專利名稱：顯示屏的高耐磨性防指紋膜層及制作上述膜層的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于作業(yè)技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種納米膜層狀產(chǎn)品，特別是一種顯示屏的高耐磨性防指紋膜層。本發(fā)明屬于作業(yè)技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種納米膜層狀產(chǎn)品，特別是一種制作顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法。
背景技術(shù)：
采用電容式觸控的手機(jī)和平板電腦等電子產(chǎn)品的顯示屏均具有強(qiáng)化玻璃面板。在實際使用中，強(qiáng)化玻璃面板表面極易被外界的污物和用戶的指紋所污染。為此，人們設(shè)計出了耐摩擦防指紋膜，如中國專利文獻(xiàn)記載的一種觸摸屏用防指紋膜[申請?zhí)?201120330917.X ;授權(quán)公告號:CN202208152U]，強(qiáng)化玻璃上表面為緩沖層，緩沖層的上表面為AF膜；緩沖層為Si02薄膜，AF膜為疏水性和疏油性的高分子聚合物。AF膜同時具有疏水性和疏油性兩種特性，基于良好的疏水性和疏油性，AF膜不易粘附外界的灰塵及污物，并且在粘附污物和指紋的情況下，也具有較易除去表面異物的特性。同時該防指紋膜還有效地保證良好地透光性。因此，防指紋膜被廣泛應(yīng)用在手機(jī)顯示屏和平板電腦顯示屏中。為了保證防指紋膜符合實際使用壽命，即需要檢驗防指紋膜的耐磨特性。本領(lǐng)域常規(guī)檢測方法是顯示屏先經(jīng)受零號鋼絲球以I千克的重量往復(fù)摩擦；再以純水進(jìn)行接觸角檢測，磨后接觸角需 大于90°。經(jīng)過試驗，該防指紋膜經(jīng)過5000次往復(fù)摩擦后接觸角小于90°，即存在著使用壽命低的問題。上述觸摸屏用防指紋膜[申請?zhí)?201120330917.X ;授權(quán)公告號:CN202208152U]中SiO2緩沖層是通過PECVD所制備的，該制備方法存在著設(shè)備投資大、成本高，對氣體的純度要求高；涂層過程中產(chǎn)生的劇烈噪音、強(qiáng)光輻射、有害氣體、金屬蒸汽粉塵等對人體有害；即存在著生產(chǎn)成本高、投資回報周期長的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是針對現(xiàn)有的技術(shù)存在上述問題，提出了一種顯示屏的高耐磨性防指紋膜層，本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是如何提高耐磨性。本發(fā)明還提出了一種制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法，本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是如何降低生產(chǎn)成本與設(shè)備投資成本。本發(fā)明的目的可通過下列技術(shù)方案來實現(xiàn):一種顯示屏的高耐磨性防指紋膜層，顯示屏包括基片，其特征在于，本膜層包括真空蒸鍍附在基片表面的改性二氧化硅層和真空蒸鍍附在改性二氧化硅層表面的AF層。本顯示屏的高耐磨性防指紋膜層經(jīng)過多組樣品5000次往復(fù)摩擦試驗，以純水進(jìn)行接觸角檢測，磨后接觸角均大于100°。在上述的顯示屏的高耐磨性防指紋膜層中，所述改性二氧化硅層的厚度13 15納米。在上述的顯示屏的高耐磨性防指紋膜層中，所述AF層的厚度15 17納米。本制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法，其特征在于，本方法包括以下步驟:A、前處理:對改性二氧化硅進(jìn)行真空脫氣處理；B、準(zhǔn)備真空蒸鍍:先將基片安裝在真空蒸鍍膜機(jī)真空室頂面上，在第一組蒸發(fā)源內(nèi)加入經(jīng)過真空脫氣處理的改性二氧化硅，在第二組蒸發(fā)源內(nèi)加入AF ；C、執(zhí)行真空蒸鍍:先抽真空和調(diào)整真空室內(nèi)溫度，再依次進(jìn)行真空蒸鍍改性二氧化硅層和真空蒸鍍AF層，得到產(chǎn)品；D、出產(chǎn)品:將產(chǎn)品從真空蒸鍍膜機(jī)真空室頂面上卸下并運出真空室。在上述的制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法中，所述改性二氧化硅中二氧化硅成分重量百分比為99.6 99.7 ;其余為金屬氧化物。在上述的制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法中，所述金屬氧化物為三氧化二鋁、氧化鉀、氧化鈉、三氧化二鐵、氧化鈣或氧化鎂。在上述的制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法中，所述步驟A采用下述真空蒸鍍膜機(jī)進(jìn)行處理。在上述的制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法中，所述改性二氧化硅放在真空蒸鍍膜機(jī)內(nèi)的時間為至少執(zhí)行I次真空蒸鍍。在上述的制作上述顯示屏的高耐`磨性防指紋膜層的方法中，所述改性二氧化硅為顆粒狀。顆粒直徑約為4 6毫米在上述的制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法中，所述B中蒸發(fā)源與基片的高度為880 930毫米。在上述的制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法中，所述步驟C中真空室內(nèi)的壓強(qiáng)低于5.0-3pa后再執(zhí)行真空蒸鍍改性二氧化硅層。在上述的制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法中，所述步驟C中真空室內(nèi)溫度調(diào)整至20 40攝氏度。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本顯示屏的高耐磨性防指紋膜層具有良好地耐磨性，有效地保證顯示屏使用壽命。本制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法所采用的原材料與設(shè)備和現(xiàn)有技術(shù)相比要求更低，即降低了原材料成本及設(shè)備投資；由此是本制作方法可采用國產(chǎn)設(shè)備與低價AF原料，卻能保證產(chǎn)品的高性能。本制作方法通過降低生產(chǎn)溫度和提高真空壓強(qiáng)，進(jìn)而減少生產(chǎn)能源消耗。本制作方法還有效地降低原材料使用量，降低生產(chǎn)升本。綜上所述，采用本制作方法生產(chǎn)的顯示屏在保證相同性能或提高性能的前提下仍然能降低一半以上生產(chǎn)成本，由此有效地保證產(chǎn)品的競爭力。


