涂布膜的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供即使作為光學部件用的制品加工后，光學特性、視認性也優(yōu)異、特別是適合于光學用途的涂布膜。該涂布膜為在厚度10～200μm的聚酯膜的單面設(shè)置有涂布層的涂布膜，上述聚酯膜具有至少3層以上的疊層結(jié)構(gòu)，兩個最表層是包含低聚物含量為0.5重量％以下的聚酯80重量％以上的、厚度為4μm以上的層。
【專利說明】涂布膜
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及涂布膜，涉及即使作為光學部件用制品加工后，光學特性、視認性也優(yōu)異的涂布膜，該涂布膜的特征在于，即使經(jīng)過例如在180°c條件下的長時間的熱處理、施加高的張力的條件下的濺射工序、或高溫高濕氣氛下的耐久性試驗等在嚴酷的條件下的工序后，膜霧度的上升也極小。特別涉及作為重視透過光觀察的所謂的視認性、需要高度透明性的光學用途、例如適用于觸摸面板的涂布膜。
【背景技術(shù)】
[0002]以往在觸摸面板用途中，通過位置檢測方法，采用電阻膜方式、靜電容量方式等各種方式。這些之中，具有能夠多點檢測且光透射率高、并且分辨率高、響應(yīng)速度快的特征的靜電容量方式的普及具有增加的趨勢。靜電容量方式的觸摸面板具有表面型和投影型2種方式。表面型構(gòu)成為包括保護層(cover)、透明導電層、玻璃基板的3層，投影型構(gòu)成為包括玻璃、塑料制的膜、透明電極層、搭載有進行演算處理的IC的基板層。
[0003]在透明導電性疊層體的制造工序中，一般進行加熱加工。例如有:為了形成透明導電性膜，通過濺射法形成ITO膜，然后，為了使其結(jié)晶化而在150°C進行熱處理的情況(專利文獻I);或在制作導電性疊層膜時為了進行低熱收縮化處理而在150°C放置I小時的情況(專利文獻2);或在加工透明導電性膜時為了印刷銀糊等而需要150°C左右的熱處理的情況(專利文獻3)。在透明導電性薄膜制造工序中，伴隨高溫氣氛下的熱處理，聚酯膜中含有的被稱為低聚物的低分子量物(特別是環(huán)狀三聚體)在膜表面析出、結(jié)晶化，發(fā)生涂布缺陷等，由此有時難以得到高精度的透明導電性薄膜。
[0004]另外，在觸摸面板用途中，近年來，在便攜電話、PDA (個人數(shù)字助理，PersonalDigital Assistance)等通信信息設(shè)備、游戲機等中的搭載頻度存在增加的趨勢,伴隨該領(lǐng)域的市場成長，出現(xiàn)偏好比以往更高度的視認性的趨勢。其結(jié)果，該領(lǐng)域所使用的聚酯膜中，經(jīng)過熱處理工序后，由于因低聚物析出引起的膜霧度上升，存在視認性降低的趨勢。近年來，通過濺射法形成ITO膜，然后，在結(jié)晶化的工序中，以提高生產(chǎn)性為目的，具有進行更高溫的熱處理(例如180°C等)的趨勢，出現(xiàn)了視認性伴隨膜的低聚物析出而降低的問題越來越明顯的狀況。
[0005]因此，作為防止膜的低聚物析出策略，提出了各種方案。例如，提出了在聚酯膜基材上涂覆設(shè)置涂布層，由此抑制低聚物析出的方法(專利文獻4)。然而，由于加工工序中的輸送用導向輥與聚酯膜面的接觸、摩擦等，有時也會發(fā)生涂布層剝離等的不良情況。這種情況下，該部分的低聚物析出無法抑制、以及聚酯基材的低聚物析出量本身減少的情況下，也有強烈要求通過與具有抑制低聚物析出的功能的涂布層組合，能夠進一步降低低聚物析出量，由此抑制聚酯膜基材本身的低聚物析出的方法的狀況。
[0006]現(xiàn)有技術(shù)文獻
[0007]專利文獻
[0008]專利文獻1:日本特開2007-200823號公報[0009]專利文獻2:日本特開2007-42473號公報
[0010]專利文獻3:日本特開2007-320144號公報
