專利名稱：：多層體及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種多層體，包括一復(fù)制層，其具有許多顯微的細(xì)小的圖案區(qū)域，以及一種用以制造一包括可調(diào)的或確定的導(dǎo)電率的多層體的方法。
背景技術(shù)：
：已知涂金屬的多層體、特別是涂金屬的薄膜，其具有一反光的或磨砂的或以任何其他結(jié)構(gòu)化的表面，其是導(dǎo)電的。導(dǎo)電的表面可以是干擾的，例如如果薄膜供用于電子裝置的殼體的裝飾的話或如果薄膜擬用作為食品的包裝件的話，其遭受一微波爐的電磁輻射。這樣的包裝件可以同時(shí)包括具有金屬表面的安全特征，其同樣可以通過微波輻射熱破壞。
發(fā)明內(nèi)容現(xiàn)在本發(fā)明的目的在于，提供一種包括可調(diào)的或確定的導(dǎo)電率的多層體以及其制造方法，該方法是低成本的并且適用于大量生產(chǎn)。利用一種用于制造一包括可調(diào)的或確定的導(dǎo)電率的多層體的方法達(dá)到本發(fā)明的目的，其中設(shè)定，在多層體的一復(fù)制層的一第一區(qū)域內(nèi)成形一衍射的第一表面結(jié)構(gòu)；在該第一區(qū)域內(nèi)和一第二區(qū)域內(nèi)將一金屬層涂覆到復(fù)制層上，在該第二區(qū)域內(nèi)未在復(fù)制層內(nèi)成形第一表面結(jié)構(gòu)，其中或第一區(qū)域或第二區(qū)域由大量顯微的細(xì)小的圖案區(qū)域構(gòu)成，它們設(shè)置在一線光柵中或一具有光柵寬度D的面光柵中并且分別通過完全限定或包圍每個(gè)分區(qū)域的第二區(qū)域或第一區(qū)域以一彼此間距B彼此分離地設(shè)置；將一感光層涂覆到金屬層上或作為復(fù)制層涂覆一感光的洗滌掩膜；感光層或洗滌掩膜穿過金屬層曝光，從而感光層或洗滌掩膜由第一表面結(jié)構(gòu)決定地在第一和第二區(qū)域內(nèi)不同地曝光；并且在應(yīng)用膝光的感光層或作為掩膜層的洗滌掩膜的情況下在第一區(qū)域內(nèi)但不在第二區(qū)域內(nèi)去除金屬層，或在第二區(qū)域內(nèi)但不在第一區(qū)域內(nèi)去除金屬層。該目的還利用一種多層體、特別是一種轉(zhuǎn)印薄膜來達(dá)到，包括一復(fù)制層和一在復(fù)制層上設(shè)置的金屬層，其中設(shè)定，多層體具有大量顯微的細(xì)小的圖案區(qū)域和一完全限定或包圍每個(gè)圖案區(qū)域的背景區(qū)域，其中各圖案區(qū)域設(shè)置在一線光柵中或一具有光柵寬度D的面光柵中，各圖案區(qū)域分別通過背景區(qū)域以一彼此間距B彼此分離地設(shè)置，光柵寬度D小于500nm并且光柵寬度D對間距B的比例在5至200之間的范圍內(nèi)；并且或在背景區(qū)域內(nèi)或在圖案區(qū)域內(nèi)去除金屬層。因此設(shè)定，為了制造在一光柵上定位的顯微的細(xì)小的島狀結(jié)構(gòu)，在表面結(jié)構(gòu)上涂覆的金屬層本身構(gòu)成一曝光的掩膜，其中金屬層的光效應(yīng)總是通過表面結(jié)構(gòu)確定，其設(shè)置在表面結(jié)構(gòu)上。按這種方式可以達(dá)到起膝光掩膜作用的金屬層的一套準(zhǔn)保持地部分地去除，而且以高的分辨率和質(zhì)量實(shí)現(xiàn)，其為了制造顯微的細(xì)小的島狀結(jié)構(gòu)是必需的。術(shù)語"光柵"在這里不僅用作為一面積的均勻的分段。更確切地說也是不均勻的或隨機(jī)的光柵，例如調(diào)頻的光柵，如其在印刷工業(yè)應(yīng)用的，理解為"光柵"。因此在各島狀區(qū)域內(nèi)面積的明確的分段，其構(gòu)成完全隨機(jī)的。各島狀區(qū)域之間的直線也可以是彎曲的和/或有變化的厚度。在光柵寬度D和/或間距B中也可以涉及整體的平均值。此外可以涉及線光柵，即涉及一維的光柵或涉及多維的光柵，例如面光柵。通過本發(fā)明因此提供一種制造方法用于部分地涂金屬的多層體，特別是用于包括各顯微的細(xì)小的島狀區(qū)域的部分地涂金屬的薄膜，該方法是特別有效的和低成本的。通過一按照本發(fā)明的多層體的特別構(gòu)造獲得其他的以下優(yōu)點(diǎn)該構(gòu)造通過人的肉眼是看不到的。這樣顯現(xiàn)一本發(fā)明的多層體的金屬層，多層體設(shè)有上述的涂金屬的島狀圖案區(qū)域的特別的結(jié)構(gòu)，其一方面對于人的肉眼來說如同均勻的金屬表面。另一方面金屬層是不導(dǎo)電的，但對于直到微波區(qū)域的電磁輻射來說是穿透的。因此多層體可以例如遭受一微波的輻射，而無明顯地加熱。由此借助于本發(fā)明的多層體可實(shí)現(xiàn)一金屬顯現(xiàn)的但不導(dǎo)電的表面。通過各參數(shù)例如光柵寬度D和/或圖案區(qū)域的間距B和/或光柵的型式的適當(dāng)?shù)膶?shí)施形式還可以構(gòu)成依賴于頻率的導(dǎo)電率的效應(yīng)。這意味著按照激發(fā)頻率可以存在或不存在一導(dǎo)電率。如果在各圖案區(qū)域內(nèi)涉及反光的區(qū)域，則一構(gòu)成為薄膜的多層體覺察為一金屬的反射薄膜。一這樣的薄膜可以例如用于電子裝置的裝飾，例如電視機(jī)，其應(yīng)該具有不導(dǎo)電的表面。另一方面通過表面結(jié)構(gòu)的變化可以制造一透明的薄膜，其具有一導(dǎo)電的表面。一這樣的導(dǎo)電的薄膜可以例如具有許多去金屬化的圖案區(qū)域，其由一涂金屬的背景區(qū)域包圍。該薄膜可以例如用作為透明的屏蔽薄膜，其盡管其透明性但由于成網(wǎng)狀構(gòu)成的涂金屬的背景區(qū)域可以隔離電磁輻射或?qū)ё哽o電荷?？梢岳缤ㄟ^金屬層的層厚的變化或通過比例D/B的變化調(diào)整任意的導(dǎo)電率。如果設(shè)置一線光柵，則一多層體可以例如構(gòu)成為一薄膜，其在一個(gè)方向是絕緣的而在另一方向是導(dǎo)電的。有利的實(shí)施形式描述于諸從屬權(quán)利要求中。優(yōu)選可以設(shè)定，光柵寬度D在l|im至500|am的范圍內(nèi)選擇，優(yōu)選在5nm至300|iim的范圍內(nèi)選擇。也可以設(shè)定，光柵寬度處在lO^im至250nm的范圍內(nèi)。如果光柵寬度D處在這些范圍內(nèi)，則一方面避免多層體的引入注目的衍射效應(yīng)而另一方面各圖案區(qū)域逐個(gè)地是看不見的，因?yàn)榉侄翁幵谌说娜庋鄣姆直媛蕵O限以下。此外可以設(shè)定，光柵寬度D對間距B的比例在5至200的范圍內(nèi)選擇。利用比例D/B可以特別影響多層體的電絕緣強(qiáng)度。設(shè)定，將金屬層整面地以不變的表面密度涂覆、優(yōu)選蒸鍍到一由復(fù)制層展開的平面上。