專(zhuān)利名稱:鍍有雙層NiCr吸收層的低反射率鍍膜玻璃及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明是關(guān)于鍍膜玻璃的,尤其涉及一種鍍有MCr高吸收材料膜層的低反射率鍍膜玻璃。
背景技術(shù):
隨著中國(guó)經(jīng)濟(jì)的迅速發(fā)展,中國(guó)建筑規(guī)模逐步增大,但大多數(shù)建筑外窗保溫隔熱性能差,阻隔太陽(yáng)輻射能力薄弱,密封不良。盡管窗戶面積一般只占建筑外圍機(jī)構(gòu)表面積的 1/6-1/8,(比例還在不斷上升),但在多數(shù)建筑中,通過(guò)窗戶的傳熱損失和冷風(fēng)滲透損失約占供暖總能耗的60%。因而窗戶、特別是其中的玻璃是建筑節(jié)能的關(guān)鍵部位。隨著真空磁控濺射的發(fā)展,低輻射玻璃性能的提升減少了玻璃因熱輻射而造成的傳熱損耗,提高了玻璃窗的保溫隔熱能力,配合雙層中空玻璃使用,可以隔絕玻璃傳導(dǎo)、對(duì)流、輻射三種傳熱途徑,是一種非常具有實(shí)用價(jià)值的節(jié)能環(huán)保產(chǎn)品。市場(chǎng)上現(xiàn)有的低輻射玻璃普遍為高透低反,普遍遮陽(yáng)系數(shù)偏高,而一些低緯度地區(qū),如中東等地對(duì)低遮陽(yáng)系數(shù)的低輻射玻璃的需求量很大,而傳統(tǒng)的低輻射玻璃,不能同時(shí)滿足低遮陽(yáng)系數(shù)和中低反射的條件,如果要大幅度提高遮陽(yáng)能力和節(jié)能效果,只能靠增加銀層厚度來(lái)實(shí)現(xiàn),這會(huì)使玻璃的反射率增加,而一般低輻射膜玻璃無(wú)法有效地調(diào)節(jié)以達(dá)到降低低反射的作用。在降低了遮陽(yáng)系數(shù)的同時(shí)會(huì)形成較高的反射率。隨著目前許多國(guó)家和地區(qū)為了限制光污染紛紛出臺(tái)了限制玻璃可見(jiàn)光反射率的法規(guī)。這種結(jié)構(gòu)的低輻射玻璃已經(jīng)越來(lái)越達(dá)不到客戶的要求。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是,克服現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)和不足,提供一種可以同時(shí)滿足低遮陽(yáng)系數(shù)和低反射要求的鍍膜玻璃。本發(fā)明提供的是一種采用高吸收材料MCr為吸收層的新型膜系結(jié)構(gòu)玻璃及其生產(chǎn)工藝,本發(fā)明通過(guò)如下技術(shù)方案予以實(shí)現(xiàn)。本發(fā)明鍍有雙層MCr吸收層的低反射率鍍膜玻璃,包括玻璃基板及玻璃基板上鍍有的金屬和金屬氧化物鍍層,其特征在于,所述的玻璃基板上鍍有的金屬和金屬氧化物鍍層自玻璃基板向外依次為Sn02/ai02/NiCr/Ag/NiCr/Sn02,即在玻璃基板上依次鍍有氧化錫層1氧化鋅層2、鎳鎘合金層3、銀層4、鎳鎘合金層5、氧化錫層6。所述的玻璃基板為普通6mm鈉鈣硅酸鹽浮法玻璃。