殼體及其制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種殼體及該殼體的制作方法。該殼體包括基體，所述殼體進(jìn)一步包括形成于該基體表面的若干層氮化碳層。該殼體的制作方法包括如下步驟：提供一基體；采用石墨靶材，以氮?dú)鉃榉磻?yīng)氣體，通過(guò)真空鍍膜法在該基體的表面重復(fù)鍍覆，從而在基體的表面形成若干層氮化碳層。
【專利說(shuō)明】殼體及其制作方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明是關(guān)于一種殼體及其制作方法，尤其涉及一種環(huán)保的、具有黑色外觀的殼 體及其制作方法。

【背景技術(shù)】
[0002] 現(xiàn)今手機(jī)等電子裝置的外殼大多由塑料材料制成。為了在塑料殼體表面獲得黑色 的非金屬外觀效果，通常會(huì)進(jìn)行印刷或噴漆等表面處理。然而，現(xiàn)有的印刷或噴漆處理雖然 可以通過(guò)選用不同顏色的油漆，以客戶的需求生產(chǎn)不同色澤的產(chǎn)品。然而，由于油漆含有較 多有毒物質(zhì)，容易造成環(huán)境污染。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]鑒于此，本發(fā)明提供一種環(huán)保的、具有黑色外觀的殼體。
[0004] 另外，本發(fā)明還提供一種上述殼體的制作方法。
[0005]-種殼體，其包括基體，所述殼體進(jìn)一步包括形成于該基體表面的若干層氮化碳 層。
[0006]-種殼體的制作方法，其包括如下步驟： 提供一基體； 采用石墨靶材，以氮?dú)鉃榉磻?yīng)氣體，通過(guò)真空鍍膜法在該基體的表面重復(fù)鍍覆，從而在 基體的表面形成若干層氮化碳層。
[0007]上述的殼體通過(guò)在塑料基體表面鍍覆若干層氮化碳層，使得該殼體具有黑色外 觀，且不導(dǎo)電。該方法簡(jiǎn)單易行，不污染環(huán)境。且殼體的硬度高，且較耐磨，不易被刮傷。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0008] 圖1是本發(fā)明第一較佳實(shí)施例殼體的剖視圖； 圖2是本發(fā)明第二較佳實(shí)施例殼體的剖視圖； 圖3是本發(fā)明第三較佳實(shí)施例殼體的剖視圖； 圖4是本發(fā)明第四較佳實(shí)施例殼體的剖視圖； 圖5是本發(fā)明一較佳實(shí)施方式的真空鍍膜機(jī)的俯視示意圖。
[0009]主要元件符號(hào)說(shuō)明

【權(quán)利要求】
1. 一種殼體，其包括基體，其特征在于：所述殼體進(jìn)一步包括形成于該基體表面的若 干層氮化碳層。
2. 如權(quán)利要求1所述的殼體，其特征在于：所述氮化碳層的層數(shù)為4~5層，每一層氮化 碳層的厚度為0. l~〇. 2Mm。
3. 如權(quán)利要求1所述的殼體，其特征在于：所述殼體進(jìn)一步包括形成于該基體與該氮 化碳層之間的底漆層及形成于所述若干氮化碳層最外表面的面漆層。
4. 如權(quán)利要求3所述的殼體，其特征在于：所述殼體進(jìn)一步包括形成于氮化碳層與面 漆層之間的中漆層。
5. 如權(quán)利要求4所述的殼體，其特征在于：所述底漆層、中漆層及面漆層的具體成份均 為紫外光固化油漆，該底漆層的厚度為5~15Mm，該中漆層的厚度為:T7Mm，該面漆層的厚度 為 15?25Mm。
6. 如權(quán)利要求1所述的殼體，其特征在于：所述殼體呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色 系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于27至28之間，a*坐標(biāo)介于-1至1之間，b*坐標(biāo)介于-2至2之間。
7. -種殼體的制作方法，其包括如下步驟： 提供一基體； 采用石墨靶材，以氮?dú)鉃榉磻?yīng)氣體，通過(guò)真空鍍膜法在該基體的表面重復(fù)鍍覆，從而在 基體的表面形成若干層氮化碳層。
8. 如權(quán)利要求7所述的殼體的制作方法，其特征在于：采用一真空鍍膜機(jī)對(duì)該基體進(jìn) 行鍍覆處理，該真空鍍膜機(jī)包括鍍膜室及設(shè)置于該鍍膜室中的治具及石墨靶材。
9. 如權(quán)利要求8所述的殼體的制作方法，其特征在于：形成每一層氮化碳層的方法為： 開啟石墨靶材，調(diào)節(jié)該鍍膜室內(nèi)的占空比為45~50%，對(duì)該基體施加偏壓為20(T300V，氮?dú)?的流量為l〇(T20〇 SCCm，鍍膜每一層氮化碳層的時(shí)間為100(Γ1100秒。
【文檔編號(hào)】B32B33/00GK104275904SQ201310293998
【公開日】2015年1月14日 申請(qǐng)日期:2013年7月12日 優(yōu)先權(quán)日:2013年7月12日
【發(fā)明者】王有財(cái), 林浚暐, 謝春旭, 魏永輝, 張進(jìn)財(cái) 申請(qǐng)人:深圳富泰宏精密工業(yè)有限公司