一這樣的方法是低成本的并且可很好地控制金屬層的層厚。在一有利的實(shí)施形式中設(shè)定，將金屬層整面地以一厚度涂覆到復(fù)制層上，其中金屬層在一無表面結(jié)構(gòu)的復(fù)制層的區(qū)域內(nèi)具有一在1與7之間的光密度。通過以下還要更詳細(xì)描述的復(fù)制層的表面結(jié)構(gòu)的深度對寬度比例調(diào)節(jié)不同的透射的效應(yīng)、特別是透明性。在金屬層中可以涉及一金屬，例如鋁、銀、金、銅、鉻或涉及它們和/或其他的金屬的合金或涉及一上述各金屬的層序。還可以設(shè)定，在第二區(qū)域內(nèi)在復(fù)制層中成形一第二表面結(jié)構(gòu)并且作為第一衍射的表面結(jié)構(gòu)在復(fù)制層中成形一表面結(jié)構(gòu)，其相對于金屬層在第二區(qū)域內(nèi)的透射、特別的透明性提高該金屬層在第一區(qū)域內(nèi)的透射、特別是透明性，或反之。因此按這種方式可以借助于復(fù)制層中的表面結(jié)構(gòu)影響金屬層的透射、特別是透明性或光密度。在透射或透明性中的已經(jīng)微小的差異，其例如通過人眼不再是可看見的，在適當(dāng)?shù)闹圃鞐l件下為了將金屬層用作為曝光掩膜可以是足夠的。由于復(fù)制層可以低成本地以一很細(xì)小的表面結(jié)構(gòu)構(gòu)成，在金屬層的部分去金屬化中需要的高的分辨率同樣可以低成本地實(shí)現(xiàn)?？梢栽O(shè)定，第一表面結(jié)構(gòu)比第二表面結(jié)構(gòu)具有一較大的凸紋深度或反之。在另一實(shí)施形式中可以設(shè)定，由第一表面結(jié)構(gòu)的線間頻率和凸紋深度構(gòu)成的乘積(Produkt)大于由第二表面結(jié)構(gòu)的線間頻率和凸紋深度構(gòu)成的乘積，或反之。線間頻率以"線/mm"表示并且是衍射結(jié)構(gòu)的一典型的特征。在優(yōu)選的5nm至30(Him的光柵寬度的情況下其有利地在500線/mm與5000線/mm之間選擇。在具有隨才/U的外形的結(jié)構(gòu)中，例如磨砂結(jié)構(gòu)，作為特性參數(shù)采用一典型的各凸起之間的間距或例如所謂相關(guān)長度。該特性參數(shù)類似地在0.2與2.0jLim之間。可以設(shè)定，在第一區(qū)域內(nèi)作為第一衍射的表面結(jié)構(gòu)成形一表面結(jié)構(gòu)，其具有各個(gè)結(jié)構(gòu)元件的一高的深度對寬度比例、特別是具有一深度對寬度比例>0.3并且第二表面結(jié)構(gòu)構(gòu)成為具有較低的深度對寬度比例的表面結(jié)構(gòu)，或反之。無量綱的深度對寬度比例，經(jīng)常也稱為縱橫比，是通過優(yōu)選周期的結(jié)構(gòu)的表面擴(kuò)大的一典型的特征。一這樣的結(jié)構(gòu)在"峰"和"谷"的周期的序列中構(gòu)成。在這里"峰"與"谷"之間的間距稱為深度，兩"峰，，之間的間距稱為寬度?，F(xiàn)在深度對寬度比例越高，"峰側(cè)面"構(gòu)成越陡的并且一在"峰側(cè)面，，上沉積的金屬層構(gòu)成越薄的。如果涉及離散地分布的"谷"，它們可以以一大于"谷"的深度多倍的彼此間距設(shè)置，則也應(yīng)該遵守這樣的效應(yīng)。在一這樣的情況下規(guī)定"谷，，的深度對"谷"的寬度的比例，以便通過深度對寬度比例的參數(shù)準(zhǔn)確地描述"谷"的幾何形狀。因此有可能借助于深度對寬度比例在表面結(jié)構(gòu)的區(qū)域內(nèi)調(diào)整金屬層的有效的厚度。其他的有利的實(shí)施形式針對曝光的構(gòu)型和感光層的顯影以及金屬層的腐蝕。可以設(shè)定，作為感光層或作為感光的洗滌掩膜涂覆一種具有二元特征的感光材料，并且將感光層或感光的洗滌掩膜穿過金屬層在一啄光強(qiáng)度和瀑光持續(xù)時(shí)間內(nèi)曝光；將感光層或感光的洗滌掩膜在第一區(qū)域內(nèi)或在第二區(qū)域內(nèi)激活和在第二區(qū)域內(nèi)不激活，或反之，其中在第二區(qū)域內(nèi)由第一表面結(jié)構(gòu)決定地提高金屬層的透射、特別是透明性。對此可以設(shè)定，將感光層或洗滌掩膜穿過金屬層借助于UV輻射膝光。UV輻射是比日光能量充足并因此是經(jīng)常優(yōu)選的。隨后在一洗滌過程中可以去除感光的洗滌掩膜的通過膝光激活的區(qū)域和金屬層的在其上設(shè)置的區(qū)域。但還可以設(shè)定，使曝光的感光層顯影并且顯影的感光層構(gòu)成金屬層的一蝕刻掩膜。另一有利的實(shí)施形式設(shè)定，將感光層通過在第一區(qū)域內(nèi)的曝光激活，在該區(qū)域內(nèi)通過第一表面結(jié)構(gòu)提高金屬層的透射、特別是透明性，并且激活的可感光的層構(gòu)成一金屬層的腐蝕劑。可以設(shè)定，感光層由一光電阻構(gòu)成。光電阻可以構(gòu)成為正光電阻或負(fù)光電阻。在感光層中可以涉及一感光聚合物。還可以設(shè)定，在除蝕刻掩膜的殘留物。一為制造部分涂金屬的多層體的可能的起點(diǎn)因此是金屬層，其涂覆一光電阻膜。如上所述，典型地通過光電阻的膝光、顯影或光電阻的腐蝕和金屬層的腐蝕包括光電阻作為蝕刻掩膜實(shí)現(xiàn)結(jié)構(gòu)化。光電阻的曝光可以例如這樣實(shí)現(xiàn)-帶式爆光器，其中輸送一帶形的膝光掩膜與多層體接觸并且穿過掩膜使光電阻在多層體上曝光；-利用一聚焦的激光射束的受控的曝光，亦即將一激光射束通過一控制裝置借助于一掃描裝置和必要時(shí)一聚焦鏡組沿多層體運(yùn)動(dòng)；-掩膜，其經(jīng)由一投影光學(xué)投射到多層體上。該方法可以在"分步重復(fù)，，的意義上實(shí)現(xiàn)或借助于一套準(zhǔn)控制的閃光燈實(shí)現(xiàn)。并且掩膜可以是電子控制的和可變的，例如一"線間的光調(diào)制器"。有利地總是在光電阻面上實(shí)現(xiàn)膝光，但其也可以穿過金屬層實(shí)現(xiàn)。此外也可以通過直接的激光輻射(燒蝕)實(shí)現(xiàn)結(jié)構(gòu)化，而不需要借助于光電阻作為"增強(qiáng)器"繞道。對此可以直接利用金屬層在具有吸收性能。此外可以通過金屬層的依賴于結(jié)構(gòu)的蝕刻性能的利用實(shí)現(xiàn)結(jié)構(gòu)化。如果用一金屬層氣相噴鍍上述的構(gòu)造成的表面和遭受一適合的腐蝕劑，則顯現(xiàn)的具有高縱橫比的區(qū)域在一確定的時(shí)間以后是透明的，在此期間未構(gòu)造成的區(qū)域或具有微小的縱橫比的區(qū)域總是仍在相當(dāng)大程度上呈現(xiàn)不透明的。