這里，該島狀結(jié)構(gòu)的平均高度是，玻璃基板12或金屬膜32上任意選出的至少10個島狀結(jié)構(gòu)中，玻璃基板12或金屬膜32的內(nèi)主表面到島狀結(jié)構(gòu)最高點(diǎn)之間距離的平均值。
現(xiàn)在將描述制造反射型液晶基板20的一種方法。
圖4是示出制造圖2A和2B中示出的反射型液晶基板20的方法流程圖，圖5A到5D是用于說明制造反射型液晶基板20的方法步驟的視圖。
如圖4所示，首先通過切割0.55mm厚的玻璃板到預(yù)定尺寸來制備玻璃基板12，0.55mm厚的玻璃板已經(jīng)利用浮法玻璃工藝制得(步驟S1)(圖5A)。然后利用真空噴鍍法在玻璃基板12的一個主表面上分散地形成第二島狀結(jié)構(gòu)31(步驟S2)(圖5B)。
具體而言，形成第二島狀結(jié)構(gòu)31，使其等效圓平均直徑為例如130nm，且其平均高度為例如3nm。而且，形成第二島狀結(jié)構(gòu)31，使其平均間距為例如520nm，以及第二島狀結(jié)構(gòu)31的等效圓平均直徑與平均間距的百分比為例如25％。
下一步，利用真空噴鍍的方法在上面已經(jīng)形成有第二島狀結(jié)構(gòu)31的玻璃基板12的主表面上形成厚度為25nm的金屬膜32(步驟S3)(圖5C)，然后在金屬膜32的內(nèi)主表面上利用真空噴鍍的方法分散地形成第一島狀結(jié)構(gòu)33(步驟S4)(圖5D)。
具體而言，形成第一島狀結(jié)構(gòu)33，使其等效圓平均直徑為例如130nm，且其平均高度為例如3nm。而且，形成第一島狀結(jié)構(gòu)33，使其平均間距為例如520nm，且第一島狀結(jié)構(gòu)33的等效圓平均直徑與平均間距的百分比為例如25％。
根據(jù)這一個實(shí)施例，分散地形成于玻璃基板12內(nèi)主表面12a上形成的金屬膜32內(nèi)主表面32a上的該第一島狀結(jié)構(gòu)33，和分散地形成在與金屬膜32接觸的玻璃基板12內(nèi)主表面12a上的該第二島狀結(jié)構(gòu)31中每一種都是用與金屬膜32的金屬具有不同標(biāo)準(zhǔn)電極電位的金屬或者金屬氧化物制成。結(jié)果，該光學(xué)膜可以制得很薄，由此可以提高該膜的設(shè)計自由度和光學(xué)性能，因此能夠容易地獲得需要的光學(xué)性能。此外，在第一島狀結(jié)構(gòu)33與金屬膜32之間和第二島狀結(jié)構(gòu)31與金屬膜32之間產(chǎn)生具有不同相位的自由電子等離子體振蕩，以及島狀結(jié)構(gòu)31和33氧化反應(yīng)的氧化還原電位變化和金屬膜32氧化反應(yīng)的氧化還原電位變化基本上停止在平衡狀態(tài)，由此能夠防止金屬膜32被侵蝕，因此能夠提高該光學(xué)膜的耐久性。而且，第一島狀結(jié)構(gòu)33與金屬膜32之間和第二島狀結(jié)構(gòu)31與金屬膜32之間產(chǎn)生的等離子體振蕩之間的干涉可以防止金屬膜32被侵蝕，因此即使在金屬膜32上沒有均勻形成組成第一島狀結(jié)構(gòu)33的點(diǎn)而是缺少部分點(diǎn)，但是由于缺少那些點(diǎn)的區(qū)域周圍形成有點(diǎn)，通過干涉作用仍能夠防止金屬膜32被侵蝕。