[0011]專利文獻4:日本特開2003-237005號公報

【發(fā)明內(nèi)容】

[0012]發(fā)明所要解決的課題
[0013]本發(fā)明是鑒于上述實際情況而作出的，其解決課題在于提供即使在作為光學部件用的制品加工后，光學特性、視認性也優(yōu)異、特別是在光學用途中適合的涂布膜，具體而言，提供如下的涂布膜，即使經(jīng)過例如在180°C條件下的長時間的熱處理、施加高張力的條件下的濺射工序、或高溫高濕氣氛下的耐久性試驗等在嚴酷的條件下的工序之后，也將膜霧度的上升抑制得較小，即使在作為光學部件用制品加工后，光學特性、視認性也優(yōu)異。
[0014]用于解決課題的方法
[0015]本發(fā)明的發(fā)明人鑒于上述實際情況深入研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn):通過特定構(gòu)成的聚酯膜能夠容易解決上述課題，從而完成了本發(fā)明。
[0016]即，本發(fā)明的主旨在于一種涂布膜，其特征在于，其為在厚度10?200 μ m的聚酯膜的單面設(shè)置有涂布層的涂布膜，上述聚酯膜具有至少3層以上的疊層結(jié)構(gòu)，兩最外層是包含低聚物含量為0.5重量％以下的聚酯80重量％以上的、厚度為4μ m以上的層。
[0017]發(fā)明的效果
[0018]根據(jù)本發(fā)明，可以得到熱處理(180°C、90分鐘)前后的膜霧度差為0.4%以下的效果。另外，還可以得到熱處理(180°C、150分鐘)后、從涂布層表面提取的低聚物(環(huán)狀三聚體)量為3.0mg/m2以下的效果。因此，能夠提供如下的涂布膜，即使經(jīng)過例如在180°C條件下的長時間的熱處理、施加高張力的條件下的濺射工序或在高溫高濕氣氛下的耐久性試驗等在嚴酷的條件下的工序后，膜霧度也小，光學特性、視認性也優(yōu)異。
【具體實施方式】
[0019]本發(fā)明的涂布膜具有在聚酯膜的單面設(shè)置有涂布層的結(jié)構(gòu)。上述聚酯膜是通過從擠出噴嘴熔融擠出的所謂的擠出法而擠出的聚酯膜，根據(jù)需要，為使其在縱向和橫向的二軸方向取向的膜。
[0020]聚酯通過使芳香族二羧酸和脂肪族二醇縮聚而得到。作為芳香族二羧酸，可以列舉對苯二甲酸、2，6-萘二羧酸等，作為脂肪族二醇，可以列舉乙二醇、一縮二乙二醇、1，4-環(huán)己烷二甲醇等。作為代表性的聚酯，可以例示聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚2，6-萘二羧酸乙二醇酯(PEN)等。
[0021]聚酯既可以是均聚聚酯也可以是共聚聚酯。共聚聚酯時，為含有30摩爾％以下的第三成分的共聚物。作為共聚聚酯的二羧酸成分，可以列舉間苯二甲酸、鄰苯二甲酸、對苯二甲酸、2，6-萘二羧酸、己二酸、癸二酸和羥基羧酸(例如對羥基苯甲酸等)中的一種或兩種以上，作為二醇成分，可以列舉乙二醇、一縮二乙二醇、丙二醇、丁二醇、1，4-環(huán)己烷二甲醇新戊二醇等中的一種或兩種以上。
[0022]聚酯膜的厚度為10?200 μ m。在聚酯膜的厚度小于10 μ m時，為了形成透明導電性膜，在通過濺射法形成ITO膜時，膜強度承受不了加工張力而產(chǎn)生褶皺，有時無法形成正常的透明導電膜。另一方面，在聚酯膜的厚度超過200 μ m時，膜的挺度過強，有時會發(fā)生在完成觸摸面板最終制品時由在涂布膜疊層的粘接劑的緩沖效果帶來的書寫感覺降低、或者觸摸面板的響應(yīng)性降低等的不良情況。另外，在涂布膜形成透明導電性膜后，貼合膜-膜而形成的透明導電性膜片(疊層透明導電膜膜)的片的片柔軟性受損。聚酯膜的厚度優(yōu)選為10~80 μ m,更優(yōu)選為10~60 μ m。
