專利名稱：一種高光澤真空鍍鋁紙的制備方法及其制備的真空鍍鋁紙的制作方法
一種高光澤真空鍍鋁紙的制備方法及其制備的真空鍍鋁紙技術領域：
本發(fā)明屬于包裝印刷技術領域，涉及真空鍍鋁紙的制備方法及用該方法制備的真 空鍍鋁紙，特別是高檔香煙包裝盒上的高光澤真空鍍鋁紙的制備方法及其制備的高光澤真 空鍍鋁紙。
背景技術：
真空鍍鋁紙(或稱噴鋁紙、鍍鋁紙、蒸鍍紙)是應用在包裝行業(yè)的新型綠色包裝材 料。由于它金屬質感好，較為低廉的材料成本，以及可降解、可回收的環(huán)保屬性，越來越多地 受到人們的喜愛。真空鍍鋁紙按生產工藝可分為直接鍍鋁法(紙面鍍鋁)和轉移鍍鋁法(膜面鍍 鋁)兩種。直接鍍鋁法是將紙基材直接置于真空鍍鋁機進行鍍鋁的方法，其產品結構為四 層，依次為紙基材、底涂層、鍍鋁層和面涂層。該直接鍍鋁法是先在紙基材表面涂布著鋁涂 層，然后進行真空鍍鋁，最后面涂鋁保護層涂料而形成面涂層。這種方法僅限于薄紙鍍鋁。 直接鍍鋁法生產的鍍鋁紙，缺點是產品表面金屬光澤鏡面反射度不高，紙面毛糙多孔不能 有效掩蓋，紙面平整度差，鍍鋁后亮度不高，現有直接鍍鋁法生產的鍍鋁紙不能適應于高檔 包裝的要求。轉移鍍鋁法是在PET膜或BOPP膜表面涂布一層轉移涂料，然而將PET或BOPP置 于真空鍍鋁機鍍鋁形成鍍鋁層，在鍍鋁層上進行涂膠后與紙基材復合，復合后將PET膜或 BOPP膜剝落，渡鋁層通過膠粘作用轉移到紙基材表面。與直接鍍鋁法相比，轉移鍍鋁法可生 產任意厚度的紙或紙板；充分利用PET膜或BOPP膜的平整度使紙面金屬光澤更加明亮；紙 張表面平整度和光澤度都相當高。在防偽包裝材料上，轉移鍍鋁法具有獨特的優(yōu)越性，但是 轉移鍍鋁法的生產流程長、物耗多和成本高，生產工藝較為復雜，設備投資大。

發(fā)明內容本發(fā)明針對上述的存在的問題，提供一種高光澤真空鍍鋁紙的制備方法，以解決 采用現有直接鍍鋁法生產的鍍鋁紙不能適應高檔防偽包裝要求和采用轉移鍍鋁法生產成 本高工效低的缺陷。采用本發(fā)明的高光澤真空鍍鋁紙的制備方法，能生產出和轉移鍍鋁法 同樣效果的高光澤、高平整度的高檔防偽包裝鍍鋁紙，且成本低工效高。為此，本發(fā)明采用如下技術方案一種高光澤真空鍍鋁紙的制備方法，其特征在 于，該制備方法包括如下步驟A、選擇紙基材選擇30 100g/m2紙張作為紙基材；B、形成底涂層通過復合機在膜載體的表面涂布底涂材料的同時將已涂布有底 涂材料的膜載體與紙基材進行復合，復合后在紙基材的表面形成高光澤、均勻平整的底涂 層；C、真空鍍鋁通過真空鍍鋁機在底涂層的表面進行真空鍍鋁，得到鍍鋁層；
D、涂布面涂層采用涂布機對紙基材的鍍鋁層的表面進行面涂，形成面涂層，完成 后能得到高光澤真空鍍鋁紙。本高光澤真空鍍鋁紙的制備方法是在直接鍍鋁法的基礎上進行創(chuàng)新。本制備方法 對紙基材的表面質量要求低，可以采用普通紙作為紙基材，因此生產價格可以降低。但是要 用這種銅版紙生產出高檔次防偽包裝要求的鍍鋁紙產品，需要要求紙基材的表面平整，為 此本發(fā)明在紙基材的表面涂上一層底涂層，該底涂層的表面通過步驟B將涂布和復合兩道 工序合二為一，使底涂層的表面具有高光澤和均勻平整性，達到了生產高檔防偽包裝要求 的紙基材表面質量。在高光澤和均勻平整的底涂層上通過真空鍍鋁機鍍上鋁，形成鍍鋁層， 在鍍鋁層上涂布面涂層，該面涂層的材料采用高光澤水性環(huán)保材料且兼顧耐折性、耐磨性、 耐燙印性和印刷適應性好等多種性能。通過本制備方法生產的高光澤真空鍍鋁紙能夠達到 高檔防偽包裝要求，同時沿用了直接鍍鋁法的工藝，具有生產成本低工效高的優(yōu)點。在上述的高光澤真空鍍鋁紙的制備方法中，在所述的步驟B中，所述的膜載體為 BOPP或PET，在膜載體與紙基材復合后進行烘干；最后將膜載體與紙基材進行剝離，剝離 后，在紙基材的表面形成一層高光澤、均勻平整的底涂層。