當(dāng)例如在具有表面結(jié)構(gòu)和金屬層的有效的較薄的層厚的復(fù)制層的區(qū)域內(nèi)產(chǎn)生了透明性時(shí)就終止一這樣時(shí)間控制的蝕刻過程，而在無表面結(jié)構(gòu)和金屬層的有效的較厚的層厚的復(fù)制層的區(qū)域內(nèi)仍存在一不透明的金屬層。即使在未構(gòu)造成的區(qū)域內(nèi)出現(xiàn)的金屬層的蝕刻通常也通過開始時(shí)提高的蒸鍍的金屬層的光密度給以預(yù)補(bǔ)償。作為應(yīng)用情況可以例如擬定一手機(jī)外殼的構(gòu)成。還可以設(shè)定包括傳統(tǒng)的去金屬化方法的組合。因此可以設(shè)定，通過傳統(tǒng)的去金屬化將其他的區(qū)域完全或部分地去金屬化。此外可以將多層體的一個(gè)或多個(gè)層例如轉(zhuǎn)印薄膜的轉(zhuǎn)印層染色，以便產(chǎn)生一視覺印象。對此多層體除金屬層外還可以包括至少一個(gè)全面或部分地構(gòu)成的透明的或不透明的有色層。對此特別優(yōu)選的是，至少一個(gè)有色層套準(zhǔn)于金屬層構(gòu)成，特別是設(shè)置在不含金屬層的第一或第二區(qū)域內(nèi)，借此可以達(dá)到一有色的印象和/或?qū)⒍鄬芋w盡管有部分涂金屬仍構(gòu)成不透明的。特別優(yōu)選的是，至少一個(gè)有色層設(shè)置在不含金屬層的第一或第二區(qū)域內(nèi)并且還具有一類似于金屬層的顏色。這樣在一銀的金屬層時(shí)優(yōu)選一灰白的層或在一金的金屬層時(shí)優(yōu)選一淡黃色的層，其有助于使人的眼睛產(chǎn)生一無間斷存在的反光的金屬層的印象。對此還已證明適用的是，至少一個(gè)有色層或構(gòu)成為一導(dǎo)電層，其例如包含非金屬導(dǎo)電材料，如碳或聚合物；或構(gòu)成為電緣絕層，其例如提高擊穿電壓。最后所述至少一個(gè)有色層也可以是一半傳導(dǎo)層。優(yōu)選至少一個(gè)有色層不包含金屬。特別已證明適用的是，以不同的顏色構(gòu)成至少兩個(gè)、特別是至少三個(gè)有色層、優(yōu)選由顏色系統(tǒng)CMYK中實(shí)現(xiàn)一種選擇。但也可以使用這樣的染料，其只在一確定的波長范圍內(nèi)是不透明的或透明的并且例如在用UV光膝光時(shí)起濾光器的作用。由此借助于印刷可以達(dá)到導(dǎo)電率的附加的局部結(jié)構(gòu)化，而且其可以通過光源的光語的選擇加以影響。在另一有利的實(shí)施形式中設(shè)定，電鍍地加強(qiáng)金屬層。對此也有可能通過一第二金屬或一金屬合金加強(qiáng)該層。在膝光以后部分地去除光電阻，從而相應(yīng)地露出金屬層的金屬的區(qū)域。現(xiàn)在在露出的區(qū)域內(nèi)實(shí)現(xiàn)電鍍的構(gòu)造，在此期間用光電阻覆蓋的區(qū)域基本上用來確保對于電鍍的構(gòu)造需要的導(dǎo)電率。緊接著也由該區(qū)域去除光電阻。隨后通過腐蝕去除在背景區(qū)域內(nèi)剩下的薄金屬層。對于本發(fā)明的多層體可以設(shè)定，構(gòu)成具有不變的光柵寬度D的光柵。在另一實(shí)施形式中可以設(shè)定，構(gòu)成具有變化的光柵寬度D的光柵。還可以i殳定，光柵寬度D優(yōu)選在士40。/o的范圍內(nèi)隨才幾分配地改變。利用一這樣的隨機(jī)分配的光柵寬度的變化可以抵制波紋的出現(xiàn)，和避免衍射效應(yīng)，其在具有不變的光柵寬度的光柵中有時(shí)可以以明顯變成干擾的。但也可以設(shè)定一波紋效應(yīng)的構(gòu)成，如果借此要達(dá)到一特別的光效果的話。第一或第二表面結(jié)構(gòu)可以構(gòu)成為光活性的反射的或傳送的光衍射的和/或光折射的和/或光散射的微米結(jié)構(gòu)或納米結(jié)構(gòu)，例如構(gòu)成為光柵結(jié)構(gòu)如線光柵或十字光柵，構(gòu)成為多個(gè)光柵結(jié)構(gòu)的重疊，構(gòu)成為各向同性的或各向異性的磨砂結(jié)構(gòu)，構(gòu)成為二元的或連續(xù)的菲涅耳透鏡，構(gòu)成為顯微棱鏡、閃光光柵、組合結(jié)構(gòu)或宏觀結(jié)構(gòu)。按這種方式可以構(gòu)成許多有趣的光效應(yīng)。因此有可能構(gòu)成一不導(dǎo)電的呈現(xiàn)金屬的全息照片或KINEGRAM。因部分去金屬化只微小地減小反射能力，從而基本上以如導(dǎo)電型式相同的強(qiáng)度看到全息照片。由于加網(wǎng)在肉眼的分辨率極限以下，只要將加網(wǎng)選擇成沒有包括全息照片的設(shè)計(jì)元件的波紋效應(yīng)出現(xiàn)，則其對于人觀察者來說保留隱藏的。在機(jī)械的評價(jià)中也沒有質(zhì)量損失要擔(dān)心的。通過加網(wǎng)的局部的變化可以明顯可見地改變不導(dǎo)電的反射薄膜的透射性能，在此期間只不明顯地改變反射性能。在反射光的觀察中因此看不到任何信息，而在透射光的觀察中其例如顯示為具有圖案的圖形。還可以設(shè)定，多層體具有一第二金屬層，其套準(zhǔn)于一第一金屬層和/或至少一個(gè)有色層而設(shè)置。借此可以構(gòu)成其他的有趣的效果。各金屬層可以具有不同的厚度，借此可進(jìn)一步構(gòu)成一方面多層體的電特性和另一方面多層體的光特性。這樣可以設(shè)定，以一層厚涂覆至少一個(gè)金屬層，其中其在可見的范圍內(nèi)部分地是透明的。為此待選擇的層厚是依賴于材料的。幾10nm的層厚已可以是不透明的，亦即顯現(xiàn)不透明的。例如鋁在其光密度處在1至5的范圍內(nèi)時(shí)呈現(xiàn)不透明的。該層厚還通過復(fù)制層的表面結(jié)構(gòu)的深度對寬度比例來確定，在其上沉積金屬層。雖然具有光透明性，金屬層仍可具有一導(dǎo)電率，其對于許多應(yīng)用情況是足夠的?？梢岳缭O(shè)定，將一這樣的構(gòu)成為薄膜的多層體用于電磁輻射的屏蔽或用于導(dǎo)走靜電負(fù)荷。因此該多層體特別可以作為包裝薄膜用于對靜電敏感的構(gòu)件，例如微處理器。還可以設(shè)定，±構(gòu)成一這樣的只具有一金屬層的薄膜，如另外以上所述。還可以設(shè)定，將各金屬層之間的間距選擇成使其發(fā)生干涉效應(yīng)。為此可以以(2n+l)X/2或(4n+l)A74的間距設(shè)置各金屬層，其中n包括0的整數(shù)，而i表示光的波長。通過在各薄層上的干涉產(chǎn)生色彩變化，如其例如由油膜在水表面上已知的。按這種方式可以構(gòu)成有趣的光效果，其例如可以用作為裝飾目的或可以構(gòu)成一可很難仿造的安全特征。其他的有利的實(shí)施形式針對表面結(jié)構(gòu)的構(gòu)型，其能夠構(gòu)成其他的光效果?？梢栽O(shè)定，各金屬層具有一不同的第一表面結(jié)構(gòu)和/或第二表面結(jié)構(gòu)和/或其第一區(qū)域和/或其第二區(qū)域設(shè)置成不同的。