[0023]上述聚酯膜具有至少3層以上的疊層結(jié)構(gòu)，兩最外層包含低聚物(環(huán)狀三聚體)含量為0.5重量％以下的聚酯80重量％以上。在不滿足上述條件的情況下,在150°C條件下的長時間的熱處理、施加高張力的條件下的濺射工序、或高溫高濕氣氛下的耐久性試驗等在嚴酷的條件下的加工工序中使用涂布膜時，膜霧度大幅上升，存在加工后在光學特性或視認性的方面不適合用作光學部件的情況。
[0024]兩外層的聚酯層的厚度為4μπι以上，優(yōu)選為5μπι以上，更優(yōu)選為6μπι以上。構(gòu)成兩外層的聚酯層厚度小于4μ m時，有時得不到所期望的低聚物析出密封效果。
[0025]在本發(fā)明中，使用上述低聚物含量少的聚酯，特別是將聚酯層的厚度設(shè)為4μπι以上使其疊層的情況下，所得到的膜本身的膜霧度能夠抑制得更低，適合于需要高透明的膜的光學用途。
[0026]推測這是因為在含有大量低聚物含量少的聚酯的聚酯層中，往往具有特性粘度高的趨勢，聚酯層中所含的顆粒本身的流動性被抑制，因此，顆粒本身難以移動到膜表面，結(jié)果在膜成形后，在膜最表面露出、形成突起的頻度變少。因此，推測這是因為對所得到的膜表面照射光時，由膜表面的突 起造成的光散射的發(fā)生頻度少，相應(yīng)地，膜霧度的上升被抑制的緣故。
[0027]在聚酯膜中，以賦予滑動性以及防止在各工序中產(chǎn)生傷痕為主要目的，也可以配合顆粒。配合的顆粒的種類只要是能夠賦予滑動性的顆粒就沒有特別限定，作為具體例，可以列舉例如:二氧化硅、碳酸鈣、碳酸鎂、碳酸鋇、硫酸鈣、磷酸鈣、磷酸鎂、高嶺土、氧化鋁、氧化鈦等的顆粒。另外，也可以使用日本特公昭59-5216號公報、日本特開昭59-217755號公報等中記載的耐熱性有機顆粒。作為其他的耐熱性有機顆粒的例子，可以列舉熱固性尿素樹脂、熱固性酚醛樹脂、熱固性環(huán)氧樹脂、苯代三聚氰二胺樹脂等。此外，也可以使用聚酯制造工序中使催化劑等金屬化合物的一部分沉淀、微分散得到的析出顆粒。
[0028]顆粒的形狀沒有特別限定，可以使用球狀、塊狀、棒狀、扁平狀等的任意形狀。另外，關(guān)于其硬度、比重、色等沒有特別限制。這些一系列的顆粒也可以根據(jù)需要并用2種以上。
[0029]顆粒的平均粒徑?jīng)]有特別限定，通常為0.02μπι~3μ--，優(yōu)選為0.02 μ m~
2.5 μ m，更優(yōu)選為0.02 μ m~2 μ m。在使用平均粒徑小于0.02 μ m的顆粒的情況下，由于不能夠賦予充分的滑動性，所以存在膜制造工序中的卷曲特性變差的趨勢。另外，在平均粒徑超過3 μ m的情況下，膜表面的粗面化的程度變得過大，存在膜變得模糊的情況。
[0030]顆粒的含量通常為0.0005~0.5重量％，優(yōu)選為0.001~0.3重量％。在顆粒含量低于0.0005重量％的情況下，存在膜的滑動性不夠的情況，在膜加工時產(chǎn)生傷痕等外觀不良。另一方面，在添加超過0.5重量％的情況下，存在膜的透明性不夠的情況。
[0031]在聚酯中配合顆粒的方法沒有特別限定，可以采用公知的方法。例如，能夠在制造聚酯的任意階段添加，優(yōu)選可以在酯化的階段、或者酯交換反應(yīng)結(jié)束后縮聚反應(yīng)開始前的階段作為分散在乙二醇等中的漿料添加，進行縮聚反應(yīng)。另外，通過使用帶有通風口的混煉擠出機，將在乙二醇或水等中分散的顆粒的漿料與聚酯原料摻混的方法；或者使用混煉擠出機，將干燥的顆粒與聚酯原料摻混的方法等進行。
[0032]本發(fā)明的涂布膜的涂布層以提高與在其上所加工的層的密合性、提高加工時的滑動性等為目的而設(shè)置。涂布層既可以通過在聚酯膜的制膜工序中處理膜表面的在線涂布而設(shè)置，也可以采用在體系外涂布在暫時制造的膜上的離線涂布。由于能夠在制膜的同時涂布，所以能夠廉價地進行制造，因此優(yōu)選使用在線涂布。此外，也可以對聚酯膜預先實施電暈放電處理、等離子體處理等表面處理。該表面處理可以對單面、兩面中的任意一種進行。