在這個實(shí)施例中，具有在玻璃基板12內(nèi)主表面上形成的金屬膜32的內(nèi)主表面上分散地形成的第一島狀結(jié)構(gòu)33，和在接觸金屬膜32的玻璃基板12的內(nèi)主表面上分散地形成的第二島狀結(jié)構(gòu)31。然而，本發(fā)明并不局限于此，而是可以換成只有在金屬膜32的內(nèi)主表面上分散地形成的第一島狀結(jié)構(gòu)33和在接觸金屬膜32的玻璃基板12的主內(nèi)表面上分散地形成的第二島狀結(jié)構(gòu)31中的僅僅一個。在該光學(xué)膜30僅具有第一島狀結(jié)構(gòu)33的情況下，能夠防止的主要是金屬膜32內(nèi)主表面上的侵蝕，而在該光學(xué)膜30僅具有第二島狀結(jié)構(gòu)31的情況下，能夠防止的主要是接觸玻璃基板12的金屬膜32主表面上的侵蝕。上述情況的結(jié)果就是，能夠?qū)⒃摴鈱W(xué)膜做得更薄，而且能夠更進(jìn)一步地提高該光學(xué)膜的耐久性。
在本實(shí)施例中，將該光學(xué)膜30用于反射型液晶顯示裝置10中。然而，并不局限于此，而是該光學(xué)膜30還可以用于反射/透射結(jié)合型液晶裝置中，當(dāng)外界光量高時該裝置利用所反射的外界光，當(dāng)外界光量低時利用背光發(fā)出的光。
在本實(shí)施例中，該第一島狀結(jié)構(gòu)33作為島狀物形成于金屬膜32的內(nèi)主表面上。然而，并不是局限于此，而是所述第一島狀結(jié)構(gòu)33還可形成在具有與第一島狀結(jié)構(gòu)33不同的標(biāo)準(zhǔn)電極電位的金屬或金屬氧化物制成的其它固體的表面上。結(jié)果，能夠防止各種應(yīng)用中使用的金屬或金屬氧化物制成的固體被侵蝕，由此能夠容易地提高金屬的耐久性。
現(xiàn)在將描述本發(fā)明的實(shí)例。在這個實(shí)例中，利用只有金屬膜32內(nèi)主表面上以島狀物分散形成的第一島狀結(jié)構(gòu)33的光學(xué)膜來進(jìn)行實(shí)驗(yàn)。
首先，作為實(shí)例1，這樣來制備樣品在玻璃基板12的一個主表面上形成由銀制成的25nm厚的金屬膜32，然后使用真空噴鍍的方法在金屬膜32上形成由ITO制成的第一島狀結(jié)構(gòu)33，作為金屬膜32上的涂層，使得該第一島狀結(jié)構(gòu)33的平均間距為520nm。
其次，作為對比實(shí)例1，這樣來制備樣品在玻璃基板12的一個主表面上形成由銀制成的25nm厚的金屬膜32，然后使用真空噴鍍方法在金屬膜32上形成10nm厚的ITO膜。此外，作為對比實(shí)例2，通過在玻璃基板12的一個主表面上形成僅有銀制成的25nm厚的金屬膜32來制備樣品。
其次，將每個樣品在室溫下浸入到10％質(zhì)量百分比的HCI水溶液中15分鐘，確定該金屬膜32是否被侵蝕。結(jié)果在表1中示出。
表1

在表1中，“○”表示金屬膜32沒有被侵蝕，而“×”表示金屬膜32被侵蝕。
如表1所示，發(fā)現(xiàn)如果分散地形成在玻璃基板12主表面上形成的銀金屬膜32主表面上的第一島狀結(jié)構(gòu)33由ITO制成，它具有與金屬膜32的金屬不同的標(biāo)準(zhǔn)電極電位，則該光學(xué)膜不僅可以制得薄，由此能夠提高該膜的設(shè)計自由度和光學(xué)性能，此外還可能夠提高該光學(xué)膜的耐久性。