兩金屬層的各圖案區(qū)域可以例如成棋盤狀相互位錯(cuò)設(shè)置并且以顏色不同的金屬構(gòu)成，例如鋁和銅。對此一層的各圖案區(qū)域也構(gòu)成多個(gè)組，其由于其尺寸通過人的眼睛可以看到。在各組中可以例如涉及許多像點(diǎn)，它們總地設(shè)置成一圖案的或文字上的圖形。還可以設(shè)定，在第一表面結(jié)構(gòu)中和/或在第二表面結(jié)構(gòu)中涉及一衍射光的表面結(jié)構(gòu)，例如一全息照片、Kinegram⑧等。按這種方式例如一涂金屬的全息照片或Kinegram可以設(shè)有一不導(dǎo)電的表面或反射層。因此可以作為安全特征涂覆在食品包裝件上，其連同內(nèi)含物要在一微波中遭受微波輻射。但也有可能將這樣的安全特征涂覆在紙幣或文件上并且通過微波輻射實(shí)施真實(shí)性檢驗(yàn)。按這種方式可以識別仿造的安全特征并同時(shí)被破壞。還可以設(shè)定，第一表面結(jié)構(gòu)和/或第二表面結(jié)構(gòu)涉及一磨砂結(jié)構(gòu)。另外如上所述，利用本發(fā)明的方法可以制造反射薄膜，其具有不導(dǎo)電的表面。但島狀的涂金屬的區(qū)域的表面結(jié)構(gòu)也可以構(gòu)成為磨砂結(jié)構(gòu)或以另一種方式構(gòu)成，以便仿造金屬表面的各種各樣的光印象，例如具有磨砂的金屬光澤的梳理的表面。也可用其他的透明的或染色的層覆蓋金屬的反射層。在另一有利的實(shí)施形式中，圖案區(qū)域和/或背景區(qū)域可以構(gòu)造成一顯微文字或一顯微圖的形式，顯微文字或顯微圖可以構(gòu)成一安全特征，其由人的肉眼是看不到的并且只可很難地仿造。顯微文字或顯微圖或一條形碼可以構(gòu)成為涂金屬的或未涂金屬的子區(qū)域。因此在一涂金屬的圖案區(qū)域內(nèi)通過在那里在復(fù)制層中成形另一不同于在圖案區(qū)域本身內(nèi)的表面結(jié)構(gòu)可以例如構(gòu)成未涂金屬的子區(qū)域。另一表面結(jié)構(gòu)的包絡(luò)曲線同時(shí)構(gòu)成顯微文字或顯微圖的邊緣輪廓。但也可以涉及一涂金屬的子區(qū)域，其在其光效果上不同于包圍它的圖案區(qū)域，亦即例如在薄膜傾斜或翻轉(zhuǎn)時(shí)出現(xiàn)色彩變化。以類似的方式顯微文字或顯微圖可以制入背景區(qū)域內(nèi)，其中有利地可以設(shè)定，涂金屬的顯微文字或顯微圖通過未涂金屬的區(qū)域與涂金屬的圖案區(qū)域分離，如果要構(gòu)成具有不導(dǎo)電的表面的薄膜的話。還可設(shè)定，圖案區(qū)域和/或背景區(qū)域構(gòu)造成一隱蔽的圖案的形式，其通過一波紋檢驗(yàn)器，亦即一單獨(dú)的檢驗(yàn)牌是可顯示的。也只很難仿造一這樣的安全特征。本發(fā)明的多層體除以上所述之外的其他的可能的應(yīng)用情況可以是—OLED(發(fā)光二極管)；-傳感器裝置，例如具有敏感層的傳感器，其靈敏地對濕度、氧、光、熱、冷等起反應(yīng)；-具有導(dǎo)電的結(jié)構(gòu)的安全元件，其可借助于探測器檢查；-印刷電路板；-電子構(gòu)件。對此可以在多層體中設(shè)置其他的可能只部分地成形的功能層，如半導(dǎo)體層、絕緣層、敏感層等，其具有光的和/或電的特性。許多其他的應(yīng)用和/或附加效果是可能的，例如-在多層體的表面上實(shí)現(xiàn)多個(gè)特別的測試點(diǎn)，其允許進(jìn)行導(dǎo)電率的檢測；-金屬層的厚度變化；-利用偏振的光的曝光；-部分涂金屬的區(qū)域的參數(shù)的與頻率有關(guān)的設(shè)計(jì)；-通過其他的電子構(gòu)件對構(gòu)成有構(gòu)造成的導(dǎo)電率的多層體的補(bǔ)充。以下根據(jù)多個(gè)實(shí)施例借助于附圖示例性說明本發(fā)明。其中圖l第一實(shí)施例的示意的剖視圖；圖2第一實(shí)施例的示意的俯視圖；圖3第二實(shí)施例的示意的俯視圖；圖4第三實(shí)施例的示意的俯視圖；圖5第四實(shí)施例的示意的俯視圖；圖6第五實(shí)施例的示意的剖視圖；圖7第六實(shí)施例的示意的俯視圖；圖8第一實(shí)施例的制造階段的示意的剖視圖；圖9按圖8的另一制造階段；圖10按圖8的最后的制造階段；圖11第七實(shí)施例的示意的俯視圖。具體實(shí)施例方式圖1示出一作為多層的薄膜體1的多層體，其中可以涉及一熱鑄薄膜。在可以由一約20nm厚的聚酯薄膜構(gòu)成的載體薄膜IO上涂覆一復(fù)制層12。復(fù)制層12可以涉及一熱塑性塑料層，在其中借助于一復(fù)制工具成形一圖案。但也可以涉及一UV硬化的漆，在其中通過掩膜曝光借助于UV光制出圖案或由成形起實(shí)現(xiàn)一具有表面結(jié)構(gòu)的模型。復(fù)制層12具有一部分沖孔的金屬層14，其可以例如由鋁、銅、銀、金或鉻構(gòu)成。作為最后的層在載體薄膜10的遠(yuǎn)離復(fù)制層12的側(cè)面上涂覆一膠粘劑層16，借助于它可將薄膜體l轉(zhuǎn)到一基材上。在膠粘劑層16中可以優(yōu)選涉及一熱膠粘劑。作為另一方案，膠粘劑層16也可以涂覆到金屬層上。特別是包括復(fù)制層、金屬層和膠粘劑層的結(jié)合可以構(gòu)成為轉(zhuǎn)印層，其粘貼到一基材上，同時(shí)緊接著可以剝?nèi)ポd體IO。圖2現(xiàn)在在俯視圖中詳細(xì)示出金屬層14的構(gòu)成。金屬層14分成各個(gè)島狀的區(qū)域14m，它們分別由復(fù)制層12的各個(gè)寬度為B的去金屬化的區(qū)域14d包圍。各去金屬化的區(qū)域14d構(gòu)成一連接在一起的背景區(qū)域。各區(qū)域14m設(shè)置在一具有光柵寬度D的光柵中，其中各光柵線用位置14r標(biāo)記。它們在圖2所示的實(shí)施例中構(gòu)成為邊長為F的正方形場，邊長F小于光柵寬度D:F=D-B光柵寬度D和光柵寬度D對寬度B比例現(xiàn)在選擇成使金屬層14的結(jié)造通過人的肉眼是看不見的。對此遵守下列邊界條件-通過最大發(fā)生的電的擊穿電壓確定光柵寬度D對寬度B比例的最小允許的值，同時(shí)考慮到外來的影響如空氣濕度、手汗和污染可能降低去金屬化的區(qū)域14d的絕緣效果，并且通過或許有意涂覆的電介護(hù)層確定擊穿電壓。這些護(hù)層可以包括薄膜1的各部分，例如復(fù)制層或膠粘劑；-通過衍射效應(yīng)限定光柵寬度D的最小允許的值，該衍射效應(yīng)可以以光波長的數(shù)量級出現(xiàn)在結(jié)構(gòu)上并且破壞一封閉的金屬表面的印象，或者產(chǎn)生不符合要求的色彩效果；-通過人的眼睛的分辨力限定寬度B和/或光柵寬度D的最大允許的值。