[0033]在線涂布不限定于以下方式，但例如在逐次二軸拉伸中，特別是能夠在縱向拉伸結(jié)束后的橫向拉伸之前實施涂布處理。在利用在線涂布的情況下，能夠在制膜同時進行涂布，并且在拉伸后的聚酯膜的熱處理工序中，能夠以高溫處理涂布層，因此，能夠提高能夠與在涂布層上形成的各種表面功能層的粘接性、耐濕熱性等性能。另外，在拉伸前進行涂布的情況下，還能夠通過拉伸倍率使涂布層的厚度變化，能夠以薄膜進行均勻的涂覆。即，通過在線涂布、特別是拉伸前的涂布，能夠制造合適的涂布膜。
[0034]涂布層也可以含有表面活性劑、消泡劑、涂布性改良劑、增粘劑、有機系潤滑劑、有機顆粒、無機顆粒、抗氧化劑、紫外線吸收劑、發(fā)泡劑、染料、顏料等添加劑。這些添加劑既可以單獨使用，也可以根據(jù)需要并用兩種以上。
[0035]涂布液只要以水為主要介質(zhì)，就可以以改善向水中的分散為目的或以改善成膜性能為目的，含有少量的有機溶劑。有機溶劑需要在溶解于水的范圍使用。作為有機溶劑，可以列舉正丁醇、正丙醇、異丙醇、乙醇、甲醇等脂肪族或脂環(huán)族醇類、丙二醇、乙二醇、一縮二乙二醇等二醇類、正丁基溶纖劑、乙基溶纖劑、甲基溶纖劑、丙二醇單甲醚等二醇衍生物、二噁烷、四氫呋喃等醚類、乙酸乙酯、乙酸戊酯等酯類、甲基乙基酮、丙酮等酮類、N-甲基吡咯烷酮等酰胺類。這些有機溶劑可以根據(jù)需要并用兩種以上。
[0036]另外，不論是離線涂布或者是在線涂布，根據(jù)需要，都可以并用熱處理和紫外線照射等活性能量線照射。
[0037]作為涂布的材料，離線涂布時，可以為水系和/或溶劑系的任何體系，在線涂布時，優(yōu)選水系或水分散系。
[0038]涂布液的固體成分濃度沒有特別限制，通常為0.3?65重量％，優(yōu)選為0.5?30重量％，更優(yōu)選為I?20重量％。不論是濃度過度高于上述范圍時還是過度低于上述范圍時，有時都難以設(shè)置為了充分表現(xiàn)功能所需要的厚度的涂布層。
[0039]涂布層的厚度(干燥后)通常為0.003?1.5 μ m,優(yōu)選為0.01?0.5 μ m,更優(yōu)選為
0.01?0.3 μ m。涂布層的厚度小于0.003 μ m的情況下，有可能得不到足夠的性能。另一方面，如果涂布層的厚度大于1.5μπι時，則有時容易發(fā)生膜彼此的粘連。
[0040]作為涂布液向聚酯膜的涂布方法，可以使用例如原崎勇次著、稹書店、1979年發(fā)行的“涂布方式”所示的逆輥涂布機、凹版印刷涂布機、棒式涂布機、氣刀涂布機或這些以外的涂布裝置。
[0041]在本發(fā)明中，為了進一步改善滑動性、固著性等，優(yōu)選在涂布層中含有無機系顆粒、有機系顆粒。涂布液中的顆粒的配合量通常為0.5?10重量％，優(yōu)選為I?5重量％。配合量小于0.5重量％時,有時耐粘連性不充分,配合量大于10重量％時,存在阻礙膜的透明性、圖像的鮮明度降低的趨勢。
[0042]作為無機顆粒，可以列舉二氧化硅、氧化鋁、氧化鋯、高嶺土、滑石、碳酸鈣、氧化鈦、氧化鋇、炭黑、硫化鑰、氧化銻等。這些之中，二氧化硅由于廉價且粒徑種類多，所以容易利用。
[0043]作為有機顆粒，可以列舉通過在一個分子中含有2個以上碳-碳雙鍵的化合物(例如二乙烯基苯)實現(xiàn)交聯(lián)結(jié)構(gòu)的聚乙烯或聚丙烯酸酯聚甲基丙烯酸酯。
[0044]上述無機顆粒和有機顆粒也可以進行表面處理。作為表面處理劑，可以列舉例如表面活性劑、作為分散劑的高分子、硅烷偶聯(lián)劑、鈦偶聯(lián)劑等。從不妨礙透明性的觀點出發(fā)，涂布層中的顆粒的含量通常為10重量％以下，優(yōu)選為5重量％以下。
[0045]另外，涂布層也可以含有消泡劑、涂布性改良劑、增粘劑、抗氧化劑、紫外線吸收齊U、發(fā)泡劑、染料、顏料等。
