專利名稱：一種新型重離子微孔防偽膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種防偽膜，具體是提供一種新型重離子微孔防偽膜。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有技術(shù)下，利用重離子或裂變碎片輻照成像技術(shù)制造出的微孔膜，具有仿制難 度大、生產(chǎn)成本低、易識(shí)別等特點(diǎn)，廣泛用于制作商標(biāo)或標(biāo)識(shí)。從公開的文獻(xiàn)來看，制造重離 子微孔防偽膜的方法主要有兩類。一類是先整體輻照，再利用模具成像，最后進(jìn)行化學(xué)蝕刻 的方法。另一類是放射性束流通過模具輻照塑料薄膜，即高能重離子或裂變碎片通過成像 模具后輻照在透明塑料薄膜上，經(jīng)過蝕刻，在薄膜上形成具有鮮明對(duì)比度的乳白色圖案。這兩類制備重離子微孔防偽膜方法的主要區(qū)別體現(xiàn)在成像的先后順序上，第一類 方法是將塑料薄膜全部輻照后再通過各種模具成像，而第二類方法是攜帶模具輻照，實(shí)質(zhì) 是先成像后輻照。兩類制備方法各有優(yōu)缺點(diǎn)，適用于不同的生產(chǎn)條件。另外，在第二類先成像后輻照的制備方法中，帶有設(shè)定圖案的模具與基膜通常是 分離的，在輻照時(shí)，要求模板與基膜同步運(yùn)動(dòng)，相對(duì)靜止，稍有距離變化或相對(duì)移動(dòng)，都會(huì)引 起圖像模糊，進(jìn)而影響產(chǎn)品質(zhì)量。同時(shí)，為解決模具的支撐與運(yùn)動(dòng)問題，必須增加專用設(shè)備。 還有，在工業(yè)生產(chǎn)時(shí)，成像工藝是在放射性環(huán)境下完成，工作人員干涉困難，因此對(duì)生產(chǎn)設(shè) 備的要求比較苛刻。中山國安火炬科技發(fā)展有限公司在中國專利200920057733. 3公開了一種新型微 孔防偽膜，它包括塑料輻照膜，在塑料輻照膜的一面印刷有熱熔膠，熱熔膠上具有與防偽圖 案對(duì)應(yīng)的通孔。為了提高防偽膜的抗拉強(qiáng)度，在防偽膜的另一面再復(fù)合一層保護(hù)層。在該 技術(shù)中，塑料輻照膜的一面印刷有熱熔膠，其目的之一就是起到模板的作用，阻止裂變碎片 或重離子在塑料薄膜上形成整體徑跡損傷。但是，它未公開熱熔膠的具體組分及配比。面 對(duì)能量達(dá)到IOMeV 500MeV的重離子或裂變碎片，單一的熱熔膠起不到吸收重離子或裂變 碎片的作用。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型是針對(duì)以上問題，提供一種新型重離子微孔防偽膜，其通過在基膜的 一面涂上具有設(shè)定鏤空?qǐng)D案的抗輻射膠層，膠中摻有不易被重離子穿透的金屬或非金屬材 料，替代現(xiàn)有技術(shù)中的專用模板，不僅簡(jiǎn)化了生產(chǎn)設(shè)備，更重要的是，從根本上解決了輻照 時(shí)模板與基膜需要同步運(yùn)動(dòng)的難題，簡(jiǎn)化了生產(chǎn)設(shè)備。本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種新型重離子微孔防偽膜，包括基膜層，所述基膜層一面涂覆有抗輻射膠層，另 一面涂覆有聚丙烯層。抗輻射膠層上設(shè)置有鏤空?qǐng)D案。本實(shí)用新型的一種新型重離子微孔防偽膜，其在基膜成像時(shí)，在基膜層的一面涂 上1 μ m-5 μ m厚的具有設(shè)定鏤空?qǐng)D案的抗輻射膠層(抗輻射膠是以樹脂為主料的膠和其他物質(zhì)的混合物)。所述的抗輻射膠是在以樹脂為主料的膠中摻入阻止重離子束流能力強(qiáng)的 金屬材料，如銅、鋅、錫、鐵、鎳；或者非金屬材料，如碘、溴化銀、氧化鋯等，以加強(qiáng)對(duì)重離子 束流的阻止作用(作用是有效降低束流能量，可以減少涂膠部分重離子穿透基膜，非涂膠 部分則可以被重離子穿透)。本實(shí)用新型的一種新型重離子微孔防偽膜，輻照前在基膜層的一面涂上具有設(shè)定 鏤空?qǐng)D案的抗輻射膠層，膠中還摻有不易被重離子穿透的金屬或非金屬材料，替代現(xiàn)有技 術(shù)中的專用模板，不僅簡(jiǎn)化了生產(chǎn)設(shè)備，更重要的是，從根本上解決了輻照時(shí)模板與基膜需 要同步運(yùn)動(dòng)的難題，簡(jiǎn)化了生產(chǎn)設(shè)備。另外，成像工作即基膜層上涂抗輻射膠的工作是在非 放射性環(huán)境中完成，操作簡(jiǎn)單，產(chǎn)品合格率大大提高，適于大規(guī)模生產(chǎn)。故而，與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的一種新型重離子微孔防偽膜，具有設(shè)計(jì)合 理、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、制作成本低、防偽效果好的特點(diǎn)。