如果選擇過大的光柵寬度D和/或?qū)挾菳,則由肉眼可以看出加網(wǎng)。各涂金屬的區(qū)域14m可以構(gòu)成為反射的表面，從而薄膜體l以反射薄膜出現(xiàn)。但在區(qū)域14m中也可制出衍射光的結(jié)構(gòu)，例如一全息照片，或其可以構(gòu)成掩膜結(jié)構(gòu)。按這種方式可以產(chǎn)生各種各樣的光效果，其超出一光學(xué)上一致的金屬表面的復(fù)膜向外看。例如可以將"金屬的"微波適宜的安全特征、商標(biāo)或印字設(shè)置在完成食物的包裝件上，其在微波中加熱時(shí)不被破壞，因?yàn)槠渖婕安粚?dǎo)電的金屬表面。安全元件，如其應(yīng)用在文件和紙幣上，可以按這種方式配備一附加的安全元件，其在于，一這樣的安全元件通過微波輻射是不可破壞的。此外電子裝置如電視機(jī)可以設(shè)有一不導(dǎo)電的金屬表面。金屬層對此不必位于物理表面上，而也可以嵌入各電介層之間，例如作為一轉(zhuǎn)印層的部分或在制造殼體部件的過程中注塑成型。雖然在圖2所示的實(shí)施例中的光柵涉及一正方形光柵，其光柵寬度D在坐標(biāo)方向x和y是相等的，但也可以設(shè)定，光柵寬度D在x坐標(biāo)方向和y坐標(biāo)方向是不同的。同樣涂金屬的區(qū)域14m的邊長F和/或去金屬化的區(qū)域14d的寬度B構(gòu)成不同的。涂金屬的區(qū)域14m也可以涉及矩形的、圓形的、橢圓形的或其他成形的具有封閉的輪廓的區(qū)域。在一正方形光柵中，如圖2中所示，可以優(yōu)選正方形、圓周和規(guī)則的多邊形作為涂金屬的區(qū)域的輪廓。也可以設(shè)定，構(gòu)成直線形的涂金屬的區(qū)域14m，其通過直線形的去金屬化的區(qū)域14d彼此分離。因此各涂金屬區(qū)域14m設(shè)置在一線光柵中，亦即在一維的光柵中。因此一這樣的薄膜體沿垂直于直線形的區(qū)域14m、14d延伸的方向是絕緣的并且在平行于直線形區(qū)域14m、14d延伸的方向構(gòu)成導(dǎo)電的。圖3現(xiàn)在示出一第二實(shí)施例，其中光柵寬度以隨機(jī)的方式關(guān)于值D。土40。/。變化。圖3中涉及一在俯視圖所示的薄膜體2，其中不僅涂金屬的區(qū)域24m而且去金屬化的區(qū)域24d構(gòu)成不規(guī)則成形的，其中與一正方形光柵的偏差不大于40%。利用一這樣的實(shí)施形式可以避免出現(xiàn)波紋效應(yīng)或干擾的4汙射效應(yīng)。圖4示出一第三實(shí)施例的示意圖，其通過圖2中第一實(shí)施例的變化構(gòu)成。一金屬層34現(xiàn)在這樣構(gòu)成，即在彼此絕緣的各涂金屬的區(qū)域34m的旁邊相互連接金屬層34的各區(qū)域并且這樣構(gòu)成各個(gè)印制導(dǎo)線341。按這種方式可以例如構(gòu)成天線，其對于人的肉眼來說是看不見的。由于在涂金屬的區(qū)域34m、341下面設(shè)置的復(fù)制層可以具有一衍射光的凸紋結(jié)構(gòu)，例如為一全息照片的形式，這樣，安全元件也可以設(shè)有電的功能元件。一這樣的安全元件的多層體可以具有其他的層，其例如構(gòu)成一RFID(無線電場)特征(Tag),亦即一開關(guān)電路，其用于借助于無線電波的識別。此外背景區(qū)域，亦即在涂金屬的區(qū)域34m、341之間填滿一不透明的有色層。圖5現(xiàn)在示出第四實(shí)施例，其中在薄膜體4涂覆的金屬層44構(gòu)成為在相當(dāng)大程度上透明的導(dǎo)電層。與圖2中所示的第一實(shí)施例相比現(xiàn)在各島狀的去金屬化的區(qū)域44d由各涂金屬的條形的區(qū)域44m包圍，它們相互連結(jié)并且按這種方式構(gòu)成一連接在一起的導(dǎo)電的表面區(qū)域。該表面區(qū)域具有一細(xì)網(wǎng)眼的網(wǎng)格的形式。金屬層44可以用作為對電》茲場的屏蔽或用于導(dǎo)走靜電荷。也可以設(shè)定，在金屬層44上設(shè)置其他的層，例如一保護(hù)漆層或一有色層，而不降低屏蔽效應(yīng)。此外薄膜體4在去金屬化的區(qū)域44d內(nèi)套準(zhǔn)于各條形的金屬的區(qū)域44m可以具有一透明的有色層。為了更好的定向在圖5中畫入各光柵線(參照圖2)。圖6現(xiàn)在示出一薄膜體5,其包括一載體層50、一第一復(fù)制層52a、一第一金屬層54a、一第二復(fù)制層52b、一第二金屬層54b和一膠粘劑層56。兩金屬層54a和54b以這樣的彼此間距設(shè)置，即在各薄的層上可以發(fā)生已知的干涉效應(yīng)。兩金屬層54a和54b還具有不同的厚度。在圖6所示的實(shí)施例中接近載體層50設(shè)置的金屬層54a是較薄的層。其具有一較低的納米范圍內(nèi)的厚度，從而在可見光中部分地呈現(xiàn)透明的。由于一薄的金屬層的透明性還依賴于材料的，符合目的地通過一系列實(shí)驗(yàn)確定需要的層厚。圖7示出一薄膜體6的俯視圖，其中表面以上述的方式具有各個(gè)島狀的涂金屬的區(qū)域64m，其由各個(gè)去金屬化的區(qū)域64d包圍。在區(qū)域64d內(nèi)制出一顯微標(biāo)記，其在所示的實(shí)施例中構(gòu)成為顯微文字，其只用光輔助裝置例如一高倍的放大鏡或一顯微鏡才是可讀的。但也可以設(shè)置顯微圖案。但顯微標(biāo)記可能減小去金屬化的區(qū)域的電絕緣強(qiáng)度，如果其具有一涂金屬的表面的話。所述各實(shí)施例包括，在套準(zhǔn)中實(shí)施金屬層的部分去金屬化。這無疑是可能的，因?yàn)榻饘賹釉O(shè)置在復(fù)制層上，其至少部分地具有一表面外形。如果現(xiàn)在在復(fù)制層上針對由復(fù)制層展開的平面涂覆一具有均勻的表面密度的金屬層，例如通過在真空中的蒸鍍，則可以將表面密度或?qū)雍襁x擇成使涂覆的金屬層根據(jù)表面外形的局部的深度對寬度比例具有一不同的光密度。如果現(xiàn)在將金屬層作為膝光掩膜用于光電阻，亦即光電阻穿過金屬層膝光，則其可以設(shè)計(jì)為一套準(zhǔn)精確的蝕刻掩膜并且將金屬層套準(zhǔn)精確地部分去金屬化。如果涂金屬的區(qū)域要構(gòu)成為反射的區(qū)域，則可以將設(shè)置在各去金屬化的區(qū)域的下面設(shè)置的復(fù)制層區(qū)域內(nèi)成形一具有高的深度對寬度比例的表面外形，例如具有一深度對寬度比值>2并且復(fù)制層在各涂金屬的區(qū)域的下面具有一很小的深度對寬度比例。無量綱的深度對寬度比例經(jīng)常也稱為縱橫比，是優(yōu)選周期的結(jié)構(gòu)的表面擴(kuò)大的一典型的特征。一這樣的結(jié)構(gòu)在周期的"峰"和"谷"的序列中構(gòu)成。在這里"峰"與"谷"之間的間距稱為深度，兩"峰"之間的間距稱為寬度?