其次，作為實(shí)例2，這樣來制備樣品在玻璃基板12的一個主表面上形成由銀制成的25nm厚的金屬膜32，然后使用真空噴鍍方法在金屬膜32上形成由ITO制成的第一島狀結(jié)構(gòu)33作為金屬膜32上的涂層，使得該第一島狀結(jié)構(gòu)33的平均間距為900nm。作為實(shí)例3，這樣來制備樣品在玻璃基板12的一個主表面上形成由銀制成的25nm厚的金屬膜32，然后在金屬膜32上形成由ITO制成的第一島狀結(jié)構(gòu)33，使得該第一島狀結(jié)構(gòu)33的平均間距為520nm。作為實(shí)例4，這樣來制備樣品在玻璃基板12的一個主表面上形成由銀制成的25nm厚的金屬膜32，然后在金屬膜32上形成由ITO制成的第一島狀結(jié)構(gòu)33，使得該第一島狀結(jié)構(gòu)33的平均間距為420nm。作為實(shí)例5，這樣來制備樣品在玻璃基板12的一個主表面上形成由銀制成的25nm厚的金屬膜32，然后在金屬膜32上形成由ITO制成的第一島狀結(jié)構(gòu)33，使得該第一島狀結(jié)構(gòu)33的平均間距為410nm。作為對比實(shí)例3，這樣來制備樣品在玻璃基板12的一個主表面上形成由銀制成的25nm厚的金屬膜32，然后使用真空噴鍍的方法在金屬膜32上形成由ITO制成的第一島狀結(jié)構(gòu)33作為金屬膜32上的涂層，使得該第一島狀結(jié)構(gòu)33的平均間距為400nm。
其次，對于每個樣品，用電子掃描顯微鏡來觀察其上具有第一島狀結(jié)構(gòu)33的金屬膜32的主表面，放大15,000到20,000倍的情況下進(jìn)行顯微照相，在金屬膜32主表面的顯微照片上畫出對角線，選擇對角線上的10個到20個第一島狀結(jié)構(gòu)33用于測量，從所選擇的島狀結(jié)構(gòu)中確定等效圓平均直徑與平均間距。在照片上的島狀結(jié)構(gòu)很小，因此很難確定等效圓的情況下，首先測量島狀結(jié)構(gòu)之間的距離，將由該距離測定的平均間距看作等效圓平均直徑。
此外，用電子掃描顯微鏡來觀察具有金屬膜32和在玻璃基板12一個主表面上形成的第一島狀結(jié)構(gòu)33的每個樣品的剖面，選擇10到20個所觀察到的第一島狀結(jié)構(gòu)33以用于測量，并根據(jù)所選島狀結(jié)構(gòu)來測量平均高度。
對于實(shí)例2，第一島狀結(jié)構(gòu)33的等效圓平均直徑為90nm，平均高度為2.0nm。對于實(shí)例3，第一島狀結(jié)構(gòu)33的等效圓平均直徑為130nm，平均高度為3.0nm。對于實(shí)例4，第一島狀結(jié)構(gòu)33的等效圓平均直徑為210nm，平均高度為5.0nm。對于實(shí)例5，第一島狀結(jié)構(gòu)33的等效圓平均直徑為290nm，平均高度為7.0nm。
其次，將每個樣品在室溫下浸入到10％質(zhì)量百分比的HCl水溶液中15分鐘，確定該金屬膜32是否被侵蝕。結(jié)果在表2中示出。
表2(1/2)

表2(2/2)

在表2中，“○”表示金屬膜32沒有被侵蝕，而“×”表示金屬膜32被侵蝕。
如表2所示，發(fā)現(xiàn)如果第一島狀結(jié)構(gòu)33的平均間距不小于400nm，優(yōu)選在400nm到900nm的范圍內(nèi)，則由于該平均間距大約等于或者大于該第一島狀結(jié)構(gòu)33中自由電子等離子體振蕩的波長(400nm)，因此能夠更好地防止金屬膜32被侵蝕。此外還發(fā)現(xiàn)如果第一島狀結(jié)構(gòu)33等效圓平均直徑與平均間距的百分比在10％到90％的范圍內(nèi)，則能夠更可靠地防止金屬膜32被侵蝕。更進(jìn)一步發(fā)現(xiàn)如果第一島狀結(jié)構(gòu)33的平均高度在2.0nm到7.0nm的范圍內(nèi)，則能夠更可靠地防止金屬膜32被侵蝕。
權(quán)利要求
