專利名稱：顯示裝置及其復合光學膜及復合光學膜的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于一種顯示裝置及其復合光學膜及復合光學膜的制造方法。
背景技術(shù)：
許多電子產(chǎn)品在現(xiàn)代人的生活中已是不可或缺的日常用品，且適應市場的激烈競爭以及消費者的要求不斷提高，電子產(chǎn)品的外觀也成為業(yè)者設(shè)計的重要考量之一。請參照圖1所示，其為一種已知的光學膜I示意圖。于此，光學膜I例如為移動通訊裝置中的光學膜。適應設(shè)計的考量，已知的光學膜I是設(shè)置于一基板10上，并包含多個相互疊合的光學膜層11、12。其中，這些光學膜層11、12例如可分別具有抗反射、或濾光等不同功能。然而，于已知技術(shù)中，并無法適應不同區(qū)域的不同需求，來形成不同功能的光學膜層11、12。舉例來說，在基板10上可分為第一區(qū)域Al以及第二區(qū)域A2，若欲于第二區(qū)域A2形成具有抗反射功能的光學膜層11、12，則于已知技術(shù)中，光學膜層11除了會設(shè)置于第二區(qū)域A2之外，還會設(shè)置在周圍的第一區(qū)域Al，以形成一平坦的膜層；而光學膜層12也是如此，均會設(shè)置在第一區(qū)域Al及第二區(qū)域A2。因此，已知的光學膜I于不同的區(qū)域中所具有的光學性質(zhì)是相同的，無法適應不同區(qū)域具有不同的光學功能，而僅具有單一光學功能。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于上述課題，本發(fā)明的目的為提供一種可具有復合光學功能的顯示裝置及其復合光學膜及復合光學膜的制造方法。為達到上述目的，依據(jù)本發(fā)明的一種復合光學膜，設(shè)置于一基板，基板具有一第一區(qū)域及一第二區(qū)域，第一區(qū)域鄰設(shè)于第二區(qū)域，復合光學膜包括一第一光學膜及一第二光學膜。第一光學膜設(shè)置于第一區(qū)域；第二光學膜設(shè)置于第一光學膜上及第二區(qū)域之上。為達到上述目的，依據(jù)本發(fā)明的一種顯示裝置，包含一裝置本體及一保護基板。保護基板設(shè)置于裝置本體的一側(cè)，保護基板具有一基板及一復合光學膜。基板具有一第一區(qū)域及一第二區(qū)域，第一區(qū)域鄰設(shè)于第二區(qū)域。復合光學膜具有一第一光學膜及一第二光學膜，第一光學膜設(shè)置于第一區(qū)域，第二光學膜設(shè)置于第一光學膜上及第二區(qū)域之上。為達到上述目的，依據(jù)本發(fā)明的一種復合光學膜的制造方法包含形成一第一光學膜于一基板的一第一區(qū)域，第一區(qū)域鄰設(shè)于一第二區(qū)域周圍；以一濕式制程形成一第二光學膜于第一光學膜上及第二區(qū)域之上。承上所述，本發(fā)明的顯示裝置的復合光學膜系將一第一光學膜形成于一基板的一第一區(qū)域，再以一濕式制程形成一第二光學膜于第一光學膜上及第二區(qū)域之上。借此，本發(fā)明的復合光學膜可適應基板上不同的第一區(qū)域及第二區(qū)域，而具有不同的光學功能，故能增加復合光學膜的應用性，進而增加產(chǎn)品競爭力。


為讓本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點能更明顯易懂，以下結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實施方式

作詳細說明，其中:圖1為一種已知的光學膜不意圖；圖2為本發(fā)明較佳實施例的復合光學膜的制造方法的流程步驟圖；圖3A及圖3B為本發(fā)明較佳實施例的復合光學膜的制作過程示意圖；圖4A及圖4B為本發(fā)明較佳實施例的復合光學膜的另一態(tài)樣制作過程示意圖；圖5A至圖5B為本發(fā)明較佳實施例的復合光學膜的不同態(tài)樣示意圖；圖6為本發(fā)明較佳實施例的顯示裝置的示意圖；以及圖7為本發(fā)明較佳實施例的顯示裝置的另一態(tài)樣示意圖。主要元件符號說明:1:光學膜10、41、41a:基板11、12:光學膜層2、2a 2e:復合光學膜21、21a:第一光學膜22、22a:第二光學膜23:第三光學膜24:第四光學膜3、3a:顯示裝置31:裝置本體4:保護基板Al:第一區(qū)域A2:第二區(qū)域Hl H3:厚度SOl S02:本發(fā)明的復合光學膜的制造方法的流程步驟