，F(xiàn)在深度對寬度比例越高，"峰側(cè)面"構(gòu)成越陡的并且一在"峰側(cè)面，，上沉積的金屬層構(gòu)成越薄的。如果涉及離散地分布的"谷"，它們可以以一彼此間距設(shè)置，該間距大于多倍"谷"的深度，則也可觀察到這樣的效應(yīng)。在一這樣的情況下規(guī)定"谷"的深度對"谷"的寬度的比例，以便通過深度對寬度比值的參數(shù)準(zhǔn)確描述"谷"的幾何形狀。因此有可能通過復(fù)制層的表面結(jié)構(gòu)的深度對寬度比例h/d影響金屬層的平均層厚。借此一方面影響金屬層的導(dǎo)電率而另一方面影響其透射或透明性。表l示出在塑料薄膜(折射指數(shù)n-1.5)之間設(shè)置的、由Ag、Al、Au、Cr、Cu、Rh和Ti制成的金屬層在一光波長入=50011111時(shí)求得的反射率。其中厚度比s構(gòu)成為由為最大R咖x的反射率R-80。/。和為最大Rmax的反射率11=20%需要的金屬層厚度t的商。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage21</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage22</column></row><table>由啟發(fā)性觀察得出，銀和金(Ag和Aii)如可看出的具有一高的最大反射率R,和需要一較小的深度對寬度比例用以構(gòu)成透明性。鋁(AO雖然也具有一高的最大反射率Rmax但需要一較高的深度對寬度比例。優(yōu)選因此可以設(shè)定，由4艮和金構(gòu)成金屬層。但也可以設(shè)定，由其他的金屬或金屬合金構(gòu)成金屬層。表2現(xiàn)在示出由對構(gòu)成為直線的、正弦形光柵的具有一光柵間距350nm的表面結(jié)構(gòu)的嚴(yán)格的衍射折射得到的折射結(jié)果，該表面結(jié)構(gòu)具有不同的深度對寬度比例。表面結(jié)構(gòu)用一法向厚度為t^40nm的銀涂覆。入射到表面結(jié)構(gòu)上的光具有波長A^500nm(綠光)并且是TE(橫電磁波)偏振的或TM(橫磁波)偏振的。表2<table>tableseeoriginaldocumentpage22</column></row><table>如表中所示，特別是透明度除了深度對寬度比例外還依賴于輻射的光的偏振。這種依賴性對于不同深度對寬度比例h/d示于表2中。還表明金屬層的透明度或反射率是依賴于波長的。這樣的效應(yīng)對TE偏振光特別好地顯示出來。還表明當(dāng)光的X射角不同于法向的X射角時(shí)透明度降低，亦即當(dāng)光不垂直入射時(shí)透明度降低。這意味著，在表面結(jié)構(gòu)的區(qū)域內(nèi)的金屬層只在光的一有限的X射圓錐內(nèi)可以構(gòu)成透明的。因此可以設(shè)定，金屬層在傾斜觀察時(shí)構(gòu)成不透明的，在這一點(diǎn)上該效應(yīng)可用于金屬層作為選擇性的瀑光掩膜的應(yīng)用。圖8至IO現(xiàn)在一個(gè)用于制造一配合精確的部分去金屬化的金屬層的實(shí)施例。圖8示出一多層的薄膜體81,其如同圖1中描述的薄膜體l構(gòu)成。薄膜體81包括多個(gè)層。在所示的實(shí)施例中涉及一載體薄膜80、一復(fù)制層82和一金屬層84,以及一膠粘劑層86，其涂覆在載體薄膜80的遠(yuǎn)離復(fù)制層82的側(cè)面上。在金屬層84上涂覆一感光層88。感光層88可以例如涉及一UV靈敏的光電阻。對此可以涉及一有機(jī)層，將其通過傳統(tǒng)的涂層方法，如凹版印刷，以液態(tài)的形式涂覆。也可以設(shè)定，蒸鍍感光層或作為干膜層壓上去。圖9中示出感光層88從膠粘劑層86的一側(cè)的曝光，其中示出感光層88處于顯影的狀態(tài)。感光層88的膝光設(shè)有UV光89,其中金屬層84起啄光掩膜作用。在顯影以后感光層88具有各個(gè)區(qū)域88u,在其中包括層88并且具有各個(gè)區(qū)域88b，在其中由于顯影去除層88。如圖9可看出的，區(qū)域88u涉及復(fù)制層82構(gòu)成有一較低的深度對寬度比例的區(qū)域，在所示的實(shí)施例中其為零，而在區(qū)域88b內(nèi)，復(fù)制層88具有一包括高的深度對寬度比例的表面結(jié)構(gòu)。在那里金屬層84構(gòu)成有比在區(qū)域88u內(nèi)較小的厚度，從而金屬層84在兩區(qū)域內(nèi)具有一不同的透射并從而以不同的程度減弱入射的UV光。不需要將金屬層構(gòu)成如此之薄，以致區(qū)域88b在肉眼觀察顯現(xiàn)透明的。一薄膜體81的較小的總透射可以通過一提高的感光層88的曝光劑量來補(bǔ)償。此外考慮到感光層的曝光典型地設(shè)置在接近UV區(qū)域內(nèi)，從而肉眼的觀察印象對于透射的評價(jià)并不是決定性的。在圖8至10所示的實(shí)施例中，感光層88由一正光電阻構(gòu)成。在一這樣的光電阻中曝光的區(qū)域在顯影劑中是可溶解的。與此不同在一負(fù)光電阻中未膝光的區(qū)域在顯影劑中是可溶解的。按這種方式利用金屬層84的不同的區(qū)域的版面設(shè)計(jì)可以套準(zhǔn)精確地去金屬化。還可以i殳定，借助于一后續(xù)的電鍍的處理進(jìn)一步修改金屬層84，例如構(gòu)成有提高的層厚，以便例如如另外以上圖4中所示，構(gòu)成具有改進(jìn)的導(dǎo)電率的印制導(dǎo)線。圖10現(xiàn)在示出薄膜體81處于其最終狀態(tài)，因?yàn)榻柚谝桓g劑在各區(qū)域88b內(nèi)去除金屬層84。因此金屬層84還只存在于各區(qū)域88u內(nèi)并按這種方式構(gòu)成各個(gè)彼此絕緣的島。圖11現(xiàn)在示出一多層體110,其以隨機(jī)的方式分成各個(gè)島區(qū)域114。因此各光柵線114r也隨機(jī)地設(shè)置和構(gòu)成。在圖ll所示的實(shí)施例中各光柵線114r構(gòu)成為直線。但對此也可以涉及彎曲的線。還可以設(shè)定，構(gòu)成具有變化的寬度的線。為了可以應(yīng)用以上圖2中所述的尺寸公式F=D-B或可以確定比例D/B，將光柵寬度D和寬度B作為平均值在全部島區(qū)域114上確定。如以上圖3中所述，可以優(yōu)選設(shè)定，光柵寬度D的變化^±40%?？梢栽谝淮蟮姆秶鷥?nèi)改變島區(qū)域114的尺寸和形狀，同樣改變島區(qū)域的重心的位置。仍然設(shè)定，各島區(qū)域典型地具有一平均的尺寸<250pm并且在平均的島尺寸與中斷的寬度之間的比例在5與200之間。圖11所示的實(shí)施例中各島區(qū)域114可以是涂金屬的并且通過各光柵線114r表明特征的背景區(qū)域是去金屬化的或反之。權(quán)利要求1.