防眩膜的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明涉及一種防眩膜。所述防眩膜中的各層具有提高的表面粘合力和耐磨損性，并且所述防眩膜可以通過(guò)簡(jiǎn)化的方法制造。
【專(zhuān)利說(shuō)明】防眩膜
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種抗反射涂膜(ant1-reflectivecoating film)。
【背景技術(shù)】
[0002]一般而言，抗反射涂膜(防眩膜(ant1-glare f ilm))置于顯示器如PDP、CRT和LCD的屏幕上以使外部光的反射最小化。
[0003]常規(guī)抗反射涂膜通常通過(guò)在透光基底上設(shè)置抗反射層而形成。在該方面，最廣泛使用的抗反射層具有由增光基底順序?qū)訅旱玫降娜龑咏Y(jié)構(gòu)，即，硬涂層和高折射率層以及低折射率層。近來(lái)，由抗反射層省略硬涂層或高折射率層的兩層結(jié)構(gòu)已經(jīng)商業(yè)化，以簡(jiǎn)化制備方法。為提供防眩和耐劃傷特性，還已經(jīng)使用了具有防眩硬涂層的抗反射涂膜。
[0004]同時(shí)，抗反射涂膜通常通過(guò)干法或濕法制造。在方法中，干法為使用沉積或?yàn)R射而層壓多個(gè)薄層。該方法在層界面處具有優(yōu)異的粘合性，但是需要高的制造成本，這是商業(yè)使用的限制。
[0005]相比而言，濕法為在將含有粘合劑、溶劑等的組合物施加至基底后，使其干燥并且固化。該方法與干法相比更廉價(jià)，并且因此在商業(yè)應(yīng)用中廣泛使用。然而，在濕法中，應(yīng)該分別制備形成硬涂層和高折射率層以及低折射率層所需的組合物，并且使用組合物而順序形成各個(gè)層。因此，制備方法變復(fù)雜，并且在薄膜界面處具有弱的粘合性。
[0006]為此，已經(jīng)積極地進(jìn)行了許多研究以開(kāi)發(fā)能夠通過(guò)單一的濕涂覆方法而形成兩層以上的的抗反射涂料組合物。然而，仍存在許多問(wèn)題:在制備方法過(guò)程中在施加組合物時(shí)不恰當(dāng)?shù)爻霈F(xiàn)了相分離，并且因此各個(gè)層功能劣化。
[0007]此外，硬涂層或高折射率層通常在基底上作為純的粘合劑或作為含有粘合劑和無(wú)機(jī)納米顆粒的獨(dú)立層而形成，并且中空的顆粒分散的低折射率層在其上形成。然而，仍存在問(wèn)題:具有該結(jié)構(gòu)的抗反射涂膜由于其在層界面處具有弱的粘合性而具有低的耐久性。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]技術(shù)問(wèn)題
[0009]本發(fā)明提供一種示出更大改進(jìn)的界面粘合性和耐劃傷性的抗反射涂膜，其可以通過(guò)簡(jiǎn)化的方法制造。
[0010]技術(shù)方案
[0011]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案，提供了一種抗反射涂膜，包括:
[0012]第一層，其包括第一(甲基)丙烯酸酯基粘合劑和在第一(甲基)丙烯酸酯基粘合劑中的無(wú)機(jī)納米顆粒，并且其已經(jīng)滲入至基底中；和
[0013]第二層，其包括第二(甲基)丙烯酸酯基粘合劑和在第二(甲基)丙烯酸酯基粘合劑中的中空顆粒，并且其覆蓋第一層，
[0014]其中中空顆粒的橫截面積與第二層的任何橫截面積之比為70至95%。
[0015]在抗反射涂膜中，第一(甲基)丙烯酸酯基粘合劑可以包括分子量小于600的(甲基)丙烯酸酯基化合物的交聯(lián)聚合物，并且第二(甲基)丙烯酸酯基化合物可以包括分子量小于600的(甲基)丙烯酸酯基化合物和分子量為600至100，000的(甲基)丙烯酸酯基化合物的交聯(lián)共聚物。