圖1是本顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中，1、基片；2、改性二氧化硅層；3、AF層。
具體實施例方式以下是本發(fā)明的具體實施例并結(jié)合附圖，對本發(fā)明的技術(shù)方案作進(jìn)一步的描述，但本發(fā)明并不限于這些實施例。本顯示屏包括基片1，基片I為強(qiáng)化玻璃、PC板或亞克力板。本顯示屏的高耐磨性防指紋膜層包括真空蒸鍍附在基片I表面的改性二氧化硅層2和真空蒸鍍附在改性二氧化硅層2表面的AF層3。作為優(yōu)選，改性二氧化硅層2的厚度13 15納米；AF層3的厚度15 17納米。AF層3采用AF材料制成，AF是疏水性和疏油性的高分子聚合物。改性二氧化硅層2采用改性二氧化硅制成，改性二氧化硅系選用天然石英，經(jīng)高溫熔煉，冷卻后的非晶態(tài)二氧化硅作為主要原料。改性二氧化硅中二氧化硅成分重量百分比為99.6 99.7 ;其余為金屬氧化物。金屬氧化物為三氧化二鋁、氧化鉀、氧化鈉、三氧化二鐵、氧化鈣或氧化鎂。本改性二氧化硅中含有多種金屬氧化物；具體來說，含有三氧化二鋁、氧化鉀、氧化鈉、三氧化二鐵、氧化鈣和氧化鎂；其中金屬氧化物中三氧化二鋁占90%以上；其他組份基本接近。表I是現(xiàn)有技術(shù)[申請?zhí)?201120330917.X ;授權(quán)公告號:CN202208152U]的顯示屏和本顯示屏均先經(jīng)受零號鋼絲球以I千克的重量往復(fù)摩擦5000次；再以純水進(jìn)行接觸角檢測得到的接觸角列表
權(quán)利要求
1.一種顯示屏的高耐磨性防指紋膜層，顯示屏包括基片(I )，其特征在于，本膜層包括真空蒸鍍附在基片(I)表面的改性二氧化硅層(2)和真空蒸鍍附在改性二氧化硅層(2)表面的AF層(3)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的顯示屏的高耐磨性防指紋膜層，其特征在于，所述改性二氧化硅層(2)的厚度13 15納米。
3.本制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法，其特征在于，本方法包括以下步驟 A、前處理對改性二氧化硅進(jìn)行真空脫氣處理； B、準(zhǔn)備真空蒸鍍先將基片(I)安裝在真空蒸鍍膜機(jī)真空室頂面上，在第一組蒸發(fā)源內(nèi)加入經(jīng)過真空脫氣處理的改性二氧化硅，在第二組蒸發(fā)源內(nèi)加入AF ； C、執(zhí)行真空蒸鍍先抽真空和調(diào)整真空室內(nèi)溫度，再依次進(jìn)行真空蒸鍍改性二氧化硅層(2)和真空蒸鍍AF層(3)，得到產(chǎn)品； D、出產(chǎn)品將產(chǎn)品從真空蒸鍍膜機(jī)真空室頂面上卸下并運出真空室。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法，其特征在于，所述改性二氧化硅中二氧化硅成分重量百分比為99. 6 99. 7 ;其余為金屬氧化物。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法，其特征在于，所述步驟A采用下述真空蒸鍍膜機(jī)進(jìn)行處理。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法，其特征在于，所述改性二氧化硅放在真空蒸鍍膜機(jī)內(nèi)的時間為至少執(zhí)行I次真空蒸鍍。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法，其特征在于，所述改性二氧化硅為顆粒狀。
8.根據(jù)權(quán)利要求3至7中的任意一項所述的制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法，其特征在于，所述B中蒸發(fā)源與基片(I)的高度為880 930毫米。
9.根據(jù)權(quán)利要求3至7中的任意一項所述的制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法，其特征在于，所述步驟C中真空室內(nèi)的壓強(qiáng)低于5. 0_3pa后再執(zhí)行真空蒸鍍改性二氧化娃層(2)。
10.根據(jù)權(quán)利要求3至7中的任意一項所述的制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法，其特征在于，所述步驟C中真空室內(nèi)溫度調(diào)整至20 40攝氏度。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種顯示屏的高耐磨性防指紋膜層及制作上述膜層的方法，屬于納米膜層狀產(chǎn)品技術(shù)領(lǐng)域。它解決了現(xiàn)有的生產(chǎn)成本高的問題。本顯示屏的高耐磨性防指紋膜層，顯示屏包括基片包括真空蒸鍍附在基片表面的改性二氧化硅層和真空蒸鍍附在改性二氧化硅層表面的AF層。本制作方法包括前處理、準(zhǔn)備真空蒸鍍、執(zhí)行真空蒸鍍和出產(chǎn)品步驟。本制作方法降低了原材料成本及設(shè)備投資；減少生產(chǎn)能源消耗，降低生產(chǎn)升本。采用本制作方法生產(chǎn)的顯示屏在保證相同性能或提高性能的前提下仍然能降低一半以上生產(chǎn)成本，由此有效地保證產(chǎn)品的競爭力。
文檔編號B32B9/04GK103252937SQ20131021408
公開日2013年8月21日 申請日期2013年5月31日 優(yōu)先權(quán)日2013年5月31日
發(fā)明者林海平 申請人:浙江星星瑞金科技股份有限公司