用于制造一具有可調(diào)的或確定的導(dǎo)電率的多層體的方法，其特征在于，在多層體的一復(fù)制層(12，52a，52b，82)的第一區(qū)域內(nèi)成形一衍射的第一表面結(jié)構(gòu)，在該第一區(qū)域內(nèi)和一第二區(qū)域內(nèi)將一金屬層(14，24，34，64，84)涂覆到復(fù)制層(12，52a，52b，82)上，在該第二區(qū)域未在復(fù)制層(12，52a，52b，82)上成形第一表面結(jié)構(gòu)，其中或第一區(qū)域或第二區(qū)域由大量顯微的細(xì)小的圖案區(qū)域構(gòu)成，所述圖案區(qū)域設(shè)置在一線光柵中或一具有光柵寬度D的面光柵中并且分別通過完全限定或包圍每個(gè)分區(qū)域的第二區(qū)域或第一區(qū)域以一彼此間距B彼此分離地設(shè)置，在金屬層(14，24，34，64，84)上涂覆一感光層(88)或作為復(fù)制層涂覆一感光的洗滌掩膜，感光層(88)或洗滌掩膜穿過金屬層(14，24，34，64，84)曝光，從而感光層(88)或洗滌掩膜由第一表面結(jié)構(gòu)決定地在第一和第二區(qū)域內(nèi)不同地曝光，并且在應(yīng)用曝光的感光層(88)或作為掩膜層的洗滌掩膜的情況下在第一區(qū)域內(nèi)但不在第二區(qū)域內(nèi)去除金屬層(12，24，34，64，84)，或在第二區(qū)域內(nèi)但不在第一區(qū)域去除金屬層(12，24，34，64，84)。2.按照權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在ljam至500|iim的范圍內(nèi)、優(yōu)選在5|im至300|im的范圍內(nèi)選擇光柵寬度D，并且在5至200的范圍內(nèi)選擇光柵寬度D對寬度B的比例。3.按照權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，將金屬層(14,24，34，64，84)整面地以不變的表面密度涂覆、優(yōu)選蒸鍍到一由復(fù)制層(12,52a，52b,82)展開的平面上。4.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，將金屬層(14，24，34，64，84)整面地以一厚度涂覆到復(fù)制層(12,52a，52b，82)上，其中金屬層(14,24，34，64，84)在一無表面結(jié)構(gòu)的復(fù)制層(12，52a，52b，82)的區(qū)域內(nèi)具有一在1與7之間的光密度。5.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，在第二區(qū)域內(nèi)在復(fù)制層(12，52a，52b，82)中成形一第二表面結(jié)構(gòu)并且作為第一衍射的表面結(jié)構(gòu)在復(fù)制層(12，52a，52b，82)中成形一表面結(jié)構(gòu)，其相對于金屬層(14，24，34，64，84)在第二區(qū)域內(nèi)的透射、特別是透明性提高該金屬層(14,24，34,64，84)在第一區(qū)域內(nèi)的透射、特別是透明性，或反之。6.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，第一表面結(jié)構(gòu)具有一比第二表面結(jié)構(gòu)大的凸紋深度，或反之。7.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，由第一表面結(jié)構(gòu)的線間頻率和凸紋深度構(gòu)成的乘積大于由第二表面結(jié)構(gòu)的線間頻率和凸紋深度構(gòu)成的乘積，或反之。8.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，第一或第的和/或光散射的微米結(jié)構(gòu)或納米結(jié)構(gòu)f例如構(gòu)成為光柵結(jié)構(gòu)^如線光柵或十字光柵，構(gòu)成為各向同性的或各向異性的磨砂結(jié)構(gòu)，構(gòu)成為二元的或連續(xù)的菲涅耳透鏡，構(gòu)成為顯微棱鏡、閃光光柵、組合結(jié)構(gòu)或宏觀結(jié)構(gòu)。9.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，在第一區(qū)域內(nèi)作為衍射的第一表面結(jié)構(gòu)成形一表面結(jié)構(gòu)，該表面結(jié)構(gòu)具有各個(gè)結(jié)構(gòu)元件的高的深度對寬度比例、特別是具有一深度對寬度比例>0.3并且第二表面結(jié)構(gòu)構(gòu)造成具有較低的深度對寬度比例的表面結(jié)構(gòu)，或反之。10.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，作為感光層或作為感光的洗滌掩膜涂覆一種具有二元特征的感光材料并且將感光層或感光的洗滌掩膜穿過金屬層(14,24，34，64，84)在一膝光強(qiáng)度和啄光持續(xù)時(shí)間內(nèi)曝光，將感光層(88)或感光的洗滌掩膜在第一區(qū)域內(nèi)激活和在第二區(qū)域內(nèi)不激活，或反之，其中在第一區(qū)域由第一表面結(jié)構(gòu)決定地提高金屬層(14，24,34，64，84)的透射，特別是透明性。11.按照權(quán)利要求IO所述的方法，其特征在于，感光層或洗滌掩膜穿過金屬層借助于uv輻射膝光。12.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，在一洗滌過程中去除感光的洗滌掩膜的通過膝光激活的區(qū)域和金屬層的在其上設(shè)置的區(qū)域。13.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，使膝光的感光層(88)顯影并且顯影的感光層構(gòu)成金屬層(14，24，34，64，84)的一蝕刻掩膜。14.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，將感光層(88)通過在第一或第二區(qū)域內(nèi)的膝光激活，在其中由第一表面結(jié)構(gòu)決定地提高金屬層的透射、特別是透明性，并且激活的可感光的層構(gòu)成一金屬層的腐蝕劑。15.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，感光層由一光電阻構(gòu)成。16.按照權(quán)利要求15所述的方法，其特征在于，光電阻構(gòu)成為正光電阻。17.按照權(quán)利要求15所述的方法，其特征在于，光電阻構(gòu)成為負(fù)光電阻。18.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，感光層構(gòu)成為一感光聚合物。