[0016]此外，除具有交聯(lián)聚合物的區(qū)域外，第一層還可以包括具有分子量小于600的(甲基)丙烯酸酯基化合物和分子量為600至100，000的(甲基)丙烯酸酯基化合物的交聯(lián)共聚物的區(qū)域。在該方面，具有交聯(lián)共聚物的區(qū)域可以位于第一層的約5至50%深度處，基于第一層和第二層的界面計(jì)。此外，可以包括交聯(lián)共聚物以呈現(xiàn)對(duì)第二層的增加的分布梯度。
[0017]在一個(gè)實(shí)施方案的抗反射涂膜中，第二層還可以包括無(wú)機(jī)納米顆粒。
[0018]此外，分子量小于600的(甲基)丙烯酸酯基化合物可以為一種或多種選自以下的化合物:三(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、三(甲基)丙烯酸三亞甲基丙酯、二(甲基)丙烯酸乙二醇酯、9，9_雙[4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)苯基]荷、雙(4_甲基丙稀酸氧基苯硫基)硫化物，和雙(4-乙稀基苯硫基)硫化物。
[0019]此外，除分子量小于600的(甲基)丙烯酸酯基化合物和分子量為600至100，000
的(甲基)丙烯酸酯基化合物外，第二(甲基)丙烯酸酯基粘合劑可以包括另外與氟基(甲基)丙烯酸酯化合物共聚合的交聯(lián)共聚物。
[0020]此外，分子量為600至100，000的(甲基)丙烯酸酯基化合物可以包括具有兩個(gè)以上的通過(guò)連接物連接的分子量小于600的(甲基)丙烯酸酯基化合物的分子的化合物，并且所述連接物可以包括氨基甲酸酯鍵(urethane bond)、硫醚鍵、醚鍵或酯鍵。此外,分子量為600至100，000的(甲基)丙烯酸酯基化合物可以具有一種或多種選自以下的取代基:環(huán)氧基、羥基、羧基、硫醇基、具有6個(gè)以上碳原子的芳族或脂族烴基，和異氰酸酯基。
[0021]在一個(gè)實(shí)施方案的抗反射涂膜中，無(wú)機(jī)納米顆粒的數(shù)均直徑可以為5至50nm，并且例如，其可以為二氧化硅納米顆粒。
[0022]此外，中空顆粒的數(shù)均直徑可以為5至80nm，并且例如，其可以為中空二氧化硅顆粒。
[0023]有益效果
[0024]根據(jù)本發(fā)明，抗反射涂膜中的兩層可以通過(guò)單一的涂覆方法而形成，由此通過(guò)一種更簡(jiǎn)化的方法而形成抗反射涂膜。此外，由此形成的抗反射涂膜能夠保持更大改進(jìn)的界面粘合性和耐劃傷性并且示出優(yōu)異的抗反射效果，并且因此其可優(yōu)選用作顯示器等中的抗反射涂膜。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0025]圖1是示出本發(fā)明一個(gè)實(shí)施方案的抗反射涂膜的結(jié)構(gòu)的示意性的剖視圖；
[0026]圖2是示出本發(fā)明一個(gè)實(shí)施方案的抗反射涂膜的制造方法的示意性的流程圖；并且
[0027]圖3至6為分別示出實(shí)施例1、2和4和對(duì)比實(shí)施例1的抗反射涂膜的剖視圖的顯微鏡圖像。
[0028]進(jìn)行本發(fā)明的最佳實(shí)施方式
[0029]在下文中，本發(fā)明實(shí)施方案的抗反射涂膜及其制造方法參考附圖而進(jìn)行描述。[0030]首先，在本說(shuō)明書(shū)中除非另作說(shuō)明，本文中使用的一些術(shù)語(yǔ)定義如下。