[0046]本發(fā)明的涂布膜的膜霧度通常為1.3%以下，優(yōu)選為1.1%以下，更優(yōu)選為1.0%以下。膜霧度超過1.3%的情況下，由于透明性降低，例如在作為光學用顯示部件使用的情況下，有時會產(chǎn)生視認性降低等的不良情況。
[0047]本發(fā)明的涂布膜發(fā)揮熱處理(180°C、90分鐘)前后的膜霧度變化率(.H)為0.4%以下的效果。另外，還發(fā)揮熱處理(180°C、150分鐘)后，從涂布層表面所提取的低聚物(環(huán)狀三聚體)量為3.0mg/m2以下的效果。這樣的效果例如即使在觸摸面板用途等長時間、高溫氣氛下暴露后也被要求高度透明性的情況下特別重要。因此，本發(fā)明的涂布膜適合于例如觸摸面板用等需要高度視認性的用途。
[0048]此外，關(guān)于構(gòu)成本發(fā)明的涂布膜的聚酯膜，在不損害本發(fā)明的主旨的范圍中，也可以添加著色劑、導電材料等，而且，在其上，也可以形成以防止由靜電造成的電擊、灰塵附著、進而以電磁波屏蔽為目的的功能性多層薄膜。
[0049]此外，關(guān)于構(gòu)成本發(fā)明的涂布膜的聚酯膜，在不損害本發(fā)明的主旨的范圍中，也可以混合其他熱塑性樹脂、例如聚萘二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丙二醇酯等。
[0050]實施例
[0051]下面，通過實施例進一步詳細地說明本發(fā)明，本發(fā)明只要不超出其主旨，就不限定于以下的實施例。此外，實施例和比較例中“份”表示“重量份”。另外，本發(fā)明中使用的測定方法如下。
[0052](I)聚酯的特性粘度:
[0053]精確稱量除去了與聚酯不相溶的其他聚合物成分和顏料后的聚酯lg，加入苯酚/四氯乙烷=50 / 50 (重量比)的混合溶劑IOOml使其溶解，在30°C測定。
[0054](2)平均粒徑(d50):
[0055]使用株式會社島津制作所社制的離心沉降式粒度分布測定裝置“SA-CP3型”，根據(jù)斯托克斯阻力定律，利用沉降法測定顆粒的大小。
[0056](3)聚酯原料所含有的含有低聚物量的測定方法:
[0057]秤量約200mg聚酯原料，使其溶解于氯仿/ HFIP (六氟_2_異丙醇)的比率3:2的混合溶劑2ml中。溶解后，追加氯仿20ml后，逐次少量加入甲醇10ml。通過過濾除去沉淀物，再用氯仿/甲醇的比率2:1的混合溶劑清洗沉淀物，回收濾液、清洗液，利用蒸發(fā)器進行濃縮，然后使其干燥固化。將干燥固化物溶解于DMF (二甲基甲酰胺)25ml后，將該溶液供給液相色譜(島津制作所制“LC-7A”)，求出DMF中的低聚物量，將該值除以氯仿/ HFIP混合溶劑中溶解的聚酯原料量，作為含有低聚物量(重量％)。DMF中的低聚物量，通過標準試樣峰面積與測定試樣峰面積的峰面積比求出(絕對校準曲線法)。
[0058]標準試樣的制作是準確稱量預先分取的低聚物(環(huán)狀三聚體)，使其溶解在準確秤量的DMF中而制作的。標準試樣的濃度優(yōu)選為0.001?0.0lmg / ml的范圍。
[0059]其中，液相色譜的條件如下所述。
[0060]流動相A:乙腈
[0061 ] 流動相B:2%乙酸水溶液
[0062]色譜柱:三菱化學(株)制“MCI GEL 0DS1HU”
[0063]柱溫:40°C
[0064]流速:Iml /分鐘
[0065]檢測波長:254nm
[0066](4)涂布膜中聚酯層的厚度:
[0067]將膜小片用環(huán)氧樹脂固定成形后，用切片機切斷，利用透射型電子顯微鏡照片觀察膜的截面。在該截面中，通過明暗觀察到與膜表面大致平行的2道界面。從10張照片測定該2道界面到膜表面的距離，將平均值作為厚度。
[0068](5)膜霧度:
[0069]對于試樣膜，根據(jù)JIS-K-7136，利用村上色彩技術(shù)研究所制霧度計“腿-150”，測