底涂材料采用具備高固低粘、高 光澤和與膜載體BOPP膜或PET膜容易分離以及與紙基材和鍍鋁層的結合力好的水性材料， 具有膠水的成分。以PET膜或BOPP為膜載體，通過轉移法將底涂材料粘到紙基材的表面， PET膜或BOPP膜的平整度使紙面金屬光澤更加明亮，紙張表面平整度和光澤度都相當高， 達到生產高檔防偽包裝要求的紙基材表面質量。在上述的高光澤真空鍍鋁紙的制備方法中，在所述的步驟B中，所述的烘干溫度 為 80 130°C。采用上述的高光澤真空鍍鋁紙的制備方法得到的高光澤真空鍍鋁紙，該真空鍍鋁 紙包括紙基材，在紙基材上設有底涂層，在底涂層上設有鍍鋁層，在鍍鋁層上設有面涂層。在上述的高光澤真空鍍鋁紙的制備方法中，所述的底涂層與鍍鋁層接觸的一面為 高金屬光澤、均勻平整的平面。在上述的高光澤真空鍍鋁紙的制備方法中，所述的底涂層的厚度為1. 5 2. 5g/
2
m ο在上述的高光澤真空鍍鋁紙的制備方法中，所述的鍍鋁層的厚度為0. 02 0. 03 微米。在上述的高光澤真空鍍鋁紙的制備方法中，所述的面涂層的厚度為1. 5 2. 5g/
2
m ο采用上述的制備方法，制備得到一種高光澤真空鍍鋁紙，包括紙基材，其特征在 于，在紙基材上設有底涂層，在底涂層上設有鍍鋁層，在鍍鋁層上設有面涂層。與現有技術相比，本發(fā)明有益效果體現如下1、環(huán)保使用的底涂層和面涂層都采用環(huán)保型水性涂料，達到環(huán)境保護的目的。2、紙基材選擇面廣已有的真空直接鍍鋁法對選用的紙基材表面的平整度要求較 高，一般選擇較平整進口紙或高質量的國產紙作為基材，成本較高；改用本發(fā)明生產，基材 的選擇面大大提高完全可以用普通的銅板紙生產出高光澤、高平整度的鍍鋁紙。3、降低成本提高工效本發(fā)明的制備方法具有真空直接鍍鋁法低成本高工效的優(yōu) 點，又克服真空直接鍍鋁法生產的產品表面質量差檔次低；能制備出可以達到轉移鍍鋁法所能夠產生的光澤度高、平整度好的效果，可以作為高檔產品的包裝，又克服轉移鍍鋁法生 產流程長、生產工藝復雜，物耗多成本高、設備投資大、成本高工效低，產品價格比較高的缺 陷。

圖1是本發(fā)明的工藝流程示意圖。圖2是本發(fā)明制備的高光澤真空鍍鋁紙的結構示意圖。圖中紙基材1 ；底涂層2 ；鍍鋁層3 ；面涂層4。
具體實施方式

下面結合說明書附圖和具體實施方式

對本發(fā)明作進一步的說明。本高光澤真空鍍鋁紙的制備方法，圖1所示，包括如下步驟A、選擇紙基材1 選擇60g/m2銅板紙張作為紙基材1。B、形成底涂層2 以BOPP或PET作為膜載體，在復合機中，將底涂材料涂布在膜載 體上的同時將膜載體與紙基材1送入到復合機的壓輥中在4KG的壓力下進行復合；底涂材 料采用具備高固低粘、高光澤和與膜載體BOPP膜或PET膜容易分離以及與紙基材1和鍍鋁 層的結合力好的水性材料，具有膠水的成分。由于底涂材料的膠粘作用，底涂層2粘在紙基 材1上，復合后在膜載體和紙基材1之間形成底涂層2。再在110°C的溫度下進行烘干；最 后通過剝離機將膜載體與紙基材1進行剝離，剝離后，在紙基材1的表面形成了一層厚度為 2. 3g/m2高光澤、均勻平整的底涂層2。而膜載體為環(huán)形，套在傳動輪上循環(huán)轉動，在膜載體 與紙基材1分離后，膜載體重新開始循環(huán)使用。C、真空鍍鋁通過真空鍍鋁機在底涂層2的表面進行真空鍍鋁，得到鍍鋁層3 ；鍍 鋁層3的厚度為0. 02 0. 03微米。D、涂布面涂層4 采用涂布機對紙基材1的鍍鋁層3進行面涂，得到厚度為2. 2g/ m2的面涂層4，完成后能得到高光澤真空鍍鋁紙。該面涂層4的材料采用高光澤水性環(huán)保 材料且兼顧耐折性、耐磨性、耐燙印性和印刷適應性好等多種性能，該面涂層材料可從市場 上購買得到。如圖2所示，通過本高光澤真空鍍鋁紙的制備方法得到的高光澤真空鍍鋁紙 的結構為四層，底層為紙基材1，紙基材1采用60g/m2的銅板紙，在紙基材1上為一層厚度 為2. 3g/m2高光澤、均勻平整的底涂層2，在底涂層2上有0. 02 0. 03微米的鍍鋁層3，在 鍍鋁層3上有厚度為2. 2g/m2的面涂層4。