[0031]首先，術(shù)語(yǔ)“無(wú)機(jī)納米顆?！笔侵赣筛鞣N無(wú)機(jī)材料制成的顆粒，并且包括數(shù)均直徑為納米級(jí)(例如數(shù)均直徑為IOOnm以下)的顆粒。這些無(wú)機(jī)納米顆?？梢詾樵谄渲谢静痪哂锌障兜臒o(wú)定形顆粒。例如，“二氧化硅納米顆?！睘橛晒杌衔锘蛴袡C(jī)硅化合物制成的顆粒，并且是指數(shù)均直徑為IOOnm以下并且在其中基本不具有空隙的硅化合物顆?；蛴袡C(jī)硅化合物顆粒。
[0032]此外，術(shù)語(yǔ)“中空顆粒”是指在其表面和/或其中具有空隙的有機(jī)或無(wú)機(jī)顆粒。例如，術(shù)語(yǔ)“中空二氧化硅顆?！笔侵赣晒杌衔锘蛴袡C(jī)硅化合物制成并且在二氧化硅顆粒的表面和/或內(nèi)部具有空隙的二氧化硅顆粒。
[0033]此外，術(shù)語(yǔ)“(甲基)丙烯酸酯”定義為包括丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯。術(shù)語(yǔ)“(甲基)丙烯酸酯”還可以定義為不具有含氟的取代基，并且具有含氟取代基的化合物可以稱(chēng)為氟基(甲基)丙烯酸酯化合物，以使其彼此區(qū)分。
[0034]此外，術(shù)語(yǔ)“涂層”是指通過(guò)將以下所提出的抗反射涂料組合物施加(涂覆)至基底膜而形成的組合物層。
[0035]此外，術(shù)語(yǔ)“相分離”是指由于組分的密度、表面張力或其他物理特性的差異而導(dǎo)致的組合物中特定組分與其他組分的分布的差異。本文中，當(dāng)涂層中出現(xiàn)相分離時(shí)，根據(jù)特定組分的分布差異例如中空顆粒的分布差異而形成至少兩個(gè)可以區(qū)分的層。
[0036]此外，詞組“滲入至基底中”是指用于形成抗反射涂膜的任意層的成分(例如，用于形成用于相應(yīng)層的粘合劑的(甲基)丙烯酸酯基化合物和無(wú)機(jī)納米顆粒等)滲入至基底中以形成相應(yīng)的層。例如，將滲入至基底中的成分干燥和固化以在其已經(jīng)滲入的基底區(qū)域中形成特定的層。相比而言，詞組“在基底上形成層”是指用于形成相應(yīng)層的成分基本不滲入至基底中，并且其在與基底形成界面時(shí)被干燥和固化，由此在基底上形成層，不存在通過(guò)滲入至基底中而與基底重合的區(qū)域。
[0037]此外，詞組“層(例如，本發(fā)明一個(gè)實(shí)施方案的第二層)覆蓋另一層(例如，該實(shí)施方案的第一層)”是指在兩個(gè)層之間基本沒(méi)有顯著不同的層。例如，在一個(gè)實(shí)施方案的抗反射涂膜中，“含有中空顆粒的第二層覆蓋已經(jīng)滲入至基底中的第一層”是指在滲入至基底中的第一層和含有中空顆粒的第二層之間基本沒(méi)有獨(dú)立的且顯著不同的層，例如基本沒(méi)有未滲入至基底中的且不包括中空顆粒的獨(dú)立層。例如，在一個(gè)實(shí)施方案中，僅包括粘合劑(例如由(甲基)丙烯酸酯基化合物形成的交聯(lián)聚合物)和/或無(wú)機(jī)納米顆粒并且沒(méi)有滲入至基底中的獨(dú)立層不存在于第一層(即，滲透層)和含有中空顆粒的第二層之間。
[0038]同時(shí)，本發(fā)明人已經(jīng)研究了抗反射涂膜。因此，本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)當(dāng)使用某種抗反射涂料組合物誘發(fā)自發(fā)的相分離而制造抗反射涂膜時(shí)，抗反射涂膜示出更大改進(jìn)的界面粘合性和耐劃傷性和優(yōu)異的抗反射效果，由此完成本發(fā)明。抗反射涂膜的這些優(yōu)異的特性可能歸因于膜的特定結(jié)構(gòu)，其中用作硬涂層的第一層已經(jīng)滲入至基底中并且形成了用作低折射率層的第二層以覆蓋第一層。
