專利名稱：紫外可見波段高反射率高穩(wěn)定性反射鏡及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于光學(xué)儀器領(lǐng)域，本發(fā)明是對(duì)反射膜制作方法的改進(jìn)，特別適用于在紫外光和可見光波長范圍的反射鏡的制備方法。具體涉及一種紫外可見波段高反射率高穩(wěn)定性反射鏡及其制備方法。
背景技術(shù)：
在科學(xué)分析儀器例如光譜儀器、色譜儀器等，在光路中使用反射鏡片比較普遍?，F(xiàn)在制造紫外可見波長反射鏡片的技術(shù)是在以玻璃為基體的表面上鍍鋁膜，或者在鋁膜的基礎(chǔ)上再鍍一層二氧化硅。僅鍍鋁膜后，反射率下降很快，一般一個(gè)月后在200nm處的反射率 < 80%，三個(gè)月后在200nm處的反射率< 75%。而在鋁膜上再鍍一層二氧化硅后，在200nm處的反射率< 80%，滿足不了光譜、色譜儀器的要求。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服上述已有技術(shù)的不足，提供一種紫外可見波段高反射率高穩(wěn)定性反射鏡。所述的反射鏡在紫外可見光波長范圍內(nèi)有較高反射率，且反射率保持穩(wěn)定。本發(fā)明的另一目的在于提供一種紫外可見波段高反射率高穩(wěn)定性反射鏡的制備方法。本發(fā)明的目的可以通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)一種紫外可見波段高反射率高穩(wěn)定性反射鏡，包括玻璃基板、過渡層、金屬層、氟化物和保護(hù)層，所述的玻璃基板、過渡層、金屬層、氟化物層和保護(hù)層依次設(shè)置。所述的過渡層為鎳，所述的金屬層為鋁、所述的氟化物層依次由冰晶石層和氟化鎂層組成，所述的保護(hù)層依次由二氧化硅層和氟化鈰層組成。所述過渡層鎳的幾何厚度為10 20納米，所述金屬層鋁的幾何厚度為60 90納米，所述冰晶石層的幾何厚度為5 15納米，所述氟化鎂層的幾何厚度為5 20納米，所述二氧化硅層的幾何厚度為10 25納米，所述氟化鈰層的幾何厚度為10 20納米。上述的紫外可見波段高反射率高穩(wěn)定性反射鏡，采用以下方法制備(I)在基板上鍍過渡層鎳，溫度80°C 200°C ; (2)在過渡層上鍍金屬層鋁，溫度40°C 100°C ；(3)在金屬層上鍍冰晶石層，溫度40°C 100°C ； (4)在冰晶石層上鍍氟化鎂層，溫度40°C IOO0C ； (5)在氟化鎂層上鍍二氧化硅層，溫度40°C 100°C ; (6)在二氧化硅層上鍍氟化鈰層，溫度40°C 70°C。一種紫外可見波段高反射率高穩(wěn)定性反射鏡的制備方法，包括以下步驟(1)在基板上鍍過渡層鎳，溫度80°c 200°C; (2)在過渡層上鍍金屬層鋁，溫度40°C 100°C; (3)在金屬層上鍍冰晶石層，溫度40°C 100°C ； (4)在冰晶石層上鍍氟化鎂層，溫度40°C IOO0C ； (5)在氟化鎂層上鍍二氧化硅層，溫度40°C 100°C ; (6)在二氧化硅層上鍍氟化鈰層，溫度40°C 70°C。上述的紫外可見波段高反射率高穩(wěn)定性反射鏡的制備方法，其在于所述過渡層鎳的幾何厚度為10 20納米，所述金屬層鋁的幾何厚度為60 90納米，所述冰晶石層的幾何厚度為5 15納米，所述氟化鎂層的幾何厚度為5 20納米，所述二氧化硅層的幾何厚度為10 25納米，所述氟化鈰層的幾何厚度為10 20納米。本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比有如下優(yōu)點(diǎn)本發(fā)明的反射鏡可在紫外和可見光范圍內(nèi)使用，比較現(xiàn)有技術(shù)相同使用范圍反射鏡，反射率高，在190nm 300nm反射率> 92%，在紫外可見波長反射率穩(wěn)定性高，紫外可見波段反射率無明顯下降，一年內(nèi)190nm 300nm反射率仍彡92%。


圖I本發(fā)明紫外可見波段高反射率高穩(wěn)定性反射鏡結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式實(shí)施例I如圖I所示的紫外可見波段高反射率高穩(wěn)定性反射鏡，包括玻璃基板I、過渡層2、金屬層3、氟化物和保護(hù)層，所述的玻璃基板I、過渡層2、金屬層3、氟化物層和保護(hù)層依次設(shè)置。所述的過渡層為鎳，所述的金屬層為鋁、所述的氟化物層依次由冰晶石層4和氟化鎂層5組成，所述的保護(hù)層依次由二氧化硅層6和氟化鈰層7組成。所述過渡層鎳的幾何厚度為15納米，所述金屬層鋁的幾何厚度為75納米，所述冰晶石層的幾何厚度為10納米，所述氟化鎂層的幾何厚度為10納米，所述二氧化硅層的幾何厚度為15納米,所述氟化鈰層的幾何厚度為15納米。