專利名稱：一種不導(dǎo)電裝飾膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及裝飾膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種不導(dǎo)電裝飾膜。
背景技術(shù)：
裝飾膜被廣泛應(yīng)用于各種電子產(chǎn)品如手機、電子游戲機等和各種燈飾、首飾盒、裝飾品等上，以提高其的裝飾效果和視覺效果。傳統(tǒng)的裝飾膜一般是在產(chǎn)品表面鍍一層銦膜。由于銦是一種稀有金屬，因此存在著成本較高，不能普及和推廣；顏色較為單一、只能呈現(xiàn)某種顏色效果；工藝復(fù)雜，不能準確控制銦膜的厚度和均勻性，還有可能由于銦膜厚度不均勻，會直接影響不導(dǎo)電效果；對手機產(chǎn)生電磁波輻射不能徹底屏蔽；只能附著在玻璃產(chǎn)品表面等缺點。因此，現(xiàn)有技術(shù)已不能滿足社會和消費者對裝飾膜的要求。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是通過一種全新的裝飾膜的設(shè)計，提供一種成本低、工藝簡單、多色彩、沉積均勻，不導(dǎo)電性高，在不同材質(zhì)的塑膠板材表面具有很強的附著力的不導(dǎo)電裝飾膜。為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是一種不導(dǎo)電裝飾膜，其包括氧化硅第一薄層、至少在氧化硅第一薄層下表面自上而下形成的氧化鈦第二薄層和氧化鎬第三薄層兩層，所述的不導(dǎo)電裝飾膜的薄層數(shù)為3-12層，從第二薄層至第十二薄層為氧化鈦薄層和氧化鎬薄層交替形成。與現(xiàn)有技術(shù)相比較，本發(fā)明的優(yōu)點是由于采用上述結(jié)構(gòu)，即用來加強板材層面結(jié)合力的氧化硅第一薄層；用來增強或減低某種可見光色數(shù)自上而下交替形成的氧化鈦薄層和氧化鎬薄層；利用上述氧化硅薄層、氧化鈦薄層和氧化鎬薄層等高中低不同折射率的設(shè)計各種不同的顏色，以滿足不同人群不同地方的需求；在生產(chǎn)的過程中利用指定的沖氧導(dǎo)數(shù)值，至所生產(chǎn)的薄層的電阻值達到兩千歐姆上，使其具有阻擋電磁輻射的作用，因此，該不導(dǎo)電裝飾膜，不僅具有成本低，工藝簡單、多色彩、沉積均勻和不導(dǎo)電性高的特點，而且在不同材質(zhì)的塑膠板材表面具有很強的附著力。本發(fā)明設(shè)計合理，構(gòu)思新穎，可廣泛應(yīng)用于各種電子產(chǎn)品和生活產(chǎn)品上，具有巨大的市場潛力和市場價值。


附圖1為本發(fā)明一種不導(dǎo)電裝飾膜第一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖； 附圖2為本發(fā)明一種不導(dǎo)電裝飾膜第一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖； 附圖3為本發(fā)明一種不導(dǎo)電裝飾膜第三實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中各標號分別是(1)氧化硅第一薄層，(2)氧化鈦第二薄層，(3)氧化鎬第三薄層，(4)氧化鈦第四薄層，(5)氧化鎬第五薄層，(6)氧化鈦第六薄層，(7)氧化鎬第七薄層，(8)氧化鈦第八薄層，(9)氧化鎬第九薄層，(10)氧化鈦第十薄層，(11)氧化鎬第十一薄層，(12)氧化鈦第十二薄層。
具體實施例方式下面結(jié)合附圖給出實施例對本發(fā)明做進一步的詳細說明
實施例1，參看圖1，本發(fā)明一種不導(dǎo)電裝飾膜，所述的不導(dǎo)電裝飾膜的薄層數(shù)為3層， 自上而下分別為氧化硅第一薄層1，氧化鈦第二薄層2，氧化鎬第三薄層3。實施例2，參看圖2，本發(fā)明一種不導(dǎo)電裝飾膜，所述的不導(dǎo)電裝飾膜的薄層數(shù)為4 層，自上而下分別為氧化硅第一薄層1，氧化鈦第二薄層2，氧化鎬第三薄層3，氧化鈦第四薄層4。實施例3，參看圖3，本發(fā)明一種不導(dǎo)電裝飾膜，所述的不導(dǎo)電裝飾膜的薄層數(shù)為 12層，自上而下分別為氧化硅第一薄層1，氧化鈦第二薄層2，氧化鎬第三薄層3，氧化鈦第四薄層4，氧化鎬第五薄層5，氧化鈦第六薄層6，氧化鎬第七薄層7，氧化鈦第八薄層8，氧化鎬第九薄層9，氧化鈦第十薄層10，氧化鎬第十一薄層11，氧化鈦第十二薄層12。本發(fā)明所例舉的實施例并非對自己的限定，凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容， 依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實質(zhì)對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明的技術(shù)方案范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1. 一種不導(dǎo)電裝飾膜，其特征在于其包括氧化硅第一薄層、至少在氧化硅第一薄層下表面自上而下形成的氧化鈦第二薄層和氧化鎬第三薄層兩層，所述的不導(dǎo)電裝飾膜的薄層數(shù)為3-12層，從第二薄層至第十二薄層為氧化鈦薄層和氧化鎬薄層交替形成。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種不導(dǎo)電裝飾膜，其包括氧化硅第一薄層、至少在氧化硅第一薄層下表面自上而下形成的氧化鈦第二薄層和氧化鎬第三薄層兩層，所述的不導(dǎo)電裝飾膜的薄層數(shù)為3-12層，從第二薄層至第十二薄層為氧化鈦薄層和氧化鎬薄層交替形成。本發(fā)明設(shè)計合理，構(gòu)思新穎，可廣泛應(yīng)用于各種電子產(chǎn)品和生活產(chǎn)品上，具有巨大的市場潛力和市場價值。
文檔編號B32B9/04GK102173115SQ2010106169
公開日2011年9月7日 申請日期2010年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月31日
發(fā)明者陳沛洪 申請人:東莞市東日光學(xué)科技有限公司