[0039]相比而言，具有在基底和低折射率層之間形成基本不含中空顆粒的獨(dú)立的硬涂層(例如，含有粘合劑并且基本不含中空顆粒，或僅含有粘合劑和無(wú)機(jī)納米顆粒的獨(dú)立的硬涂層或高折射率層)的結(jié)構(gòu)的抗反射涂膜的不利之處在于:對(duì)于形成各個(gè)層而言需要另外的涂覆或固化過(guò)程，并且因此制備過(guò)程變復(fù)雜，或者在層界面處具有弱的粘合性。[0040]一個(gè)實(shí)施方案的抗反射涂膜一其中第二層(低折射率層)覆蓋已經(jīng)滲入至基底中的第一層(硬涂層)一示出優(yōu)異的界面粘合性，即使通過(guò)單一的涂覆和固化過(guò)程的簡(jiǎn)單方法而形成。
[0041]一個(gè)實(shí)施方案的抗反射涂膜可以包括:第一層，其含有第一(甲基)丙烯酸酯基粘合劑和第一(甲基)丙烯酸酯基粘合劑中的無(wú)機(jī)納米顆粒，并且其已經(jīng)滲入至基底中；和第二層，其含有第二(甲基)丙烯酸酯基粘合劑和第二(甲基)丙烯酸酯基粘合劑中的中空顆粒，并且其覆蓋第一層。在抗反射涂膜中，中空顆粒的橫截面積與第二層的任何橫截面積之比可以為約70至95%，或約75至93%，或約80至90%，或約85至92%。
[0042]在抗反射涂膜中，滲入至基底中的第一層可以用作抗反射涂膜的硬涂層，并且還可以用作示出約1.5以上的折射率的高折射率層。在硬涂層中含有滲入至基底中的第一(甲基)丙烯酸酯基粘合劑，并且第一(甲基)丙烯酸酯基粘合劑可以包括分子量小于600的(甲基)丙烯酸酯基化合物的交聯(lián)聚合物。此外，硬涂層可以包括在第一(甲基)丙烯酸酯基粘合劑中的無(wú)機(jī)納米顆粒。
[0043]此外，在與在基底中作為滲透層的第一層相接觸并且覆蓋其的第二層中，所有或大部分(例如，約97重量％以上，或約99重量％以上)的中空顆粒是基本分散的，并且因此第二層作為抗反射涂膜的低折射率層作用。該低折射率層示出約1.45以下的低折射率，由此示出合適的抗反射效果。低折射率層包括第二(甲基)丙烯酸酯基粘合劑，其可以包括分子量小于600的(甲基)丙烯酸酯基化合物和分子量為600至100，000的(甲基)丙烯酸酯基化合物的交聯(lián)共聚物。低折射率層還可以包括在第二(甲基)丙烯酸酯基粘合劑中的中空顆粒。
[0044]在抗反射涂膜中，用作硬涂層的第一層的第一(甲基)丙烯酸酯基粘合劑還可以包括分子量小于600的(甲基)丙烯酸酯基化合物和分子量為600至100，000的(甲基)丙烯酸酯基化合物的交聯(lián)共聚物。用作低折射率層的第二層還可以包括無(wú)機(jī)納米顆粒。
[0045]圖1為示出一個(gè)示例性實(shí)施方案的抗反射涂膜的示意圖。參照?qǐng)D1，在抗反射涂膜中，用作硬涂層的第一層2滲入至基底I中，并且在其中固化，并且用作低折射率層的第二層3通過(guò)與作為滲透層的第一層2接觸并且將其覆蓋而在基底上形成。在此方面，在滲入至基底中的第一層2和在基底上的第二層3之間不存在獨(dú)立層，這意味著例如僅含有粘合劑和/或無(wú)機(jī)納米顆粒并且基本不含中空顆粒并且沒(méi)有滲入至基底中的獨(dú)立層不存在于作為滲透層的第一層和主要具有中空顆粒的第二層之間。
[0046]由于用作硬涂層的第一層2已經(jīng)滲入至基底I中，并且形成用作低折射率層的第二層3以與其接觸，另一實(shí)施方案的抗反射涂膜在基底、硬涂層和低折射率層之間具有優(yōu)異的界面粘合性，并且因此在使用過(guò)程中可以使分層最小化。
[0047]此外，中空顆粒橫截面積與第二層的任何橫截面積之比為約70至95%，或約75至93%，或約80至90%，或約85至92%，并且因此中空顆?？梢悦芗胤植加谟米鞯驼凵渎蕦拥牡诙?。因此，一個(gè)實(shí)施方案的抗反射涂膜具有優(yōu)異的低折射率特性和抗反射效果。
[0048]在下文中，更詳細(xì)描述包括于抗反射涂膜中的各個(gè)層。