本發(fā)明鍍有雙層MCr吸收層的低反射率鍍膜玻璃的制備方法,具有如下步驟I玻璃基板清洗、干燥;II預(yù)真空過(guò)渡玻璃基板通過(guò)不同的真空腔室,使玻璃從大氣狀態(tài)傳送到工藝所需的高真空狀態(tài);本底真空度小于5 X IO-5Hibar ;III鍍氧化錫層1 通過(guò)交流電源將金屬錫靶在氬氧氣氛中濺射,濺射氣壓范圍 2X 10_2mbr 3X 10_4mbr,脈沖電源頻率為15kHz 25kHz ;濺射氬氧混合氣體積比例為氬氧=7 10 3 5,膜層厚度為25 30nm ;IV鍍氧化鋅層2:通過(guò)交流電源將金屬鋅在氬氧氣氛中濺射,濺射氣壓范圍 2X 10_2mbr 3X 10_4mbr,脈沖電源頻率為15kHz 25kHz ;濺射氬氧混合氣體積比例為氬氧=10 7 4 5。膜層厚度為7 12nm ;V鍍鎳鎘合金層3 通過(guò)直流電源將鎳鎘合金在氬氣氣氛中濺射,濺射氣壓范圍為 8 X IO^nbr 2 X l(T4mbr,膜層厚度為 4 7nm ;VI鍍銀層4:通過(guò)直流電源將金屬銀靶在氬氣氣氛中濺射,濺射氣壓范圍為 8 X IO^nbr 2 X l(T4mbr,膜層厚度為 10 14nm ;VII鍍鎳鎘合金層5 通過(guò)直流電源將鎳鎘合金在氬氣氣氛中濺射,濺射氣壓范圍為8 X l(rtibr 2 X KT4Hibr,膜層厚度為1 3nm ;VIII鍍氧化錫層6 通過(guò)交流電源將金屬錫靶在氬氧氣氛中濺射,濺射氣壓范圍 2X 10_2mbr 3X 10_4mbr,脈沖電源頻率為15kHz 25kHz ;濺射氬氧混合氣體積比例為氬氧=3 5 3 7。膜層厚度為25 !35nm ;IX預(yù)真空過(guò)渡玻璃基板通過(guò)不同的真空腔室,使玻璃產(chǎn)品從高真空的工藝狀態(tài)傳送到大氣狀態(tài);X成品包裝。本發(fā)明的有益效果是,采用雙層NiCr復(fù)合吸收層的膜系,利用NiCr的高吸收率, 有效地降低了玻璃的可見(jiàn)光反射率。提供了一種可以同時(shí)滿足低遮陽(yáng)系數(shù)和低反射要求的鍍膜玻璃。
圖1是本發(fā)明雙層MCr吸收層的低反射率鍍膜玻璃的膜層結(jié)構(gòu)示意圖。附圖標(biāo)記如下1——氧化錫層2——氧化鋅層3——鎳鎘層4——銀層5——鎳鎘層6——氧化錫層
具體實(shí)施例方式本發(fā)明包括玻璃基板及玻璃基板上鍍有的金屬和金屬氧化物鍍層,所述的玻璃基板為普通6mm鈉鈣硅酸鹽浮法玻璃,所述的玻璃基板上鍍有的金屬和金屬氧化物鍍層自玻璃基板向外依次為Sn02/ai02/NiCr/Ag/NiCr/Sn02,即在玻璃基板上依次鍍有氧化錫層1、 氧化鋅層2、鎳鎘合金層3、銀層4、鎳鎘合金層5、氧化錫層6。本發(fā)明的鍍膜工藝,采用德國(guó)Applied Film A-Type系列建筑平板玻璃雙端連續(xù)式鍍膜機(jī),包括5個(gè)交流旋轉(zhuǎn)雙靶位陰極,9個(gè)直流單靶位陰極。交流濺射供電柜對(duì)每個(gè)濺射靶材的最大輸出功率為120kw。在生產(chǎn)時(shí)使用4個(gè)交流旋轉(zhuǎn)雙靶位陰極,3個(gè)直流單靶位陰極,所用玻璃基板為普通6mm鈉鈣硅酸鹽浮法玻璃。參見(jiàn)圖1,采用上述設(shè)備條件,各膜層鍍制的工藝參數(shù)及靶材分布的具體實(shí)施例如下實(shí)施例權(quán)利要求