圖1是一種新型重離子微孔防偽膜的結(jié)構(gòu)主視圖；圖2是一種新型重離子微孔防偽膜的結(jié)構(gòu)俯視圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型的一種新型重離子微孔防偽膜作進(jìn)一 步的描述。如附圖1、2所示，一種新型重離子微孔防偽膜，包括基膜層1，所述基膜層1 一面涂 覆有抗輻射膠層2，另一面涂覆有聚丙烯層3?？馆椛淠z層2上表面設(shè)置有鏤空?qǐng)D案4。本實(shí)用新型的一種新型重離子微孔防偽膜，其加工方法有以下兩種1、制備一種新型制備重離子微孔防偽膜的方法，包括下列步驟(1)基膜成像。選用厚度為(15 μ m 50 μ m)的PET膜為基膜。(2)輻照。選用能量為lMeV-500MeV、流強(qiáng)為0. 1納安-10微安的重離子束流從一 面輻照基膜，輻照時(shí)間為0.1秒到幾個(gè)小時(shí)。(3)敏化。利用紫外線燈對(duì)輻照后的基膜進(jìn)行照射，紫外線燈功率為50瓦-2000 瓦，燈與基膜的距離為0. 1厘米-50厘米，敏化時(shí)間為10秒-180分鐘。(4)蝕刻。將敏化后的基膜放入濃度為0. 1個(gè)當(dāng)量-30個(gè)當(dāng)量的強(qiáng)堿或者強(qiáng)酸溶 液里進(jìn)行蝕刻，蝕刻時(shí)間為1-180分鐘。蝕刻出清晰圖案后再洗滌晾干，即得合格產(chǎn)品。關(guān)鍵是基膜成像時(shí)，在基膜的一面涂上1 μ m-5 μ m厚的設(shè)定鏤空?qǐng)D案的抗輻射膠 (抗輻射膠是以樹脂為主料的膠和其他物質(zhì)的混合物)。所述的抗輻射膠是在以樹脂為主 料的膠中摻入阻止重離子束流能力強(qiáng)的金屬材料，(如銅、鋅、錫、鐵、鎳)，或者非金屬材 料，(如碘、溴化銀、氧化鋯等)，以加強(qiáng)對(duì)重離子束流的阻止作用(作用是有效降低束流能 量，可以減少涂膠部分重離子穿透基膜，非涂膠部分則可以被重離子穿透)。所述的基膜的另一面復(fù)合一層15 μ m-25 μ m厚的OPP (聚丙烯)膜，在蝕刻中起保 護(hù)作用。2、本實(shí)用新型所設(shè)計(jì)的重離子微孔防偽膜，還可以采用另一種制造方法，包括下列步驟基膜成像。選用厚度為15 μ m-50 μ m的高分子材料為基膜。輻照。選用能量為0. lMeV-500MeV、流強(qiáng)為0. 1納安-10微安的裂變碎片從一面輻 照基膜，輻照時(shí)間為0.1秒到幾個(gè)小時(shí)。敏化。利用紫外線燈對(duì)輻照后的基膜進(jìn)行照射，紫外線燈功率為50瓦-2000瓦， 燈與基膜的距離為0. 1厘米-50厘米，敏化時(shí)間為10秒-180分鐘。蝕刻。將敏化后的基膜放入濃度為0. 1個(gè)當(dāng)量-30個(gè)當(dāng)量的強(qiáng)堿或者強(qiáng)酸溶液里 進(jìn)行蝕刻，蝕刻時(shí)間為1-180分鐘。蝕刻出清晰圖案后再洗滌晾干，即得合格產(chǎn)品。蝕刻出清晰圖案后，利用弱酸溶液和0.01兆歐到50兆歐間的高純水清洗，經(jīng)過溫 度10度到150度間帶風(fēng)機(jī)或者不帶風(fēng)機(jī)的烘箱烘干以后，生產(chǎn)出達(dá)到要求的重離子微孔防 偽膜。關(guān)鍵是基膜成像時(shí)，在基膜的一面涂上1 μ m-20 μ m厚的設(shè)定鏤空?qǐng)D案的抗輻射 膠。所述的抗輻射膠是在樹脂為主料的膠中摻入阻止重離子束流能力強(qiáng)的金屬材料，如銅、 鋅、錫、鐵、鎳，或者非金屬材料，如碘，溴化銀，氧化鋯等，以加強(qiáng)對(duì)重離子束流的阻止作用。所述的基膜的另一面復(fù)合一層15 μ m-25 μ m厚的OPP膜，在蝕刻中起保護(hù)作用。以上所述的實(shí)施例，只是本實(shí)用新型較優(yōu)選的具體實(shí)施方式
的一種，本領(lǐng)域的技 術(shù)人員在本實(shí)用新型技術(shù)方案范圍內(nèi)進(jìn)行的通常變化和替換都應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保 護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種新型重離子微孔防偽膜，包括基膜層，其特征在于，所述基膜層一面涂覆有抗輻 射膠層，另一面涂覆有聚丙烯層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型重離子微孔防偽膜，其特征在于，所述抗輻射膠層 上設(shè)置有鏤空?qǐng)D案。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種防偽膜，具體是提供一種新型重離子微孔防偽膜。其結(jié)構(gòu)包括基膜層，所述基膜層一面涂覆有抗輻射膠層，另一面涂覆有聚丙烯層。與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有設(shè)計(jì)合理、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、制作成本低、防偽效果好的特點(diǎn)。
文檔編號(hào)B32B27/08GK201904036SQ201020547568
公開日2011年7月20日 申請(qǐng)日期2010年9月29日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月29日
發(fā)明者傅元勇, 劉永輝, 崔清臣 申請(qǐng)人:中國原子能科學(xué)研究院, 中山國安火炬科技發(fā)展有限公司