專(zhuān)利名稱(chēng)：一種圓柱磨漿機(jī)磨盤(pán)位移檢測(cè)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種圓柱磨漿機(jī)磨盤(pán)位移檢測(cè)裝置。
背景技術(shù)：
磨漿機(jī)是造紙工業(yè)中磨漿工段的核心設(shè)備，漿料在磨盤(pán)之間通過(guò)反復(fù)壓縮產(chǎn)生彈性和塑性變形，逐步分絲、帚化形成造紙纖維。但現(xiàn)有技術(shù)對(duì)如何實(shí)時(shí)檢測(cè)磨盤(pán)移動(dòng)的距離，并根據(jù)極限位置推算出定盤(pán)磨片和動(dòng)盤(pán)磨片之間的間隙存在不足。發(fā)明內(nèi)容為解決上述現(xiàn)有的缺點(diǎn)，本實(shí)用新型的主要目的在于提供一種實(shí)用的圓柱磨漿機(jī)磨盤(pán)位移檢測(cè)裝置，可以實(shí)時(shí)檢測(cè)磨盤(pán)移動(dòng)的距離，并根據(jù)極限位置推算出定盤(pán)磨片和動(dòng)盤(pán)磨片之間的間隙。為達(dá)成以上所述的目的，本實(shí)用新型的一種圓柱磨漿機(jī)磨盤(pán)位移檢測(cè)裝置采取如下技術(shù)方案一種圓柱磨漿機(jī)磨盤(pán)位移檢測(cè)裝置，它包括機(jī)體外殼、主動(dòng)滑塊、從動(dòng)滑塊、定盤(pán)磨片、動(dòng)盤(pán)磨片、驅(qū)動(dòng)軸、起始位置光電開(kāi)關(guān)、終止位置光電開(kāi)關(guān)、位移傳感器和固定機(jī)架，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)軸一端設(shè)置起始位置光電開(kāi)關(guān)和終止位置光電開(kāi)關(guān)，另一端設(shè)置機(jī)體外殼，中間設(shè)置固定機(jī)架，所述機(jī)體外殼內(nèi)設(shè)置主動(dòng)滑塊、從動(dòng)滑塊、定盤(pán)磨片和動(dòng)盤(pán)磨片，所述位移傳感器一端設(shè)置在機(jī)體外殼上，另一端設(shè)置在固定機(jī)架上。采用如上技術(shù)方案的本實(shí)用新型，具有如下有益效果可以實(shí)時(shí)檢測(cè)磨盤(pán)移動(dòng)的距離，并根據(jù)極限位置推算出定盤(pán)磨片和動(dòng)盤(pán)磨片之間的間隙。
圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本實(shí)用新型的間隙調(diào)節(jié)原理示意圖。
具體實(shí)施方式
為了進(jìn)一步說(shuō)明本實(shí)用新型，
以下結(jié)合附圖進(jìn)一步進(jìn)行說(shuō)明如圖1所示，本實(shí)用新型的一種圓柱磨漿機(jī)磨盤(pán)位移檢測(cè)裝置，它包括機(jī)體外殼1、主動(dòng)滑塊2、從動(dòng)滑塊3、定盤(pán)磨片4、動(dòng)盤(pán)磨片5、驅(qū)動(dòng)軸6、起始位置光電開(kāi)關(guān)7、終止位置光電開(kāi)關(guān)8、位移傳感器9和固定機(jī)架10,驅(qū)動(dòng)軸6 —端設(shè)置起始位置光電開(kāi)關(guān)7和終止位置光電開(kāi)關(guān)8，用于定位主動(dòng)滑塊的起始位置和終止位置，另一端設(shè)置機(jī)體外殼1，驅(qū)動(dòng)軸6推動(dòng)機(jī)體外殼I沿水平方向往復(fù)運(yùn)動(dòng)，中間設(shè)置固定機(jī)架10。機(jī)體外殼I內(nèi)設(shè)置主動(dòng)滑塊2、從動(dòng)滑塊3、定盤(pán)磨片4和動(dòng)盤(pán)磨片5，根據(jù)主動(dòng)滑塊2和從動(dòng)滑塊3之間斜面的角度，建立主動(dòng)滑塊2水平移動(dòng)的距離與從動(dòng)滑塊3豎直方向移動(dòng)的距離之間的關(guān)系，從而計(jì)算出從動(dòng)滑塊3沿豎直方向移動(dòng)的距離，繼而得到磨盤(pán)磨片之間的間隙變化量。主動(dòng)滑塊2在驅(qū)動(dòng)軸6的推動(dòng)下，水平移動(dòng)，由于斜面的作用，推動(dòng)從動(dòng)滑塊3沿著豎直方向移動(dòng)，從而動(dòng)態(tài)調(diào)節(jié)安裝在從動(dòng)滑塊3上的定盤(pán)磨片4與安裝在驅(qū)動(dòng)軸6上的動(dòng)盤(pán)磨片5之間的間隙。