19.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，去除蝕刻掩膜的殘留物。20.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，電鍍地加強(qiáng)金屬層(14，24,34，64，84)。21.按照上述權(quán)利要求之一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，套準(zhǔn)于金屬層設(shè)置至少一個(gè)透明的或不透明的有色層，特別是設(shè)置在不含金屬層(14，24,34，64，84)的第一區(qū)域或第二區(qū)域內(nèi)。22.按權(quán)利要求1至21之一項(xiàng)可得到的多層體，特別是轉(zhuǎn)印薄膜，包括一復(fù)制層(12，52a，52b，82)和一在復(fù)制層(12，52a,52b,82)上設(shè)置的金屬層(14，24，34，64，84);其特征在于，多層體具有大量顯微的細(xì)小的圖案區(qū)域和一完全限定或包圍每個(gè)圖案區(qū)域的背景區(qū)域，其中各圖案區(qū)域設(shè)置在一線光柵中或一具有光柵寬度D的面光柵中，各圖案區(qū)域分別通過背景區(qū)域以一彼此間距B彼此分離地設(shè)置，光柵寬度D小于50(nim并且光柵寬度D對間距B的比例在5至200的范圍內(nèi)，并且或在背景區(qū)域內(nèi)或在圖案區(qū)域內(nèi)存在金屬層。23.按照權(quán)利要求22所述的多層體，其特征在于，光柵寬度D在l|im至500|nm的范圍內(nèi)，優(yōu)選在5fxm至300|Lim的范圍內(nèi)。24.按照權(quán)利要求22或23之一項(xiàng)所述的多層體，其特征在于，復(fù)制層(12，52a,52b，82)在各圖案區(qū)域內(nèi)具有一第一表面結(jié)構(gòu)而在背景區(qū)域內(nèi)具有一第二表面結(jié)構(gòu)，其中第一表面結(jié)構(gòu)和第二表面結(jié)構(gòu)由不同的表面結(jié)構(gòu)構(gòu)成并且這些表面結(jié)構(gòu)中的至少一個(gè)是一衍射的表面結(jié)構(gòu)。25.按照權(quán)利要求22至24之一項(xiàng)所述的多層體，其特征在于，第一表面結(jié)構(gòu)和第二表面結(jié)構(gòu)具有不同的深度對寬度的比例。26.按照權(quán)利要求22至25之一項(xiàng)所述的多層體，其特征在于，構(gòu)成具有不變的光柵寬度D的光柵。27.按照權(quán)利要求22至25之一項(xiàng)所述的多層體，其特征在于，構(gòu)成具有變化的光柵寬度D的光柵。28.按照權(quán)利要求27所述的多層體，其特征在于，光柵寬度D優(yōu)選在一±40%的范圍內(nèi)隨機(jī)分配地變化。29.按照權(quán)利要求22至28之一項(xiàng)所述的多層體，其特征在于，多層體具有一第二金屬層(54b)，該第二金屬層套準(zhǔn)于一第一金屬層(54a)設(shè)置。30.按照權(quán)利要求29所述的多層體，其特征在于，金屬層(54a，54b)具有不同的厚度。31.按照權(quán)利要求29或30所述的多層體，其特征在于，所述金屬層(54a，54b)的至少一個(gè)以一層厚涂覆，該金屬層在該層厚內(nèi)在可見的范圍內(nèi)部分地是透明的。32.按照權(quán)利要求29至31之一項(xiàng)所述的多層體，其特征在于，以(2n+l)入/2或(4n+l)入/4的間距設(shè)置所述金屬層(54a,54b)，其中n是包括0的整數(shù)，而入是光的波長或平均的波長，其為多層體的使用目的而設(shè)置，其中X特別在可見的光語的范圍內(nèi)選擇。33.按照權(quán)利要求29至32之一項(xiàng)所述的多層體，其特征在于，金屬層(14，24，34，64,84)具有一個(gè)不同的第一表面結(jié)構(gòu)和/或第二表面結(jié)構(gòu)和/或其第一區(qū)域和/或其第二區(qū)域設(shè)置成不同的。34.按照權(quán)利要求22至33之一項(xiàng)所述的多層體，其特征在于，第一表面結(jié)構(gòu)和/或第二表面結(jié)構(gòu)涉及一衍射光的表面結(jié)構(gòu)，例如一全息照片、Kinegram⑧等。35.按照權(quán)利要求22至34之一項(xiàng)所述的多層體，其特征在于，第一表面結(jié)構(gòu)和/或第二表面結(jié)構(gòu)涉及一磨砂結(jié)構(gòu)。36.按照權(quán)利要求22至35之一項(xiàng)所述的多層體，其特征在于，圖案區(qū)域和/或背景區(qū)域構(gòu)造成一顯微文字或一顯微圖的形式。37.按照權(quán)利要求22至26之一項(xiàng)所述的多層體，其特征在于，圖案區(qū)域和/或背景區(qū)域構(gòu)造成一隱蔽的圖案的形式，該圖案通過一波紋檢驗(yàn)器是可顯示的。38.按照權(quán)利要求22至37之一項(xiàng)所述的多層體，其特征在于，多層體還包括至少一個(gè)整面或部分地構(gòu)成的透明的或不透明的有色層。39.按照權(quán)利要求38所述的多層體，其特征在于，套準(zhǔn)于金屬層構(gòu)成所述至少一個(gè)有色層，特別是設(shè)置在不含金屬層(14,24,34，64，84)的第一區(qū)域或第二區(qū)域內(nèi)。40.按照權(quán)利要求38或39之一項(xiàng)所述的多層體，其特征在于，所述至少一個(gè)有色層構(gòu)成為一導(dǎo)電的或電絕緣的層。41.按照權(quán)利要求38至40之一項(xiàng)所述的多層體，其特征在于，所述至少一個(gè)有色層構(gòu)成圖案形的。42.按照權(quán)利要求38至41之一項(xiàng)所述的多層體，其特征在于，以不同的顏色構(gòu)成至少兩個(gè)、特別是至少三個(gè)有色層。全文摘要本發(fā)明描述多層體(1)、特別是一轉(zhuǎn)印薄膜，包括一復(fù)制層和一在復(fù)制層上設(shè)置的金屬層，其具有大量顯微的細(xì)小的圖案區(qū)域(14m)和一完全包圍每個(gè)圖案區(qū)域(14m)的背景區(qū)域(14d)，其中各圖案區(qū)域(14m)設(shè)置在一具有光柵寬度D的光柵(14r)中并且各圖案區(qū)域分別通過背景區(qū)域以彼此間距B彼此分離地設(shè)置。還描述一種用于這樣的多層體的制造方法。文檔編號B32B15/08GK101287594SQ200680038431公開日2008年10月15日申請日期2006年8月9日優(yōu)先權(quán)日2005年10月17日發(fā)明者R·施陶布,W·庫爾茨申請人:雷恩哈德庫茲基金兩合公司