1.一種鍍有雙層MCr吸收層的低反射率鍍膜玻璃,包括玻璃基板及玻璃基板上鍍有的金屬和金屬氧化物鍍層,其特征在于,所述的玻璃基板上鍍有的金屬和金屬氧化物鍍層自玻璃基板向外依次為Sn02/ai02/NiCr/Ag/NiCr/Sn02,即在玻璃基板上依次鍍有氧化錫層(1)氧化鋅層O)、鎳鎘合金層(3)、銀層G)、鎳鎘合金層(5)、氧化錫層(6)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的鍍有雙層MCr吸收層的低反射率鍍膜玻璃,其特征在于,所述的玻璃基板為普通6mm鈉鈣硅酸鹽浮法玻璃。
3.權(quán)利要求1的鍍有雙層MCr吸收層的低反射率鍍膜玻璃的制備方法,具有如下步驟I玻璃基板清洗、干燥;II預(yù)真空過(guò)渡玻璃基板通過(guò)不同的真空腔室,使玻璃從大氣狀態(tài)傳送到工藝所需的高真空狀態(tài);本底真空度小于5X 10_5mbar ;III鍍氧化錫層(1)通過(guò)交流電源將金屬錫靶在氬氧氣氛中濺射,濺射氣壓范圍 2X 10_2mbr 3X 10_4mbr,脈沖電源頻率為15kHz 25kHz ;濺射氬氧混合氣體積比例為氬氧=7 10 3 5,膜層厚度為25 30nm;IV鍍氧化鋅層(2)通過(guò)交流電源將金屬鋅在氬氧氣氛中濺射,濺射氣壓范圍 2X 10_2mbr 3X 10_4mbr,脈沖電源頻率為15kHz 25kHz ;濺射氬氧混合氣體積比例為氬氧=10 7 4 5。膜層厚度為7 12nm ;V鍍鎳鎘合金層(3)通過(guò)直流電源將鎳鎘合金在氬氣氣氛中濺射,濺射氣壓范圍為 8X 10_3mbr 2 X 10_4mbr,膜層厚度為 4 7nm ;VI鍍銀層(4)通過(guò)直流電源將金屬銀靶在氬氣氣氛中濺射,濺射氣壓范圍為 8 X IO^nbr 2 X l(T4mbr,膜層厚度為 10 14nm ;VII鍍鎳鎘合金層(5)通過(guò)直流電源將鎳鎘合金在氬氣氣氛中濺射,濺射氣壓范圍為 8X l(T3mbr 2 X l(T4mbr,膜層厚度為 1 3nm ;VIII鍍氧化錫層(6)通過(guò)交流電源將金屬錫靶在氬氧氣氛中濺射,濺射氣壓范圍 2X 10_2mbr 3X 10_4mbr,脈沖電源頻率為15kHz 25kHz ;濺射氬氧混合氣體積比例為氬氧=3 5 3 7。膜層厚度為25 !35nm ;IX預(yù)真空過(guò)渡玻璃基板通過(guò)不同的真空腔室,使玻璃產(chǎn)品從高真空的工藝狀態(tài)傳送到大氣狀態(tài); X成品包裝。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種鍍有雙層NiCr吸收層的低反射率鍍膜玻璃,包括玻璃基板及玻璃基板上鍍有的金屬和金屬氧化物鍍層,其特征在于,所述的玻璃基板上鍍有的金屬和金屬氧化物鍍層自玻璃基板向外依次為SnO2/ZnO2/NiCr/Ag/NiCr/SnO2,即在玻璃基板上依次鍍有氧化錫層(1)氧化鋅層(2)、鎳鎘合金層(3)、金屬銀層(4)、鎳鎘合金層(5)、氧化錫層(6)。本發(fā)明采用雙層NiCr復(fù)合吸收層的膜系,利用NiCr的高吸收率,有效地降低了玻璃的可見(jiàn)光反射率,提供了一種可以同時(shí)滿足低遮陽(yáng)系數(shù)和低反射要求的鍍膜玻璃。
文檔編號(hào)B32B17/06GK102442032SQ2011102658
公開(kāi)日2012年5月9日 申請(qǐng)日期2011年9月8日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月8日
發(fā)明者張大為, 方志堅(jiān), 楊貴祥, 趙永進(jìn) 申請(qǐng)人:天津耀皮工程玻璃有限公司