專利名稱：一種新型布料的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種布料，尤其是指一種可預(yù)設(shè)布料特性且具獨特視覺外觀的布 料。
背景技術(shù)：
隨著科技的日新月異，布料行業(yè)的技術(shù)也發(fā)展迅速，相對傳統(tǒng)相對單一的布料來 說，現(xiàn)在布料領(lǐng)域已經(jīng)可以采用各種天然材料或人造材料，進(jìn)行各式布料的生產(chǎn)制造，以滿 足人們各種各樣的不同需求。不過雖然如此，但現(xiàn)有布料品質(zhì)的成品特性相當(dāng)單一，比如， 當(dāng)布料可以滿足防風(fēng)、保暖的使用要求時，卻無法同時兼顧布料適當(dāng)?shù)耐笟庑约拜^佳布料 質(zhì)感；反之，當(dāng)布料能達(dá)到比較好的透氣要求時，卻又沒辦法照顧到防風(fēng)、保暖的要求。因 此，現(xiàn)有的一般穿著用途布料，通常無法同時具有較佳布料質(zhì)感、適當(dāng)透氣性、保暖性以及 獨特外觀要求，也即現(xiàn)有布料特性相對固定，僅局限于特有用途，同時布質(zhì)外觀難以創(chuàng)新， 沒有辦法滿足人們更多的實際需求，有待做進(jìn)一步的改良。本實用新型發(fā)明人即針對上述問題，提出一種新型布料的技術(shù)方案，很好地克服 了上述缺陷。
實用新型內(nèi)容本實用新型針對現(xiàn)有技術(shù)存在之缺失，其主要目的是提供一種預(yù)設(shè)布料特性且具 獨特視覺外觀的布料。為實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用如下之技術(shù)方案一種新型布料，該布料包括基 底布及膠層，所述基底布表面編織成型有凹凸變化的組織紋樣；所述膠層位于上述基底布 的外部，且為多層的膠層結(jié)構(gòu)，但膠層僅位于上述基底布紋樣的預(yù)定凹處。所述組織紋樣為具有凹凸變化的線條或紋樣或圖樣。所述基底布為成型有凹凸變化的線條或紋樣或圖樣的化纖底布所構(gòu)成。本實用新型采用上述技術(shù)方案后，其有益效果在于該布料基底布表面編織成型 有凹凸變化的組織紋樣，布外部又涂覆有膠層，同時再讓膠層僅留存于位于基底布的預(yù)定 凹處，從而使得諸如防風(fēng)、透氣、保暖等布質(zhì)特性及布質(zhì)外觀均得以通過上述膠層的預(yù)先布 設(shè)而獲得改變，以達(dá)到符合實際需求。
圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實用新型的剖面示意圖。附圖標(biāo)識說明1、基底布10、組織紋樣2、膠層20、膠料具體實施方式
以下結(jié)合附圖與具體實施例來對本實用新型進(jìn)行詳細(xì)說明如圖1及圖2所示，一種新型布料，該布料包括基底布1及膠層2，所述基底布1表面編織成型有凹凸變化的組織 紋樣10 ；所述膠層2位于上述基底布1的外部，且為多層的膠層結(jié)構(gòu)，其主要以膠料20涂覆 于基底布1的外部，而成型為布質(zhì)的膠層2，再通過磨除膠層2的工序，使得布料中凸處的膠 料20被磨除，而在磨除高度以下的膠層2則得以保留，即布料凹處的膠料20得以保留，因 此達(dá)到膠層2僅位于上述基底布1組織紋樣10的預(yù)定凹處的目的，同時也使布料基底布1 的凹凸變化紋樣得以呈現(xiàn)出來，從而通過布料上保留的膠層2與基底布1的凹凸變化組織 紋樣10相搭配，使得布料擁有多層次視覺效果的獨特外觀。上述實施方式并非唯一的，其中的組織紋樣10可為凹凸變化的線條或紋樣或圖 樣。而上述基底布1則可為成型有凹凸變化的線條或紋樣或圖樣的化纖底布所構(gòu)成。 本實用新型的重點在于，該布料基底布1表面編織成型有凹凸變化的組織紋樣 10，布外部又涂覆有膠層2，同時再讓膠層2僅留存于位于基底布1的預(yù)定凹處，從而使得諸 如防風(fēng)、透氣、保暖等布質(zhì)特性及布質(zhì)外觀均得以通過上述膠層2的預(yù)先布設(shè)而獲得改變， 以達(dá)到符合實際需求。以上所述，僅是本實用新型的較佳實施例而已，并非對本實用新型的技術(shù)范圍作 任何限制，故凡是依據(jù)本實用新型的技術(shù)實質(zhì)對以上實施例所作的任何細(xì)微修改、等同變 化與修飾，均仍屬于本實用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求一種新型布料，其特征在于該布料包括基底布及膠層，所述基底布表面編織成型有凹凸變化的組織紋樣；所述膠層位于上述基底布的外部，且為多層的膠層結(jié)構(gòu)，但膠層僅位于上述基底布紋樣的預(yù)定凹處。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型布料，其特征在于所述組織紋樣為具有凹凸變化的線 條或紋樣或圖樣。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型布料，其特征在于所述基底布由成型有凹凸變化的線 條或紋樣或圖樣的化纖底布所構(gòu)成。
專利摘要本實用新型針對現(xiàn)有技術(shù)存在之缺失，其主要目的是提供一種預(yù)設(shè)布料特性且具獨特視覺外觀的布料，該布料包括基底布及膠層，所述基底布表面編織成型有凹凸變化的組織紋樣；所述膠層位于上述基底布的外部，且為多層的膠層結(jié)構(gòu)，但膠層僅位于上述基底布紋樣的預(yù)定凹處。其中的組織紋樣可為凹凸變化的線條或紋樣或圖樣。而上述基底布則可為成型有凹凸變化的線條或紋樣或圖樣的化纖底布所構(gòu)成。
文檔編號B32B3/12GK201633244SQ20102010812
公開日2010年11月17日 申請日期2010年2月3日 優(yōu)先權(quán)日2010年2月3日
發(fā)明者許維蓄 申請人:晉江萬興隆染織實業(yè)有限公司