定膜霧度(％)。
[0070](6)熱處理前后的膜霧度變化率(.H):
[0071]在試樣膜中，將具有下述涂布液組成的涂布液涂布在與設(shè)置涂布層的面相反側(cè)的面上。然后，將所得到的膜在規(guī)定的熱處理條件(180°C、90分鐘)下進行處理后，與(5)項同樣測定膜霧度。
[0072]<涂布液組成>
[0073]Colcoat 株式會社制 “Colcoat P”
[0074]使用棒(bar):#3bar
[0075]干燥條件:100°C I分鐘
[0076]然后，根據(jù)下述式，求出熱處理前后的膜霧度變化率(.H)。
[0077]膜霧度變化率(.H: %)=(熱處理后的膜霧度)-(熱處理前的膜霧度)
[0078](7)涂布膜的表面粗糙度(SRa):
[0079]通過使用利用直接相位檢測干涉法的所謂的Michelson干涉的雙光束干涉法的、非接觸表面測量系統(tǒng)(Micromap公司制“Micromap512)”,測量試樣膜的涂布面和反涂布面(沒有設(shè)置涂布層的膜面)的表面粗糙度(SRa)。其中，測定波長設(shè)為554nm，物鏡使用20倍，測定20°視野，采用其平均值。
[0080](8)透明導電膜疊層后的膜視認性評價-1 (實用特性代用評價):
[0081]在涂布膜中，在由95%氬氣和5%氧氣構(gòu)成的0.4Pa的氣氛下，通過利用氧化銦95重量％、氧化錫5重量％的燒結(jié)體材料的反應(yīng)性濺射法，在與涂布層相反側(cè)的面形成厚度25nm的ITO膜(透明導電性薄膜)。另外，ITO膜通過180°C X I小時的加熱處理結(jié)晶化。對于所得到的膜的透明性、視認性，根據(jù)下述判定標準進行判定。[0082]<判定標準>
[0083]A:透明性、視認性特別良好(實用上沒有問題的水平)
[0084]B:透明性、視認性良好(實用上沒有問題的水平)
[0085]C:透明性、視認性不良(實用上存在問題的水平)
[0086]D:透明性、視認性特別不良(實用上存在問題的水平)
[0087](9)膜的加工適應(yīng)性:
[0088]根據(jù)上述(8)項記載的方法，濺射加工時，對于加工部分的膜的平面性進行利用目測的官能評價，根據(jù)下述判定標準進行判定。
[0089]<判定標準>
[0090]A:膜的加工部分遍及寬度方向整體沒有發(fā)生起伏、褶皺，實現(xiàn)良好地加工(實用上沒有問題的水平)。
[0091]B:膜的加工部分中發(fā)生了起伏、褶皺等，未能在寬度方向上均勻地加工(實用上存在問題的水平)。
[0092]( 10)粘接劑的緩沖效果(實用特性代用評價):
[0093]將New Tac Kasei C0.，Ltd.的無載體膜“KF4 # 50”的輕剝離側(cè)分離片剝離，貼合于涂布膜的涂布層面。然后，將重剝離側(cè)分離片剝離，貼合于日本板硝子株式會社制板玻璃(“浮法平板玻璃(5mm厚)”)，制成涂布膜/粘接層/玻璃構(gòu)成體。使圓珠筆的筆尖從涂布膜側(cè)與所得到的構(gòu)成體接觸，對于該粘接劑的緩沖效果，根據(jù)下述判定標準，進行判定。
[0094]<判定標準>
[0095]A:筆接觸期間,粘接層追隨接觸的部位。當停止接觸時,粘接層的追隨變形復原(能夠感到緩沖效果)。
[0096]B:即使使筆接觸，粘接層也不變形，感受不到緩沖效果。
[0097]A為實用上沒有問題的水平。
[0098](11)熱處理后，從涂布膜的涂布層表面提取的酯環(huán)狀三聚體的量如下求出:將涂布膜在空氣中、180°C加熱150分鐘。然后，使經(jīng)過熱處理的該涂布膜盡可能與上部打開的長寬10cm、高3cm的箱的內(nèi)表面緊貼，形成箱形的形狀。此時，使涂布層面成為內(nèi)側(cè)。接著，在由上述方法制成的箱中加入DMF (二甲基甲酰胺)4ml，放置3分鐘后，回收DMF。將回收的DMF供給液相色譜(島津制作所制“LC-7A”)，求出DMF中的低聚物(環(huán)狀三聚體)的量，將該值除以接觸DMF的膜面積，作為膜表面酯環(huán)狀三聚體的量(mg / m2)。