[0049]首先，抗反射涂膜包括基底。如圖1所示，基底I為常用的透明薄膜，并且可以無(wú)限制地使用任何材料，只要其可以用第一層的第一(甲基)丙烯酸酯基粘合劑和無(wú)機(jī)納米顆粒滲透。例如，基底可以由聚酯基樹(shù)脂、聚碳酸酯基樹(shù)脂、丙烯酸基樹(shù)脂、乙酸纖維素樹(shù)脂等制成。在一個(gè)實(shí)施方案中，三乙酸纖維素(TAC)樹(shù)脂可以用作基底以提高透明度和抗反射效果。
[0050]此外，抗反射涂膜可以包括用作硬涂層的第一層2，其包括分子量小于600的(甲基)丙烯酸酯基化合物的交聯(lián)聚合物作為第一(甲基)丙烯酸酯基粘合劑，和在第一(甲基)丙烯酸酯基粘合劑中的無(wú)機(jī)納米顆粒。硬涂層可以為滲入至基底中的層。第一層2可以固化并且通過(guò)第一(甲基)丙烯酸酯基粘合劑和無(wú)機(jī)納米顆粒滲入至基底中而整合到基底中。即使圖1示出第一層2滲入至基底I的整個(gè)表面中，在另一實(shí)施方案中第一層2可以滲入至基底I的一部分中。
[0051]形成用作低折射率層的第二層3以與滲入至基底I中的第一層2相接觸并且將其覆蓋，并且其可以為含有中空顆粒的層。更具體而言，僅含有粘合劑和/或無(wú)機(jī)納米顆粒并且未滲入至基底中的獨(dú)立層不存在于第一層2和第二層3之間。在已知的膜的情況下，在硬涂層和低折射率層之間存在僅含有粘合劑的獨(dú)立層，導(dǎo)致各個(gè)層與基底之間粘合性降低的不利之處。相比而言，形成一個(gè)實(shí)施方案的抗反射涂膜以使用作低折射率層的第二層3與基底I和用作硬涂層的第一層2接觸，由此示出更大改進(jìn)的表面粘合性、耐劃傷性和抗反射效果。
[0052]在此，第二層3的第二(甲基)丙烯酸酯基粘合劑可包括分子量小于600的(甲基)丙烯酸酯基化合物和分子量為600至100，000的(甲基)丙烯酸酯基化合物的交聯(lián)共聚物。在另一實(shí)施方案中，第二(甲基)丙烯酸酯基粘合劑可包括分子量小于600的(甲基)丙烯酸酯基化合物，分子量為600至100，000的(甲基)丙烯酸酯基化合物和氟基(甲基)丙烯酸酯化合物的交聯(lián)共聚物。由于通過(guò)另外與氟基(甲基)丙烯酸酯化合物共聚合而制備的交聯(lián)共聚物包括于第二(甲基)丙烯酸酯基粘合劑中，用作低折射率層的第二層3示出更低的折射率和優(yōu)異的抗反射效果。此外，可以更大的改進(jìn)第二層3的耐劃傷性。
[0053]此外，第二層3可以另外包括在第二(甲基)丙烯酸酯基粘合劑中的無(wú)機(jī)納米顆粒，由此更大地改進(jìn)第二層3的耐劃傷性和抗反射效果。
[0054]同時(shí)，除上述分子量小于600的(甲基)丙烯酸酯基化合物的交聯(lián)聚合物外，第一層2的第一(甲基)丙烯酸酯基粘合劑可以另外包括分子量小于600的(甲基)丙烯酸酯基化合物和分子量為600至100，000的(甲基)丙烯酸酯基化合物的交聯(lián)共聚物。
[0055]在此方面，第一層2的第一(甲基)丙烯酸酯基粘合劑中的交聯(lián)共聚物可以包含于第一層2的某些區(qū)域中，基于第一層2和第二層3之間的界面計(jì)，例如至約第一層2的5至50%深度，或約5至45%深度，或約5至40%深度?？梢园诘谝粚?的粘合劑中的交聯(lián)共聚物以呈現(xiàn)對(duì)第二層3的增加的分布梯度。
[0056]因此，分子量為600至100，000的(甲基)丙烯酸酯基化合物與分布梯度至第一層2的預(yù)定深度的分子量小于600的(甲基)丙烯酸酯基化合物交聯(lián)共聚合，并且交聯(lián)的共聚物還包括于整個(gè)第二層3中。因此，第一層2和第二層3之間的界面粘合性可以更大地改進(jìn)，并且包括于第二層3中的中空顆粒可以更密集地分布。
[0057]在上述抗反射涂膜中，第一層2為具有與用作低折射率層的第二層3相比更高的折射率的層，并且折射率可以為約1.5至1.58，或約1.5至1.57，或約1.51至1.56。此外，第二層3的折射率可為約1.1至1.45，或約1.15至1.43，或約1.2至1.42。