具體實施例方式以下將參照相關(guān)圖式，說明依本發(fā)明較佳實施例的一種顯示裝置及其復合光學膜及復合光學膜的制造方法，其中相同的元件將以相同的元件符號加以說明。請參照圖2、圖3A及圖3B所示，其中圖2為本發(fā)明較佳實施例的復合光學膜的制造方法的流程步驟圖，圖3A及圖3B為本發(fā)明較佳實施例的復合光學膜的制作過程示意圖。本發(fā)明較佳實施例的復合光學膜2的制造方法包含步驟SOl及步驟S02。請參照圖2及圖3A，步驟SOl為形成一第一光學膜21于一基板41的一第一區(qū)域Al，第一區(qū)域Al鄰設(shè)于一第二區(qū)域A2。基板41的材質(zhì)包含高分子聚合物(例如聚對苯二甲酸乙二酯(PET))、金屬或玻璃。第一光學膜21的材質(zhì)包含氧化娃、氧化招或氟化鎂或其組合，其中氧化硅可以為二氧化硅(SiO2)、氧化鋁可以為三氧化二鋁(Al2O3)、氟化鎂可以為二氟化鎂(MgF2)。而第一光學膜21的折射率可介于1.3至1.7之間。又，第一光學膜21例如可利用干式制程或濕式制程形成，干式制程例如物理氣相沉積(Physical VaporDeposition, PVD)及化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition, CVD)等,濕式制程例如為浸泡涂布(dip coating)、狹縫涂布(slit coating)、旋轉(zhuǎn)涂布(spin coating)及噴霧涂布(spray coating)等,第一光學膜21的形成方式于此不予以限制。而為了形成第一光學膜21位于第一區(qū)域Al的圖案，例如可利用遮罩方式遮擋第二區(qū)域A2或利用可撥膠(peelablemask)技術(shù)來形成。再者，如欲形成高解析度的圖案于第一區(qū)域Al，亦可使用黃光制程。如圖2及圖3B所示，步驟S02為以一濕式制程形成一第二光學膜22于第一光學膜21上及基板41的第二區(qū)域A2。濕式制程包含浸泡涂布、狹縫涂布、旋轉(zhuǎn)涂布及噴霧涂布等，于此不予以限制。第二光學膜22的材質(zhì)包含氮化硅、氧化鈦、氧化鈮或氧化鉭或其組合，其中氮化硅可以為四氮化三硅(Si3N4)、氧化鈦可以為二氧化鈦(TiO2)、氧化鈮可以為五氧化二鈮(Nb2O5)、氧化鉭可以為五氧化二鉭(Ta2O5)。而第二光學膜22的折射率可介于
1.8至2.4之間。因此，可利用濕式制程并借由其流平的特性來形成第二光學膜22，并可使第二光學膜22形成一平坦化層，也就是第二光學膜22的上表面為平坦的。再者，于本實施例中，復合光學膜2位于第一區(qū)域Al的第一光學膜21及第二光學膜22的厚度加總H1+H2，與復合光學膜2位于第二區(qū)域A2的第二光學膜22的厚度H3差小于H1+H2的20 %，且第一光學膜21的厚度Hl及第二光學膜22的厚度H2或H3可介于I納米至I微米之間，而Hl、H2或H3較佳實施例范圍則為I納米至300納米之間。因此，本實施例的復合光學膜2位于第一區(qū)域Al的色度、穿透率、反射率或折射率可與位于第二區(qū)域A2不同。于此，第一區(qū)域Al可為高反射區(qū)，在可見光(380 780nm)下，反射率約可達60%，可以搭配裝飾鍍膜技術(shù)的應用；而第二區(qū)域A2系可為抗反射區(qū)，在可見光(380 780nm)下,反射率約可低達1.2%。借此,本實施例的復合光學膜2可適應第一區(qū)域Al及第二區(qū)域A2所需的不同光學功能，而分別形成不同功能的光學膜。如圖4A至圖4B所示為本發(fā)明較佳實施例的復合光學膜的另一態(tài)樣制作過程示意圖。同樣的，先形成第一光學膜21a于基板41a的第一區(qū)域Al，第一區(qū)域Al可圍設(shè)第二區(qū)域A2，或第二區(qū)域A2圍設(shè)第一區(qū)域Al。于此，以第一區(qū)域Al圍設(shè)于第二區(qū)域A2的周圍為例。接著，以濕式制程形成第二光學膜22a于第一光學膜21a上及基板41a的第二區(qū)域A2之上。