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Pvc無縫鐳射膜的制作方法

文檔序號:2457525閱讀:821來源:國知局
專利名稱:Pvc無縫鐳射膜的制作方法
技術領域
本實用新型屬于包裝材料技術領域,尤其涉及一種PVC鐳射膜的改進。
背景技術
鐳射包裝是包裝行業(yè)中的一個細分行業(yè),近年來取得了快速的發(fā)展,與包裝行業(yè) 內的其他產品相比,鐳射包裝材料不僅具有新穎、亮麗的外觀效果,同時還具有高技術防偽功能,被稱為世界包裝印刷業(yè)中最前沿的技術產品。鐳射膜一般采用計算機點陣光刻技術、3D真彩色全息技術、多重與動態(tài)成像技術等,經模壓把具有彩虹動態(tài)、三維立體效果的全息圖像轉移到PET、BOPP, PVC或帶涂層的基材上,然后利用復合、燙印、轉移等方式使商品包裝表面獲得某種激光鐳射效果。目前鐳射材料的應用領域已經非常廣泛,在食品、藥品、日化用品、煙酒、服裝、禮品包裝以及裝飾材料等行業(yè)都得到較快的推廣。從產品成分構成上劃分,鐳射薄膜產品可以大致分為OPP鐳射膜、PET鐳射膜和PVC鐳射膜三種。目前,鐳射膜的制作工藝比較復雜,它采用的是真空腔鍍鋁方式,即將蒸發(fā)舟加熱至1400— 1500°C,連續(xù)送到蒸發(fā)舟上的鋁絲冷化成鋁蒸汽,由于基膜具有靜電吸附力,將鋁分子吸附在薄膜表面,再經過冷卻沉積,從而將鋁均勻地噴鍍在連續(xù)卷取的薄膜表面形成鍍鋁膜,再經過激光雕刻的鐳射版包在輥筒上,在130°C的溫度下模壓后,形成鐳射膜。由于鐳射版包在輥筒上,不能夠完全無縫結合,于是就在鐳射膜上留下了 0. 5mm-2mm的版縫,后續(xù)的印刷或者包裝過程中必須要避開版縫,這樣會帶來工藝上的缺陷和大量的損耗。

實用新型內容本實用新型就是針對現有技術存在的不足,而提供一種使用效率高、損耗小的PVC
無縫鐳射膜。為實現上述目的,本實用新型采用如下技術方案本實用新型包括三層結構,依次為基膜層、鐳射層和鍍鋁層;所述的基膜層為PVC(聚氯乙烯),厚度為35 50 y m,所述的鐳射層為硝基纖維素,厚度為I. 0 I. 2 ii m,所述的鍍招層為純招,厚度為0. 04 0. 05 ii m。優(yōu)選地,所述的PVC為軟質或硬質基膜層。有益效果本實用新型為無版縫產品,不會給后續(xù)的印刷或者包裝生產帶來大量的損耗,大大提高了生產效率,適于應用和推廣。

圖I是本實用新型的結構示意圖。I_基U旲層;2_儀射層;3_鍛招層。
具體實施方式

以下結合附圖,對本實用新型作進一步的說明如圖I所示,PVC無縫鐳射膜包括三層結構,依次為基膜層I、鐳射層2和鍍鋁層3,基膜層I的材料是軟質或者硬質PVC,厚度為35 50 i! m,所述的鐳射層2為硝基纖維素,厚度為I. 0 I. 2 ii m,所述的鍍鋁層3為純鋁,厚度為0. 04 0. 05 y m,加強鐳射層2的反射效果。實施例一基膜層I為硬質PVC,厚度為35 u m,鐳射層2厚度為I. 2 y m,鍍鋁層3厚度為0. 05 Um0 實施例二 基膜層I為軟質PVC,厚度為50 iim,鐳射層2厚度為I. Oym,鍍鋁層3厚度為0. 04 u m。
權利要求1.一種PVC無縫鐳射膜,包括三層結構,其特征在于依次為基膜層、鐳射層和鍍鋁層;所述的基膜層為PVC (聚氯乙烯),厚度為35 50 ym,所述的鐳射層為硝基纖維素,厚度為I. 0 I. 2 ii m,所述的鍍鋁層為純鋁,厚度為0. 04 0. 05 ii m。
2.根據權利要求I所述的PVC無 縫鐳射膜,其特征在于所述的PVC為軟質或硬質基膜層。
3.根據權利要求I所述的PVC無縫鐳射膜,其特征在于所述的基膜層為硬質PVC,厚度為35 u m,鐳射層厚度為I. 2 ii m,鍍鋁層厚度為0. 05 u m。
4.根據權利要求I所述的PVC無縫鐳射膜,其特征在于所述的基膜層為軟質PVC,厚度為50 u m,鐳射層厚度為I. 0 ii m,鍍鋁層厚度為0. 04 u m。
專利摘要本實用新型公開了一種PVC無縫鐳射膜屬于包裝材料技術領域,尤其涉及一種PVC鐳射膜的改進。本實用新型就是提供一種使用效率高、損耗小的PVC無縫鐳射膜。本實用新型包括三層結構,依次為基膜層、鐳射層和鍍鋁層;所述的基膜層為PVC(聚氯乙烯),厚度為35~50μm,所述的鐳射層為硝基纖維素,厚度為1.0~1.2μm,所述的鍍鋁層為純鋁,厚度為0.04~0.05μm。本實用新型為無版縫產品,不會給后續(xù)的印刷或者包裝生產帶來大量的損耗,大大提高了生產效率,適于應用和推廣。
文檔編號B32B23/08GK202357535SQ201120468339
公開日2012年8月1日 申請日期2011年11月23日 優(yōu)先權日2011年11月23日
發(fā)明者林加寶, 林武城, 沈五展 申請人:福建泰興特紙有限公司
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