[0058]此外，另一個(gè)實(shí)施方案的抗反射涂膜的反射比為約0.5至4%，或約0.8至3%，或約I至2%以示出優(yōu)異的抗反射特性，并且因此其可以恰當(dāng)?shù)赜米鞲鞣N顯示器如PDP、CRT或IXD中的抗反射涂膜。
[0059]在下文中，描述用于形成一個(gè)實(shí)施方案的抗反射涂膜的抗反射涂料組合物以及使用其制造抗反射涂膜的方法。
[0060]抗反射涂料組合物可以包括分子量小于600的(甲基)丙烯酸酯基化合物；分子量為600至100，000的(甲基)丙烯酸酯基化合物；無(wú)機(jī)納米顆粒；和中空顆粒。以下描述組合物的各個(gè)組分。
[0061]分子暈小于600的(甲基)丙烯酸酯基化合物
[0062]首先，抗反射涂料組合物可以包括分子量小于600的(甲基)丙烯酸酯基化合物。如果組合物施加至任何基底，則至少一部分具有低分子量的(甲基)丙烯酸酯基化合物可以滲入至基底中。
[0063]滲入至基底中的低分子量(甲基)丙烯酸酯基化合物可以單獨(dú)聚合或與在如下解釋的且分子量為600至100，000的高分子量(甲基)丙烯酸酯基化合物共聚合以形成相當(dāng)于滲入?yún)^(qū)域的第一層的粘合劑。
[0064]殘留低分子量(甲基)丙烯酸酯基化合物可以保留在基底上而不滲入至基底中。殘留化合物與如下解釋的高分子量(甲基)丙烯酸酯基化合物共聚合以形成覆蓋在基底的滲入?yún)^(qū)域中形成的第一層的第二層的粘合劑。
[0065]為使低分子量(甲基)丙烯酸酯基化合物充分滲入至基底并且形成用作抗反射涂膜的硬涂層的第一層的粘合劑，低分子量(甲基)丙烯酸酯基化合物的分子量可以為例如小于約600，或小于約500，或小于約400，并且在另一實(shí)施方案中，其分子量可以為約50以上，或約100以上。
[0066]在示例性的實(shí)施方案中，為形成滲入至基底中的第一層(例如，硬涂層和/或高折射率層)以示出更高的折射率，低分子量(甲基)丙烯酸酯基化合物可以具有取代基如硫、氯或金屬，或芳族取代基。
[0067]低分子量(甲基)丙烯酸酯基化合物可以包括選自以下的化合物:三(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、三(甲基)丙烯酸三亞甲基丙酯、二(甲基)丙烯酸乙二醇酯、9，9-雙(4-(2-丙烯酰氧基乙氧基苯基)氟(折射率:1.62)、雙(4-甲基丙烯酰氧基苯硫基)硫化物(折射率:1.689)，和雙(4-乙烯基苯硫基)硫化物(折射率:1.695)或其兩種以上的混合物。
[0068]分子暈為600至100，000的(甲基)丙烯酸酯基化合物
[0069]同時(shí)，抗反射涂料組合物可以包括分子量為600至100，000的高分子量(甲基)丙
烯酸酯基化合物。當(dāng)組合物施加至任何基底時(shí)，與上述低分子量化合物相比，較少量的高分子量(甲基)丙烯酸酯基化合物可以滲入至基底中，并且其剩余部分由于其高分子量和大的化學(xué)結(jié)構(gòu)而可以保留在基底上。
[0070]因此，高分子量(甲基)丙烯酸酯基化合物不滲入基底至與上述低分子量(甲基)丙烯酸酯基化合物相同的深度。因此，基底的滲透區(qū)域可以分為以下兩個(gè)區(qū)域。第一，在僅低分子量(甲基)丙烯酸酯基化合物滲入的區(qū)域中或在其滲入的深度處的區(qū)域中，可以存在由低分子量(甲基)丙烯酸酯基化合物的交聯(lián)聚合物形成的粘合劑。在滲入高分子量(甲基)丙烯酸酯基化合物的另一滲透區(qū)域，高分子量(甲基)丙烯酸酯基化合物和低分子量(甲基)丙烯酸酯基化合物的交聯(lián)共聚物可以作為粘合劑而存在。
