專利名稱：一種用于激光變角度入射的多層介質(zhì)高反射膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種介質(zhì)光學(xué)薄膜，尤其是一種用于激光變角度入射的多層介質(zhì)高反射膜。
背景技術(shù)：
多層介質(zhì)高反射膜是在基底上鍍多層適當(dāng)厚度、折射率相匹配的介質(zhì)光學(xué)薄膜， 來改變基底的反射性能和透射性能，在使用中將絕大部分光束反射，只透射小部分光束，具有反射率高，吸收小，而且高反射率只出現(xiàn)在特定的波段范圍之內(nèi)等特點(diǎn)，因而在對(duì)特定波段進(jìn)行衰減時(shí)應(yīng)用較多，尤其適用于波長(zhǎng)單一的激光技術(shù)領(lǐng)域。常規(guī)的多層介質(zhì)高反射膜系是針對(duì)特定窄帶波長(zhǎng)、且在入射角度恒定(比如0° 或22.5° )的條件下進(jìn)行的參數(shù)設(shè)計(jì)，通常采用XciA膜系，對(duì)于指定的工作角度時(shí)，可以起到高反射作用，而當(dāng)激光入射角度變化時(shí)，其反射率會(huì)發(fā)生較大的變化，這給其應(yīng)用帶來了不便，尤其當(dāng)利用高反射膜透過率系數(shù)較小的特性制作激光功率衰減片用于激光功率參數(shù)測(cè)量時(shí)，會(huì)出現(xiàn)當(dāng)激光入射角度變化時(shí)，衰減片的衰減系數(shù)隨之變化，給激光功率的測(cè)量帶來較大的測(cè)量不確定度，限制了其應(yīng)用。如

圖1所示，常規(guī)的多層介質(zhì)高反射膜是由較高折射率nH和較低折射率的Ik兩種材料交替組成的λ 0/4膜系，并且與基底ne和空氣nA相鄰的都是較高折射率的膜層，取dH 為高折射率nH膜層的位相厚度，dL為膜層的位相厚度，則有
權(quán)利要求
1.一種用于激光變角度入射的多層介質(zhì)高反射膜，包括基底、交替鍍?cè)诨咨系母哒凵渎蕁H膜層和低折射率k膜層，且最外的膜層為高折射率nH膜層；所述基底與高折射率nH 膜層相鄰，其特征在于所述高折射率nH膜層的位相厚度dH和低折射率Ik膜層的位相厚度 < 滿足如下關(guān)系
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于激光變角度入射的多層介質(zhì)高反射膜，其特征在于所述的高折射率nH膜層材料為硫化鋅，低折射率膜層&材料為三氟化鐿；所述的基底材料為石英、硅或鍺。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于激光變角度入射的多層介質(zhì)高反射膜，其特征在于所述的高折射率nH膜層材料為鍺，低折射率nj莫層材料為硫化鋅；所述的基底材料為石英、硅或鍺。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于激光變角度入射的多層介質(zhì)高反射膜，其特征在于所述的高折射率nH膜層材料為碲化鉛，低折射率Ik膜層材料為硫化鋅；所述的基底材料為石英、硅或鍺。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種用于激光變角度入射的多層介質(zhì)高反射膜，在不改變鍍膜材料及工藝條件下，通過改變常規(guī)多層介質(zhì)高反射膜的膜層厚度，有效改善了介質(zhì)高反射膜透過率隨角度變化特性，適用于在一定范圍內(nèi)變角度入射激光衰減機(jī)參數(shù)測(cè)量的應(yīng)用。
文檔編號(hào)B32B9/04GK102320164SQ2011102333
公開日2012年1月18日 申請(qǐng)日期2011年8月15日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月15日
發(fā)明者劉晶儒, 劉福華, 吳勇, 王平, 王振寶, 邵碧波, 陳紹武 申請(qǐng)人:西北核技術(shù)研究所