采用以下方法制備(I)在基板上鍍過渡層鎳，溫度150°C;(2)在過渡層上鍍金屬層鋁，溫度70°C ;(3)在金屬層上鍍冰晶石層，溫度70°C ； (4)在冰晶石層上鍍氟化鎂層，溫度70°C ; (5)在氟化鎂層上鍍二氧化硅層，溫度70°C ; (6)在二氧化硅層上鍍氟化鈰層，溫度55 °C。反射率穩(wěn)定性的測試方法為反射率檢測方法是用光譜儀進(jìn)行測試，是本領(lǐng)域技術(shù)人員公知的。在第一次反射率測試以后將樣品在正常工作條件下(溫度5°C 35°C，相對(duì)濕度85%，室內(nèi)無腐蝕性氣體)放置一年進(jìn)行第二次測試，對(duì)比二者的測試數(shù)據(jù)確定其穩(wěn)定 性。本發(fā)明的反射鏡可在紫外和可見光范圍內(nèi)使用，比較現(xiàn)有技術(shù)相同使用范圍的反射鏡，反射率高，在190nm 300nm反射率> 92%，在紫外可見波長反射率穩(wěn)定性高，紫外可見波段反射率無明顯下降，一年內(nèi)190nm 300nm反射率仍彡92%。
權(quán)利要求
1.一種紫外可見波段高反射率高穩(wěn)定性反射鏡，其特征在于包括玻璃基板(I)、過渡層(2)、金屬層(3)、氟化物和保護(hù)層，所述的玻璃基板(I)、過渡層(2)、金屬層(3)、氟化物層和保護(hù)層依次設(shè)置。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的紫外可見波段高反射率高穩(wěn)定性反射鏡，其特征在于所述的過渡層為鎳，所述的金屬層為鋁、所述的氟化物層依次由冰晶石層和氟化鎂層組成，所述的保護(hù)層依次由二氧化硅層和氟化鈰層組成。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的紫外可見波段高反射率高穩(wěn)定性反射鏡，其特征在于所述過渡層鎳的幾何厚度為10 20納米，所述金屬層鋁的幾何厚度為60 90納米，所述冰晶石層的幾何厚度為5 15納米，所述氟化鎂層的幾何厚度為5 20納米，所述二氧化硅層的幾何厚度為10 25納米，所述氟化鈰層的幾何厚度為10 20納米。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的紫外可見波段高反射率高穩(wěn)定性反射鏡，其特征在于采用以下方法制備(I)在基板上鍍過渡層鎳，溫度80°C 200°C ；(2)在過渡層上鍍金屬層鋁，溫度40°C 1001;(3)在金屬層上鍍冰晶石層，溫度401 100°C; (4)在冰晶石層上鍍氟化鎂層，溫度40°C 100°C ; (5)在氟化鎂層上鍍二氧化硅層，溫度40°C 100°C ；(6)在二氧化硅層上鍍氟化鈰層，溫度40°C 70°C。
5.一種紫外可見波段高反射率高穩(wěn)定性反射鏡的制備方法，其特征在于包括以下步驟 (I)在基板上鍍過渡層鎳，溫度80°C 200°C ； (2)在過渡層上鍍金屬層鋁，溫度40°C 100°C;(3)在金屬層上鍍冰晶石層，溫度40°C 100°C; (4)在冰晶石層上鍍氟化鎂層，溫度40°C 100°C ；(5)在氟化鎂層上鍍二氧化硅層，溫度40°C 100°C ；(6)在二氧化硅層上鍍氟化鈰層，溫度40V 70°C。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的紫外可見波段高反射率高穩(wěn)定性反射鏡的制備方法，其特征在于所述過渡層鎳的幾何厚度為10 20納米，所述金屬層鋁的幾何厚度為60 90納米，所述冰晶石層的幾何厚度為5 15納米，所述氟化鎂層的幾何厚度為5 20納米，所述二氧化硅層的幾何厚度為10 25納米，所述氟化鈰層的幾何厚度為10 20納米。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種紫外可見波段高反射率高穩(wěn)定性反射鏡及其制備方法，所述的反射鏡包括玻璃基板、過渡層、金屬層、氟化物和保護(hù)層，所述的玻璃基板、過渡層、金屬層、氟化物層和保護(hù)層依次設(shè)置。本發(fā)明的反射鏡可在紫外和可見光范圍內(nèi)使用，比較現(xiàn)有技術(shù)相同使用范圍反射鏡，反射率高，在190nm～300nm反射率＞92%，在紫外可見波長反射率穩(wěn)定性高，紫外可見波段反射率無明顯下降，一年內(nèi)190nm～300nm反射率仍≥92%。
文檔編號(hào)B32B15/04GK102707350SQ2012102039
公開日2012年10月3日 申請(qǐng)日期2012年6月19日 優(yōu)先權(quán)日2012年6月19日
發(fā)明者龐華華, 李建潮, 楊靖輝 申請(qǐng)人:宜興市晶科光學(xué)儀器有限公司