[0071]沒(méi)有滲入至基底中的殘留高分子量(甲基)丙烯酸酯基化合物可以與以上提及的低分子量(甲基)丙烯酸酯基化合物共聚合以形成覆蓋滲透層的第二層(例如，抗反射涂膜的低折射率層)的第二(甲基)丙烯酸酯基粘合劑。因此，用作抗反射涂膜的硬涂層的第一層和覆蓋其上的第二層(低折射率層)之間的界面粘合性改進(jìn)，低折射率層的耐劃傷性也改進(jìn)，并且在低折射率層中的中空顆粒更密集地分散。
[0072]高分子量(甲基)丙烯酸酯基化合物為具有與上述低分子量化合物相比更高的分子量和大結(jié)構(gòu)的化合物。例如，其分子量可為約400以上，或約500以上，或約600以上。對(duì)于另一實(shí)例，其分子量可為約100,000以下，或約80，000以下，或約50，000以下。
[0073]對(duì)于高分子量和大結(jié)構(gòu)而言，高分子量(甲基)丙烯酸酯基化合物可以包括具有通過(guò)連接物而連接兩個(gè)以上的上述低分子量(甲基)丙烯酸酯基化合物的分子的結(jié)構(gòu)的化合物。在此方面，連接物可以為已知連接(甲基)丙烯酸酯基化合物的任何化學(xué)鍵，并且例如含有氨基甲酸酯鍵、硫醚鍵、醚鍵或酯鍵的二價(jià)或更高價(jià)的基團(tuán)。
[0074]對(duì)于更大的結(jié)構(gòu)而言，高分子量(甲基)丙烯酸酯基化合物還可以具有一個(gè)或多個(gè)選自以下的取代基:環(huán)氧基、羥基、羧基、硫醇基、具有6個(gè)以上碳原子的芳族或脂族烴基，和異氰酸酯基。
[0075]高分子量(甲基)丙烯酸酯基化合物可以為滿(mǎn)足上述條件的市售可得的產(chǎn)品或直接合成。市售可得的產(chǎn)品的實(shí)例可以包括UA-306T、UA-3061、UA-306H、UA-510T、UA-510I和 UA-510H(KY0EISHA C0.的產(chǎn)品);BPZA_66 和 BPZA-100 (KY0EISHA C0.的產(chǎn)品)；EB9260和 EB9970 (BAEYER C0.的產(chǎn)品);以及 Miramer SPl 107 和 Miramer SP1114(MIW0N C0.的
產(chǎn)品)。
[0076]上述高分子量(甲基)丙烯酸酯基化合物可以以用量為基于100重量份的低分子量(甲基)丙烯酸酯基化合物計(jì)約5至30重量份，或約5至25重量份，或約5至20重量份包含于抗反射涂料組合物中?？紤]根據(jù)加入過(guò)量的中空顆粒而改變中空顆粒分布或使層的物理特性?xún)?yōu)化以及使用含有高分子量和低分子量(甲基)丙烯酸酯基化合物的粘合劑組合物而實(shí)現(xiàn)的最小效果，可以確定高分子量(甲基)丙烯酸酯基化合物的含量。
[0077]氟基(甲基)丙烯酸酯化合物
[0078]同時(shí)，上述抗反射涂料組合物可以另外包括被一個(gè)或多個(gè)氟原子所取代的氟基(甲基)丙烯酸酯化合物作為粘合劑組合物。由于存在含氟取代基，當(dāng)組合物施加至基底時(shí)，氟基(甲基)丙烯酸酯化合物不滲入至基底中。為此，氟基(甲基)丙烯酸酯化合物與上述低分子量和高分子量(甲基)丙烯酸酯化合物一起可以形成用作抗反射涂膜的低反射率層的第二層的第二(甲基)丙烯酸酯基粘合劑。氟基(甲基)丙烯酸酯化合物顯示出更低的折射率，由此降低低折射率層的折射率并且由于極性官能團(tuán)而顯示出與后述的中空顆粒的優(yōu)異的相容性，并且還改進(jìn)了低折射率層的耐劃傷性。
[0079]氟基(甲基)丙烯酸酯化合物可以具有將一個(gè)或多個(gè)含氟取代基連接至任何(甲基)丙烯酸酯化合物的結(jié)構(gòu)，氟基(甲基)丙烯酸酯化合物的實(shí)例可以為一種或多種選自以下化學(xué)式I至化學(xué)式5的化合物的化合物:
[0080][化學(xué)式I]
[0081]
【權(quán)利要求】