[0099]DMF中的低聚物(環(huán)狀三聚體)量通過標準試樣峰面積與測定試樣峰面積的峰面積比求出(絕對校準曲線法)。其中，標準試樣的制作方法和液相色譜的條件與(3)項同樣進行。
[0100](12)透明導電膜疊層后的膜視認性評價-2 (實用特性代用評價):
[0101]在上述(8)項記載的方法中，將ITO膜的加熱處理條件變更為150°C X2小時，將判定標準如下所述進行變更，除此以外，與上述(8)項同樣進行。
[0102]( 13)膜-膜貼合性評價(實用特性代用評價):
[0103]在150°C加熱2小時后的試樣膜的涂布層上涂布下述丙烯酸系粘接劑組合物，在100°c熱處理5分鐘后，得到厚度為150 μ m的粘接劑層。接著，使用2kg的金屬輥在露出的粘接劑層側(cè)往返I次將膜貼合，然后，對于作業(yè)性，根據(jù)下述判定標準，進行判定。[0104]<丙烯酸系粘接劑組合物>
[0105](單體配合組成)
[0106]丙烯酸2-乙基己酯 70重量％
[0107]丙烯酸2-甲氧基乙酯 29重量％
[0108]丙烯酸4-羥基丁酯 I重量％
[0109]相對于上述單體組成100重量份，添加0.1份日本聚氨酯制“CORONATE L”，得至Ij丙烯酸系粘接劑層形成用組合物。
[0110]<判定標準>
[0111]A:沒有起褶皺、特別良好(實用上沒有問題的水平)。
[0112]B:發(fā)生褶皺、不良(實用上存在問題的水平)。
[0113](14)膜-膜片柔軟性評價(實用特性代用評價):
[0114]使用A4切割開數(shù)尺寸的試樣膜，以設(shè)置有涂布層的膜面為外表面的方式，彎折成環(huán)狀，從所得到的環(huán)狀膜的正上方施加負荷將其壓扁，使用此時的膜的反彈力，對于膜的挺度的強弱，根據(jù)下述判定標準，進行判定。
[0115]<判定標準>
[0116]A:膜的挺度弱、片柔軟性良好(實用上沒有問題的水平)。
[0117]B:.膜的挺度強、片柔軟性不良(實用上存在問題的水平)。
[0118]〈聚酯的制造>
[0119][聚酯(A)的制造方法]
[0120]將對苯二甲酸二甲酯100重量份和乙二醇60重量份作為起始原料，在反應(yīng)器中加入作為催化劑的乙酸鎂.四水鹽0.09重量份，將反應(yīng)開始溫度設(shè)為150°C，伴隨甲醇的蒸餾除去，使反應(yīng)溫度緩慢上升，3小時后設(shè)為230°C。4小時后，使酯交換反應(yīng)實質(zhì)上結(jié)束。在該反應(yīng)混合物中添加酸式磷酸乙酯0.04份后，加入三氧化銻0.04份，進行4小時縮聚反應(yīng)。即，將溫度從230°C緩慢升溫設(shè)為280°C。另一方面，壓力從常壓緩慢降低，最終設(shè)為
0.3mmHg。反應(yīng)開始后，根據(jù)反應(yīng)槽的攪拌動力的變化，在相當于特性粘度0.63的時刻停止反應(yīng)，在氮加壓下排出聚合物。所得到的聚酯(A)的特性粘度為0.65，低聚物(環(huán)狀三聚體)的含量為0.97重量％。
[0121][聚酯(B)的制造方法]
[0122]使聚酯(A)預先在160°C預結(jié)晶化后，在溫度220°C的氮氣氛下固相聚合，得到特性粘度為0.75、低聚物(環(huán)狀三聚體)含量為0.46重量％的聚酯(B)。
[0123][聚酯(C)的制造方法]
[0124]在聚酯(A)的制造方法中，添加酸式磷酸乙酯0.04份后，加入平均粒徑1.6μπι的分散在乙二醇中的二氧化硅顆粒0.2份、三氧化銻0.04份，在相當于特性粘度0.65的時刻停止縮聚反應(yīng)，除此以外，利用與聚酯(A)的制造方法同樣的方法，得到聚酯(C)。所得到的聚酯(C)的特性粘度為0.65，低聚物(環(huán)狀三聚體)含量為0.82重量％。