再者，同樣的，于本實施例中，復合光學膜2a位于第一區(qū)域Al的第一光學膜21a及第二光學膜22a的厚度加總H1+H2,與復合光學膜2a位于第二區(qū)域A2的第二光學膜22a的厚度H3差系小于H1+H2的20%，且第一光學膜21a的厚度Hl及第二光學膜22a的厚度H2或H3可介于I納米至I微米之間，而H1、H2或H3較佳實施例范圍則為I納米至300納米之間。因此，本實施例的復合光學膜2a位于第一區(qū)域Al的色度、穿透率、反射率或折射率可與位于第二區(qū)域A2不同。另外，請參照圖5A所示，其為本發(fā)明較佳實施例的復合光學膜的另一態(tài)樣示意圖。復合光學膜2b更可形成一第三光學膜23于第一區(qū)域Al的第二光學膜22a之上,而第三光學膜23可與第一光學膜21a的材質(zhì)相同或不相同。因此,可借由第三光學膜23來加強第一區(qū)域Al的光學功能，以增加復合光學膜2b的應用范圍。又，請參照圖5B所示，其為本發(fā)明較佳實施例的復合光學膜的又一態(tài)樣示意圖。復合光學膜2c更可形成一第四光學膜24于第一區(qū)域Al的第三光學膜23上及第二區(qū)域A2的第二光學膜22a之上。而第四光學膜24可與第二光學膜22a的材質(zhì)相同或不相同,借由第四光學膜24可再加強第二區(qū)域A2的光學功能。因此，依需求第一區(qū)域Al及第二區(qū)域A2可形成多個的光學膜。多個光學膜的各層光學膜形成位置可以先于第一區(qū)域Al形成光學膜，再形成同時覆蓋第一區(qū)域Al及第二區(qū)域A2的光學膜，并重復此順序疊構(gòu)而成。而多個光學膜的各層光學膜疊構(gòu)順序亦可穿插先于第二區(qū)域A2形成光學膜，再形成同時覆蓋第一區(qū)域Al及第二區(qū)域A2的光學膜。因此，多個光學膜的疊構(gòu)方式于此不予以限制。請參照圖6所示，其為本發(fā)明較佳實施例的顯示裝置的示意圖。顯示裝置3例如可為一觸控顯示裝置、一液晶顯示裝置、一有機發(fā)光二極管顯示裝置或一電子紙顯示裝置。顯示裝置3包含一裝置本體31及一保護基板4，保護基板4具有基板41a及復合光學膜2d。于此,復合光學膜2d可以米用復合光學膜2a、2b或2c的方式形成，則保護基板4可成為一裝飾玻璃，即于第一區(qū)域Al形成高反射區(qū)，其對應顯示裝置的非有源顯示區(qū)(blackmatrix area),在可見光(380 780nm)下,反射率約可達60%,可以搭配裝飾鍍膜技術(shù)的應用；而第二區(qū)域A2系形成抗反射區(qū)，其對應顯示裝置的有源顯示區(qū)(active area)，在可見光(380 780nm)下，反射率約可低達1.2%。保護基板4可再與裝置本體31 (例如為觸控顯示面板或顯示面板)連接，以成為例如移動通訊裝置、觸控移動通訊裝置或觸控平板電腦等的顯示裝置。請參照圖7所示，其為本發(fā)明較佳實施例的顯示裝置的另一態(tài)樣示意圖。于此，顯示裝置3a例如可為移動通訊裝置的顯示裝置，則第一區(qū)域Al的復合光學膜2e例如可為紅外光(波長大于700納米)接收區(qū)，而第一區(qū)域Al的紅外光穿透率大于90%，以作為手機紅外線接收孔。位于第二區(qū)域A2的復合光學膜2e可為抗反射區(qū)，第二區(qū)域A2反射率約為2.7%。于此,復合光學膜2e可以米用復合光學膜2a、2b或2c的方式形成。再者,更可有一第三區(qū)域(圖未表示)，圍設(shè)于第二區(qū)域A2的周圍以搭配裝飾鍍膜技術(shù)的應用。借此，可增加復合光學膜2e的應用范圍。綜上所述，本發(fā)明的顯不裝置的復合光學膜系將一第一光學膜形成于一基板的一第一區(qū)域，再以一濕式制程形成一第二光學膜于第一光學膜上及基板的第二區(qū)域之上。借此，本發(fā)明的復合光學膜可對應基板上不同的第一區(qū)域及第二區(qū)域，而具有不同的光學功能，故能增加復合光學膜的應用性，進而增加產(chǎn)品競爭力。雖然本發(fā)明已以較佳實施例揭示如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何本領(lǐng)域技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當可作些許的修改和完善，因此本發(fā)明的保護范圍當以權(quán)利要求書所界定的為準。
權(quán)利要求