權利要求
一種高光澤真空鍍鋁紙的制備方法，其特征在于，該制備方法包括如下步驟A、選擇紙基材(1)選擇30～100g/m2紙張作為紙基材(1)；B、形成底涂層(2)通過復合機在膜載體的表面涂布底涂材料的同時將已涂布有底涂材料的膜載體與紙基材(1)進行復合，復合后在紙基材(1)的表面形成高光澤、均勻平整的底涂層(2)；C、真空鍍鋁通過真空鍍鋁機在底涂層(2)的表面進行真空鍍鋁，得到鍍鋁層(3)；D、涂布面涂層(4)采用涂布機對紙基材(1)的鍍鋁層(3)的表面進行面涂，形成面涂層(4)，完成后能得到高光澤真空鍍鋁紙。
2.根據權利要求1所述的一種高光澤真空鍍鋁紙的制備方法，其特征在于，在所述的 步驟B中，所述的膜載體為BOPP或PET，在膜載體與紙基材(1)復合后進行烘干；最后將膜 載體與紙基材(1)進行剝離，剝離后，在紙基材(1)的表面形成一層高光澤、均勻平整的底 涂層⑵。
3.根據權利要求2所述的一種高光澤真空鍍鋁紙的制備方法，其特征在于，在所述的 步驟B中，所述的烘干溫度為80 130°C。
4.采用權利要求1或2或3所述的一種高光澤真空鍍鋁紙的制備方法得到的高光澤真 空鍍鋁紙，該真空鍍鋁紙包括紙基材(1)，其特征在于，在紙基材(1)上設有底涂層(2)，在 底涂層(2)上設有鍍鋁層(3)，在鍍鋁層(3)上設有面涂層(4)。
5.根據權利要求4所述的一種高光澤真空鍍鋁紙的制備方法，其特征在于，，所述的底 涂層(2)與鍍鋁層(3)接觸的一面為高金屬光澤、均勻平整的平面。
6.根據權利要求5所述的一種高光澤真空鍍鋁紙的制備方法，其特征在于，所述的底 涂層(2)為 1.5 2. 5g/m2。
7.根據權利要求4所述的一種高光澤真空鍍鋁紙的制備方法，其特征在于，所述的鍍 鋁層(3)的厚度為0. 02 0. 03微米。
8.根據權利要求4所述的一種高光澤真空鍍鋁紙的制備方法，其特征在于，所述的面 涂層(4)為 1.5 2. 5g/m2。
9.采用權利要求1或2或3的制備方法制備得到一種高光澤真空直接鍍鋁紙，包括紙 基材(1)，其特征在于，在紙基材(1)上設有底涂層(2)，在底涂層(2)上設有鍍鋁層(3)，在 鍍鋁層上設有面涂層(4)。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種高光澤真空鍍鋁紙的制備方法，屬于包裝印刷技術領域。它解決了采用現有直接鍍鋁法生產的鍍鋁紙不能適應高檔防偽包裝要求和采用轉移鍍鋁法生產成本高工效低的缺陷。本高光澤真空鍍鋁紙的制備方法，包括如下步驟A、選擇紙基材；B、形成底涂層通過復合機在膜載體的表面涂布底涂材料的同時將已涂布有底涂材料的膜載體與紙基材進行復合，復合后在紙基材的表面形成高光澤、均勻平整的底涂層；C、真空鍍鋁；D、涂布面涂層，得到高光澤真空鍍鋁紙。采用本高光澤真空鍍鋁紙的制備方法，能生產出和轉移鍍鋁法同樣效果的高光澤、高平整度的高檔防偽包裝鍍鋁紙，且成本低工效高；制備得到的高光澤真空鍍鋁紙生產成本低，金屬光澤好。
文檔編號D21H19/82GK101906738SQ2009103081
公開日2010年12月8日 申請日期2009年10月10日 優(yōu)先權日2009年10月10日
發(fā)明者孫建成, 熊建華, 袁堅峰, 邵波 申請人:紹興京昇光信息科技有限公司