[0125]實施例1:
[0126]將聚酯(B)、(C)分別以85%、15%的比例混合而成的混合原料作為A層的原料，將聚酯(A) 100%的原料作為B層的原料，分別供給2臺擠出機，分別在285°C熔融后，將A層作為最外層(表層)，將B層作為中間層，在冷卻到40°C的澆鑄鼓上，以2種3層(A / B /A),以厚度構(gòu)成比為A:B:A = 6:11:6的方式共擠出，使其冷卻固化，得到無取向片。
[0127]接著，利用輥周速差，以膜溫度85°C在縱向拉伸3.4倍，然后，將該縱向拉伸膜導入拉幅機，在橫向以120°C拉伸4.3倍，以225°C進行熱處理后，將膜纏繞在輥上，在單面涂布由下述記載的制備法制成的涂布液，使干燥后膜厚為0.1 μ m，得到作為涂布膜時的聚酯膜的厚度為23 μ m的涂布膜。所得到的涂布膜的特性如下述表1所示。
[0128][涂布液的制備]
[0129]將以下的A、B、C、D、E的化合物分別以30、10、40、10、10重量份混合。
[0130].含季銨堿聚合物(A):
[0131]2-羥基3-甲基丙烯基氧丙基三甲基銨鹽聚合物
[0132]平衡離子:甲基磺酸鹽數(shù)均分子量:30000
[0133]?含聚乙二醇的丙烯酸酯聚合物(B):
[0134]含聚乙二醇的單丙烯酸酯聚合物數(shù)均分子量:20000
[0135]?交聯(lián)劑(C):
[0136]三聚氰胺交聯(lián)劑(DIC公司制:BECKAMINE “MAS”)
[0137]?顆粒(D):
[0138]氧化鋁表面改性 膠體二氧化硅(平均粒徑:50nm)
[0139]?粘合劑(E):
[0140]聚乙烯醇(皂化度88摩爾％、聚合度500)
[0141]實施例2:
[0142]除了在實施例1中，將厚度構(gòu)成比變更為4:15:4以外，用與實施例1同樣的方法得到涂布膜。所得到的涂布膜的特性如下述表1所示。
[0143]比較例1:
[0144]除了在實施例1中，將厚度構(gòu)成比變更為3:17:3以外，用與實施例1同樣的方法得到涂布膜。所得到的涂布膜的特性如下述表1所示。
[0145]比較例2:
[0146]除了在實施例1中，作為A層的原料分別以70%、30%的比例混合聚酯(B)、(C)以外，用與實施例1同樣的方法得到涂布膜。所得到的涂布膜的特性如下述表1所示。
[0147]比較例3:
[0148]在實施例1中，將厚度構(gòu)成比設(shè)為A:B:A = 4:1:4，將制成涂布膜時的聚酯膜的厚度變更為9 μ m，除此以外，用與實施例1同樣的方法得到涂布膜。所得到的涂布膜的特性如下述表1所示。
[0149]比較例4:
[0150]除了在實施例1中，作為A層的原料以100%的比例混合聚酯(C)以外，用與實施例I同樣的方法得到涂布膜。所得到的涂布膜的特性如下述表1所示。
[0151][表 I]
[0152]
【權(quán)利要求】
1.一種涂布膜，其特征在于: 其為在厚度10?200 μ m的聚酯膜的單面設(shè)置有涂布層的涂布膜，所述聚酯膜具有至少3層以上的疊層結(jié)構(gòu)，兩個最表層是包含低聚物含量為0.5重量％以下的聚酯80重量％以上的、厚度為4μπι以上的層。
2.如權(quán)利要求1所述的涂布膜，其特征在于: 涂布層是在膜制膜工序中涂覆設(shè)置的。
3.如權(quán)利要求1或2所述的涂布膜，其特征在于: 用于光學用途。
【文檔編號】B32B27/36GK103826852SQ201280047208
【公開日】2014年5月28日 申請日期:2012年10月18日 優(yōu)先權(quán)日:2011年10月22日
【發(fā)明者】森井秀和, 筑摩和哉 申請人:三菱樹脂株式會社