1.一種復合光學膜，設(shè)置于一基板，該基板具有一第一區(qū)域及一第二區(qū)域，該第一區(qū)域鄰設(shè)于該第二區(qū)域，包括: 一第一光學膜，設(shè)置于該第一區(qū)域；以及 一第二光學膜，設(shè)置于該第一光學膜上及該第二區(qū)域之上。
2.如權(quán)利要求1所述的復合光學膜，其特征在于，位于該第一區(qū)域的該第一光學膜及該第二光學膜的厚度加總與位于該第二區(qū)域的該第二光學膜的厚度差小于該第一區(qū)域的該第一光學膜及該第二光學膜的厚度加總的20%。
3.如權(quán)利要求1所述的復合光學膜，其特征在于，該復合光學膜于該第一區(qū)域的光學特性是與于該第二區(qū)域不同。
4.如權(quán)利要求1所述的復合光學膜，其特征在于，該第一光學膜的厚度介于I納米至I微米之間，該第二光學膜的厚度介于I納米至I微米之間。
5.如權(quán)利要求1所述的復合光學膜，其特征在于，該第二光學膜為一平坦化層。
6.如權(quán)利要求1所述的復合光學膜，其特征在于，該第二光學膜是以濕式制程形成。
7.如權(quán)利要求1所述的復合光學膜，還包含: 一第三光學膜，設(shè)置于該第一區(qū)域或該第二區(qū)域的該第二光學膜之上。
8.一種復合光學膜的制造方法，包含: 形成一第一光學膜于一基板的一第一區(qū)域，該第一區(qū)域鄰設(shè)于一第二區(qū)域；以及 以一濕式制程形成一第二光學膜于該第一光學膜上及該第二區(qū)域之上。
9.如權(quán)利要求8所述的制造方法，還包含: 形成一第三光學膜于該第一區(qū)域或該第二區(qū)域的該第二光學膜之上。
10.一種顯示裝置，包括: 一裝置本體；以及 一保護基板，設(shè)置于該裝置本體的一側(cè)，該保護基板包括: 一基板，具有一第一區(qū)域及一第二區(qū)域，該第一區(qū)域鄰設(shè)于該第二區(qū)域；及一復合光學膜，具有一第一光學膜及一第二光學膜，該第一光學膜設(shè)置于該第一區(qū)域，該第二光學膜設(shè)置于該第一光學膜上及該第二區(qū)域之上。
11.如權(quán)利要求10所述的顯示裝置，其特征在于，位于該第一區(qū)域的該第一光學膜及該第二光學膜的厚度加總與位于該第二區(qū)域的該第二光學膜的厚度差是小于該第一區(qū)域的該第一光學膜及該第二光學膜的厚度加總的20%。
12.如權(quán)利要求10所述的顯示裝置，其特征在于，該復合光學膜于該第一區(qū)域的光學特性是與于該第二區(qū)域不同。
13.如權(quán)利要求10所述的顯示裝置，其特征在于，該第一區(qū)域圍設(shè)該第二區(qū)域。
14.如權(quán)利要求13所述的顯示裝置，其特征在于，該第一光學膜的折射率介于1.3至1.7之間。
15.如權(quán)利要求13所述的顯示裝置，其特征在于，該第二光學膜的折射率介于1.8至2.4之間。
16.如權(quán)利要求10所述的顯示裝置，其特征在于，該第二區(qū)域圍設(shè)該第一區(qū)域。
17.如權(quán)利要求10所述的顯示裝置，其特征在于，該第一光學膜的厚度介于I納米至I微米之間，該第二光學膜的厚度介于I納米至I微米之間。
18.如權(quán)利要求10所述的顯示裝置，其特征在于，該第二光學膜為一平坦化層。
19.如權(quán)利要求10所述的顯示裝置，其特征在于，該第二光學膜系以濕式制程形成。
20.如權(quán)利要求10所述的顯示裝置，其特征在于，該復合光學膜還具有:一第三光學膜，設(shè)置 于該第一區(qū)域或該第二區(qū)域的該第二光學膜之上。
全文摘要
本發(fā)明提出一種復合光學膜，設(shè)置于一基板，基板具有一第一區(qū)域及一第二區(qū)域，第一區(qū)域鄰設(shè)于第二區(qū)域，復合光學膜包括一第一光學膜及一第二光學膜。第一光學膜設(shè)置于一區(qū)域；第二光學膜設(shè)置于第一光學膜上及第二區(qū)域之上。本發(fā)明還提出一種顯示裝置及復合光學膜的制作方法。
文檔編號B32B5/00GK103207420SQ20121000709
公開日2013年7月17日 申請日期2012年1月11日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月11日
發(fā)明者賴思維, 高嘉朗, 許惠珍 申請人:群康科技(深圳)有限公司, 奇美電子股份有限公司