位移傳感器9 一端設(shè)置在機(jī)體外殼I上，另一端設(shè)置在固定機(jī)架10上，用于檢測(cè)和采集滑塊行進(jìn)的實(shí)時(shí)位移數(shù)據(jù)。如圖2所示，本實(shí)用新型的一種圓柱磨漿機(jī)磨盤(pán)位移檢測(cè)裝置，定盤(pán)磨片3固定在從動(dòng)滑塊2上，主動(dòng)滑塊1在電機(jī)驅(qū)動(dòng)下向右平移，由于斜面的作用，推動(dòng)從動(dòng)滑塊2帶動(dòng)定盤(pán)磨片3向動(dòng)盤(pán)磨片4方向移動(dòng)，使得磨片之間的間隙減小。當(dāng)主動(dòng)滑塊1向左移動(dòng)，從動(dòng)滑塊2在漿壓作用下帶動(dòng)定盤(pán)磨片3，向動(dòng)盤(pán)磨片4的反方向移動(dòng)，從而增大磨片之間的間隙。電機(jī)驅(qū)動(dòng)主動(dòng)滑塊I向左運(yùn)動(dòng)，當(dāng)?shù)竭_(dá)左側(cè)光電限位開(kāi)關(guān)時(shí)，主動(dòng)滑塊I停止，系統(tǒng)將此位置設(shè)為零點(diǎn)位置，此時(shí)，將位移傳感器檢測(cè)值設(shè)為X0。電機(jī)驅(qū)動(dòng)主動(dòng)滑塊向右運(yùn)動(dòng)，直至磨片接觸時(shí)，系統(tǒng)將此位置設(shè)為極限位置，此時(shí)位移傳感器的檢測(cè)值設(shè)為X1。磨漿機(jī)運(yùn)行過(guò)程中，位移傳感器檢測(cè)值設(shè)為X,根據(jù)工藝條件，主動(dòng)滑塊1向右移動(dòng)，則減小磨盤(pán)間隙，向左移動(dòng)則增大磨盤(pán)間隙。主動(dòng)滑塊的位移量為ΔX=X-X0,設(shè)從動(dòng)滑塊2斜面與水平面之間的夾角為α，則從動(dòng)滑塊2沿豎直方向行進(jìn)的距離為ΔY=ΔX.tanα,根據(jù)ΔY的數(shù)
值即可確定磨盤(pán)間隙的增加量或減少量，磨片間隙值可以按照下式計(jì)算:S=(X1-X).tanα。
權(quán)利要求1. 一種圓柱磨漿機(jī)磨盤(pán)位移檢測(cè)裝置，它包括機(jī)體外殼、主動(dòng)滑塊、從動(dòng)滑塊、定盤(pán)磨片、動(dòng)盤(pán)磨片、驅(qū)動(dòng)軸、起始位置光電開(kāi)關(guān)、終止位置光電開(kāi)關(guān)、位移傳感器和固定機(jī)架，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)軸一端設(shè)置起始位置光電開(kāi)關(guān)和終止位置光電開(kāi)關(guān)，另一端設(shè)置機(jī)體外殼，中間設(shè)置固定機(jī)架，所述機(jī)體外殼內(nèi)設(shè)置主動(dòng)滑塊、從動(dòng)滑塊、定盤(pán)磨片和動(dòng)盤(pán)磨片，所述位移傳感器一端設(shè)置在機(jī)體外殼上，另一端設(shè)置在固定機(jī)架上。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)一種圓柱磨漿機(jī)磨盤(pán)位移檢測(cè)裝置，它包括機(jī)體外殼、主動(dòng)滑塊、從動(dòng)滑塊、定盤(pán)磨片、動(dòng)盤(pán)磨片、驅(qū)動(dòng)軸、起始位置光電開(kāi)關(guān)、終止位置光電開(kāi)關(guān)、位移傳感器和固定機(jī)架，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)軸一端設(shè)置起始位置光電開(kāi)關(guān)和終止位置光電開(kāi)關(guān)，另一端設(shè)置機(jī)體外殼，中間設(shè)置固定機(jī)架，所述機(jī)體外殼內(nèi)設(shè)置主動(dòng)滑塊、從動(dòng)滑塊、定盤(pán)磨片和動(dòng)盤(pán)磨片，所述位移傳感器一端設(shè)置在機(jī)體外殼上，另一端設(shè)置在固定機(jī)架上?？梢詫?shí)時(shí)檢測(cè)磨盤(pán)移動(dòng)的距離，并根據(jù)極限位置推算出定盤(pán)磨片和動(dòng)盤(pán)磨片之間的間隙。
文檔編號(hào)D21D1/30GK202898875SQ201220591160
公開(kāi)日2013年4月24日 申請(qǐng)日期2012年11月12日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月12日
發(fā)明者劉慶立, 王孟效, 湯偉, 湯喻杰 申請(qǐng)人:陜西西微測(cè)控工程有限公司