1.一種抗反射涂I吳，包括: 第一層，其包括第一(甲基)丙烯酸酯基粘合劑和在第一(甲基)丙烯酸酯基粘合劑中的無(wú)機(jī)納米顆粒，并且其已經(jīng)滲入至基底中；和 第二層，其包括第二(甲基)丙烯酸酯基粘合劑和在第二(甲基)丙烯酸酯基粘合劑中的中空顆粒，并且其覆蓋第一層， 其中，中空顆粒的橫截面積與第二層的任何橫截面積之比為70至95%。
2.權(quán)利要求1的抗反射涂膜，其中第一(甲基)丙烯酸酯基粘合劑包括分子量小于600的(甲基)丙烯酸酯基化合物的交聯(lián)聚合物。
3.權(quán)利要求1的抗反射涂膜，其中第二(甲基)丙烯酸酯基化合物包括分子量小于600的(甲基)丙烯酸酯基化合物和分子量為600至100，000的(甲基)丙烯酸酯基化合物的交聯(lián)共聚物。
4.權(quán)利要求2的抗反射涂膜，其中除具有交聯(lián)聚合物的區(qū)域外，第一層還包括具有分子量小于600的(甲基)丙烯酸酯基化合物和分子量為600至100，000的(甲基)丙烯酸酯基化合物的交聯(lián)共聚物的區(qū)域。
5.權(quán)利要求1的抗反射涂膜，其中第二層還包括無(wú)機(jī)納米顆粒。
6.權(quán)利要求4的抗反射涂膜，其中具有交聯(lián)共聚物的區(qū)域位于第一層的約5至50%深度處，基于第一層和第二層的界面計(jì)。
7.權(quán)利要求3或4的抗反射涂膜，其中包含交聯(lián)共聚物以呈現(xiàn)對(duì)第二層的增加的分布梯度。
8.權(quán)利要求2的抗反射涂膜，其中分子量小于600的(甲基)丙烯酸酯基化合物為一種或多種選自以下的化合物:三(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、三(甲基)丙烯酸三亞甲基丙酯、二(甲基)丙烯酸乙二醇酯、9，9_雙[4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)苯基]芴、雙(4-甲基丙烯酰氧基苯硫基)硫化物，和雙(4-乙烯基苯硫基)硫化物。
9.權(quán)利要求1的抗反射涂膜，其中第二(甲基)丙烯酸酯基粘合劑包括分子量小于600的(甲基)丙烯酸酯基化合物，分子量為600至100，000的(甲基)丙烯酸酯基化合物和氟基(甲基)丙烯酸酯化合物的交聯(lián)共聚物。
10.權(quán)利要求9的抗反射涂膜，其中氟基(甲基)丙烯酸酯化合物包括一種或多種選自以下化學(xué)式1至化學(xué)式5的化合物的化合物: [化學(xué)式1]
11.權(quán)利要求3的抗反射涂膜，其中分子量為600至100，000的(甲基)丙烯酸酯基化合物包括具有兩個(gè)以上的通過(guò)連接物而連接的分子量小于600的(甲基)丙烯酸酯基化合物的分子的化合物。
12.權(quán)利要求3的抗反射涂膜，其中分子量為600至100，000的(甲基)丙烯酸酯基化合物包括具有一個(gè)或多個(gè)選自以下的取代基的化合物:環(huán)氧基、羥基、羧基、硫醇基、具有6個(gè)以上碳原子的芳族或脂族烴基，和異氰酸酯基。
13.權(quán)利要求11的抗反射涂膜，其中連接物包括氨基甲酸酯鍵、硫醚鍵、酮鍵或酯鍵。
14.權(quán)利要求1的抗反射涂膜，其中無(wú)機(jī)納米顆粒的數(shù)均直徑為5至50nm。
15.權(quán)利要求1的抗反射涂膜，其中無(wú)機(jī)納米顆粒為二氧化硅納米顆粒。
16.權(quán)利要求1的抗反射涂膜，其中中空顆粒的數(shù)均直徑為5至80nm。
17.權(quán)利要求1的抗 反射涂膜，其中中空顆粒為中空二氧化硅顆粒。
【文檔編號(hào)】B32B7/02GK103765250SQ201280041661
【公開(kāi)日】2014年4月30日 申請(qǐng)日期:2012年6月15日 優(yōu)先權(quán)日:2011年8月26日
【發(fā)明者】金憲, 張影來(lái) 申請(qǐng)人:株式會(huì)社Lg化學(xué)