1.一種形成于基板主表面上的光學(xué)膜，該光學(xué)膜包括形成于該基板的主表面上的金屬膜；和作為島狀物分散地形成于所述金屬膜主表面上的多個第一島狀結(jié)構(gòu)以及作為島狀物分散地形成于該基板主表面上的多個第二島狀結(jié)構(gòu)中的至少一組；其中所述多個第一島狀結(jié)構(gòu)和多個第二島狀結(jié)構(gòu)中的所述至少一組由對該金屬膜的金屬具有不同標(biāo)準(zhǔn)電極電位的金屬和金屬氧化物構(gòu)成的組中選出的至少一種制成。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中所述多個第一島狀結(jié)構(gòu)和所述多個第二島狀結(jié)構(gòu)中的所述至少一組的平均間距不小于400nm。
3.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)膜，其中的所述平均間距在400nm到900nm的范圍內(nèi)。
4.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)膜，其中所述多個第一島狀結(jié)構(gòu)和所述多個第二島狀結(jié)構(gòu)中的所述至少一組的等效圓平均直徑與平均間距的百分比在10％到90％的范圍內(nèi)。
5.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中所述多個第一島狀結(jié)構(gòu)和所述多個第二島狀結(jié)構(gòu)中的所述至少一組的平均高度在2.0nm到7.0nm的范圍內(nèi)。
6.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中所述金屬膜由具有正的標(biāo)準(zhǔn)電極電位的金屬構(gòu)成的組中選出的至少一種制成，而所述多個第一島狀結(jié)構(gòu)和所述多個第二島狀結(jié)構(gòu)中的所述至少一組由具有負(fù)的標(biāo)準(zhǔn)電極電位的金屬和金屬氧化物構(gòu)成的組中選出的至少一種制成。
7.如權(quán)利要求6所述的光學(xué)膜，其中所述金屬膜由銀，鉻和鋁構(gòu)成的組中選出的至少一種制成。
8.如權(quán)利要求7所述的光學(xué)膜，其中所述多個第一島狀結(jié)構(gòu)和所述多個第二島狀結(jié)構(gòu)中的所述至少一組包括氧化銦錫。
9.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，其中所述基板由玻璃制成。
10.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜，用于從反射型液晶顯示裝置和反射/透射結(jié)合型液晶顯示裝置選出來的裝置的反光基板。
全文摘要
一種光學(xué)膜，能夠容易地獲得需要的光學(xué)性能，并能夠提高耐久性。在玻璃基板12的內(nèi)主表面12上形成金屬膜32。在金屬膜32的內(nèi)主表面32a上作為島狀物分散地形成多個第一島狀結(jié)構(gòu)33。在基板12的內(nèi)主表面12a上作為島狀物分散地形成多個第二島狀結(jié)構(gòu)31。多個第一島狀結(jié)構(gòu)33和多個第二島狀結(jié)構(gòu)31中的至少一組由對該金屬膜32的金屬具有不同標(biāo)準(zhǔn)電極電位的金屬氧化物和金屬構(gòu)成的組中選出的至少一種制成。
文檔編號B32B7/02GK1804695SQ200510119160
公開日2006年7月19日 申請日期2005年12月15日 優(yōu)先權(quán)日2004年12月15日
發(fā)明者筏井正博 申請人:日本板硝子株式會社