專利名稱：一種日夜兩用型濾光片的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種濾光片，特別涉及一種日夜兩用型濾光片。
背景技術(shù)：
日夜兩用型濾光片是能通過一可見光帶和一紅外光窄帶，同時(shí)能阻止900-1100nm近紅外光通過的濾光片，主要用于CCD或CMOS成像系統(tǒng)中，白天可以獲得真彩色圖像，晚上可以獲得清晰的黑白圖像，在數(shù)碼像機(jī)、數(shù)碼錄像機(jī)、監(jiān)控用攝像機(jī)、電腦攝像頭、手機(jī)攝像、可視電話、電子玩具、紅外感應(yīng)等攝像設(shè)備領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。在現(xiàn)有技術(shù)中，日夜兩用型濾光片往往在透射波段內(nèi)平均透射率難以達(dá)到98%，而截止波段透射率則高于1%，中心波長(zhǎng)易出現(xiàn)溫飄，膜層牢固度較差，易出現(xiàn)色差，易出現(xiàn)次峰通帶，易產(chǎn)生光干擾問題，因而難以滿足CCD或CMOS成像系統(tǒng)對(duì)日夜兩用型濾光片的要求。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種380_620nm透射波段與840-860nm透射波段的平均透射率高，而700-780nm截止波段與900-1 IOOnm截止波段的透射率低，能有效截除次峰，中心波長(zhǎng)無溫飄，膜層牢固度強(qiáng)，無色差均勻性好，不易出現(xiàn)次峰通帶，不易產(chǎn)生光干擾問題的日夜兩用型濾光片。為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型的技術(shù)方案是:一種日夜兩用型濾光片，包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的51層膜，該51層膜由低折射率的二氧化硅SiO2膜層和高折射率的二氧化鈦T i O2膜層多次交替堆疊組成，該51層膜從內(nèi)至外依次為:第I層，SiO2膜層，厚度為108.5-109nm;第2層，TiO2膜層，厚度為7.5_8nm;第3層，SiO2膜層，厚度為36-36.4nm ;第4層，TiO2膜層，厚度為100.5-lOlnm ;第5層，SiO2膜層，厚度為158.5-159nm;第6層，TiO2膜層，厚度為18.5_19nm;第7層，SiO2膜層，厚度為5.6-5.9nm ;第8層，TiO2膜層，厚度為180-180.4nm ;第9層，SiO2膜層，厚度為48.6-49nm ;第 10 層，TiO2 膜層，厚度為 8-8.4nm ;第 11 層，SiO2 膜層，厚度為 74.5_75nm ；第12層，TiO2膜層，厚度為88-88.4nm ;第13層，SiO2膜層，厚度為136.5_137nm ;第14層，TiO2膜層，厚度為80.5-81nm;第15層，SiO2膜層，厚度為142.5_143nm ;第16層，TiO2膜層，厚度為46.5-46.8nm ;第17層，SiO2膜層，厚度為15-15.4nm ;第18層，TiO2膜層，厚度為18-18.4nm ;第19層，SiO2膜層，厚度為122-122.4nm ;第20層，TiO2膜層，厚度為90-90.4nm ;第21層，SiO2膜層，厚度為158-158.49nm ;第22層，TiO2膜層，厚度為8-8.4nm ;第 23 層，SiO2 膜層，厚度為 165-165.4nm ;第 24 層，TiO2 膜層，厚度為 87-87.4nm ；第25層，SiO2膜層，厚度為135.5-136nm ;第26層，TiO2膜層，厚度為83.5_84nm ;第27層，SiO2膜層，厚度為138.5-139nm;第28層，TiO2膜層，厚度為91.5-92nm;第29層，SiO2膜層，厚度為165.5-166nm ;第30層，TiO2膜層，厚度為23.8-24.2nm ;第31層，SiO2膜層，厚度為15.5-16nm ;第32層，TiO2膜層，厚度為75.5_76nm ;第33層，SiO2膜層，厚度為13.7-14.2nm ;第34層，TiO2膜層，厚度為27.5-27.8nm ;第35層，SiO2膜層，厚度為178-178.4nm ;第36層，TiO2膜層，厚度為108.5_109nm ;第37層，SiO2膜層，厚度為177-177.4nm ;第38層，TiO2膜層，厚度為112-112.4nm ;第39層，SiO2膜層，厚度為177.5-178nm ;第40層，TiO2膜層，厚度為109-109.4nm ;第41層，SiO2膜層，厚度為158.5-159nm;第42層，TiO2膜層，厚度為6-6.4nm ;第43層，SiO2膜層，厚度為13.5-13.8nm ;第44層，TiO2膜層，厚度為93-93.4nm ;第45層，SiO2膜層，厚度為16-16.4nm ;第 46 層，TiO2 膜層，厚度為 14.5_15nm ;第 47 層，SiO2 膜層，厚度為 167-167.4nm第48層，TiO2膜層，厚度為11-11.3nm ;第49層，SiO2膜層，厚度為18.6_19nm ;第50層，TiO2 膜層，厚度為 100.5-100.8nm ;第 51 層，SiO2 膜層，厚度為 82.6_83nm。本實(shí)用新型日夜兩用型濾光片的制造工藝包括:將透明玻璃基板置于精密真空鍍膜機(jī)中，然后設(shè)定好膜層厚度參數(shù)，最后通過真空鍍膜(例如蒸鍍)方式形成所述的51層膜。鍍膜之后的日夜兩用型濾光片在380-620nm透射波段與840_860nm透射波段，其平均透射率在98%以上，而在700-780nm截止波段與900-1 IOOnm截止波段，其平均透過率小于1%。本實(shí)用新型的有益效果是:本實(shí)用新型的膜層為51層，在380_620nm透射波段與840-860nm透射波段的平均透射率高，而700_780nm截止波段與900-1 IOOnm截止波段的透射率低，能有效截除次峰，中心波長(zhǎng)無溫飄，膜層牢固度強(qiáng)，無色差均勻性好，不易出現(xiàn)次峰通帶，不易產(chǎn)生光干擾問題；本實(shí)用新型能廣泛應(yīng)用于數(shù)碼像機(jī)、數(shù)碼錄像機(jī)、監(jiān)控用攝像機(jī)、電腦攝像頭、手機(jī)攝像、可視電話、電子玩具、紅外感應(yīng)等CCD或CMOS成像系統(tǒng)設(shè)備領(lǐng)域。

圖1為本實(shí)用新型日夜兩用型濾光片的整體結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本實(shí)用新型日夜兩用型濾光片的另一整體結(jié)構(gòu)不意圖。圖3為本實(shí)用新型日夜兩用型濾光片進(jìn)行光線透射測(cè)試的透射率特性圖。圖中:100.日夜兩用型濾光片；1.透明玻璃基板；2.51層膜；21.SiO2膜層；22.TiO2月旲層；3.磨fe層。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)原理和工作原理作進(jìn)一步詳細(xì)說明。如圖1所示，在該具體實(shí)施方式
中，該日夜兩用型濾光片100包括透明玻璃基板I及透明玻璃基板上的51層膜2，該51層膜2由低折射率的二氧化硅SiO2膜層21和高折射率的二氧化鈦TiO2膜層22多次交替堆疊組成，該51層膜2從內(nèi)至外依次為:第I層，SiO2膜層，厚度為108.5-109nm;第2層，TiO2膜層，厚度為7.5_8nm;第3層，SiO2膜層，厚度為36-36.4nm ;第4層，TiO2膜層，厚度為100.5-lOlnm ;第5層，SiO2膜層，厚度為158.5-159nm;第6層，TiO2膜層，厚度為18.5_19nm;第7層，SiO2膜層，厚度為5.6-5.9nm ;第8層，TiO2膜層，厚度為180-180.4nm ;第9層，SiO2膜層，厚度為48.6-49nm ;第 10 層，TiO2 膜層，厚度為 8-8.4nm ;第 11 層，SiO2 膜層，厚度為 74.5_75nm ；第12層，TiO2膜層，厚度為88-88.4nm ;第13層，SiO2膜層，厚度為136.5_137nm ;第14層，TiO2膜層，厚度為80.5-81nm;第15層，SiO2膜層，厚度為142.5_143nm ;第16層，TiO2膜層，厚度為46.5-46.8nm ;第17層，SiO2膜層，厚度為15-15.4nm ;第18層，TiO2膜層，厚度為18-18.4nm ;第19層，SiO2膜層，厚度為122-122.4nm ;第20層，TiO2膜層，厚度為90-90.4nm ;第21層，SiO2膜層，厚度為158-158.49nm ;第22層，TiO2膜層，厚度為8-8.4nm ;第 23 層，SiO2 膜層，厚度為 165-165.4nm ;第 24 層，TiO2 膜層，厚度為 87-87.4nm ；第25層，SiO2膜層，厚度為135.5-136nm ;第26層，TiO2膜層，厚度為83.5_84nm ;第27層，SiO2膜層，厚度為138.5-139nm;第28層，TiO2膜層，厚度為91.5-92nm;第29層，SiO2膜層，厚度為165.5-166nm ;第30層，TiO2膜層，厚度為23.8-24.2nm ;第31層，SiO2膜層，厚度為15.5-16nm ;第32層，TiO2膜層，厚度為75.5_76nm ;第33層，SiO2膜層，厚度為13.7-14.2nm ;第34層，TiO2膜層，厚度為27.5-27.8nm ;第35層，SiO2膜層，厚度為178-178.4nm ;第36層，TiO2膜層，厚度為108.5_109nm ;第37層，SiO2膜層，厚度為177-177.4nm ;第38層，TiO2膜層，厚度為112-112.4nm ;第39層， SiO2膜層，厚度為177.5-178nm ;第40層，TiO2膜層，厚度為109-109.4nm ;第41層，SiO2膜層，厚度為158.5-159nm;第42層，TiO2膜層，厚度為6-6.4nm ;第43層，SiO2膜層，厚度為13.5-13.8nm ;第44層，TiO2膜層，厚度為93-93.4nm ;第45層，SiO2膜層，厚度為16-16.4nm ;第 46 層，TiO2 膜層，厚度為 14.5_15nm ;第 47 層，SiO2 膜層，厚度為 167-167.4nm第48層，TiO2膜層，厚度為11-11.3nm ;第49層，SiO2膜層，厚度為18.6_19nm ;第50層，TiO2 膜層，厚度為 100.5-100.8nm ;第 51 層，SiO2 膜層，厚度為 82.6_83nm。在上述技術(shù)方案中，二氧化鈦膜層22和二氧化硅膜層21通過真空鍍膜(如真空蒸鍍)方式形成于透明玻璃基板之上，二氧化鈦膜層22和二氧化硅膜層21的層數(shù)和厚度是根據(jù)二氧化鈦及二氧化硅的折射率，經(jīng)大量計(jì)算而得出的，二氧化鈦具有較高折射率，其在部分光線波段中的折射率參見表一 ；二氧化娃具有較低折射率，其在部分光線波段中的折射率參見表二。表一、二氧化鈦在部分光線波段中的折射率:
權(quán)利要求1.一種日夜兩用型濾光片，其特征在于:包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的51層膜，該51層膜由低折射率的二氧化硅SiO2膜層和高折射率的二氧化鈦TiO2膜層多次交替堆疊組成，該51層膜從內(nèi)至外依次為 第I層，SiO2膜層，厚度為108.5-109nm ；第2層，TiO2膜層，厚度為7.5-8nm ;第3層，SiO2膜層，厚度為36-36.4nm ;第4層，TiO2膜層，厚度為100.5-101nm;第5層，SiO2膜層，厚度為158.5_159nm;第6層，TiO2膜層，厚度為18.5-19nm;第7層，SiO2膜層，厚度為5.6-5.9nm;第8層，TiO2膜層，厚度為180-180.4nm;第9層，SiO2膜層，厚度為48.6_49nm ;第10層，TiO2膜層，厚度為8-8.4nm ;第 11 層，SiO2 膜層，厚度為 74.5_75nm ;第 12 層，TiO2 膜層，厚度為 88-88.4nm ；第13層，SiO2膜層，厚度為136.5-137nm ;第14層，TiO2膜層，厚度為80.5-8Inm ；第15層，SiO2膜層，厚度為142.5-143nm ;第16層，TiO2膜層，厚度為46.5-46.8nm ；第17層，SiO2膜層，厚度為15-15.4nm;第18層，TiO2膜層，厚度為18-18.4nm ;第19層，SiO2膜層，厚度為122-122.4nm;第20層，TiO2膜層，厚度為90-90.4nm ;第21層，SiO2膜層，厚度為158-158.49nm;第22層，TiO2膜層，厚度為8-8.4nm ;第23層，SiO2膜層，厚度為165-165.4nm ;第24層，TiO2膜層，厚度為87-87.4nm ;第25層，SiO2膜層，厚度為135.5-136nm ;第26層，TiO2膜層，厚度為83.5_84nm ;第27層，SiO2膜層，厚度為138.5-139nm ;第28層，TiO2膜層，厚度為91.5_92nm ;第29層，SiO2膜層，厚度為165.5-166nm ;第30層，TiO2膜層，厚度為23.8-24.2nm ;第31層，SiO2膜層，厚度為15.5-16nm ;第32層，TiO2膜層，厚度為75.5_76nm ;第33層，SiO2膜層，厚度為13.7-14.2nm ;第34層，TiO2膜層，厚度為27.5-27.8nm ;第35層，SiO2膜層，厚度為178-178.4nm ;第36層，TiO2膜層，厚度為108.5_109nm ;第37層，SiO2膜層，厚度為177-177.4nm ;第38層，TiO2膜層，厚度為112-112.4nm ;第39層，SiO2膜層，厚度為177.5-178nm ;第40層，TiO2膜層，厚度為109-109.4nm ;第41層，SiO2膜層，厚度為158.5-159nm ;第42層，TiO2膜層，厚度為6_6.4nm ;第43層，SiO2膜層，厚度為13.5-13.8nm ;第44層，TiO2膜層，厚度為93-93.4nm ;第45層，SiO2膜層，厚度為16-16.4nm ;第 46 層，TiO2 膜層，厚度為 14.5_15nm ;第 47 層，SiO2 膜層，厚度為 167-167.4nm第48層，TiO2膜層，厚度為11-11.3nm ;第49層，SiO2膜層，厚度為18.6_19nm ;第50層，TiO2 膜層，厚度為 100.5-100.8nm ;第 51 層，SiO2 膜層，厚度為 82.6_83nm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的日夜兩用型濾光片，其特征在于:所述51層膜的厚度依次為:第 I 層，108.5Inm ;第 2 層，7.76nm ;第 3 層，36.17nm ;第 4 層，100.77nm ;第 5 層，`158.69nm ’第 6 層，18.62nm ;第 7 層，5.79nm ’第 8 層，180.08nm ;第 9 層，48.92nm ;第 10 層，`8.26nm ;第 11 層，74.9nm ;第 12 層，88.26nm ;第 13 層，136.77nm ;第 14 層，80.62nm ;第 15層，142.6Inm ;第 16 層,46.5nm ;第 17 層，15.35nm ;第 18 層，18.38nm ;第 19 層,122.16nm ;第`20 層，90.2nm ;第 21 層，158.46nm ’第 22 層，8.33nm ;第 23 層，165.22nm ;第 24 層，87.08nm ；第 25 層，135.58nm ；第 26 層，83.85nm ;第 27 層，138.97nm ；第 28 層，91.54nm ;第 29 層，`165.96nm ;第 30 層，24nm ;第 31 層，15.87nm ;第 32 層，75.76nm ;第 33 層，13.99nm ;第 34層，27.5nm ;第 35 層，178.34nm ;第 36 層，108.8nm ’第 37 層，177.13nm ;第 38 層，112.14nm ；第 39 層，177.59nm ;第 40 層，109.05nm ;第 41 層，158.62nm ；第 42 層，6.26nm ;第 43 層，`13.57nm ;第 44 層,93.13nm ;第 45 層，16.15nm ;第 46 層，14.66nm ;第 47 層，167.23nm ;第 48層，11.05nm ;第 49 層，18.95nm ;第 50 層，100.57nm ;第 51 層，82.93nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的日夜兩用型濾光片，其特征在于:所述透明玻璃基板為光學(xué)玻璃基板D263T。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的日夜兩用型濾光片，其特征在于:所述光學(xué)玻璃基板D263T的厚度為 0.145mm 或 0.21mm 或 0.3mm 或 0.4mm 或 0.55mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的日夜兩用型濾光片，其特征在于:還包括一層磨損層，該磨損層疊加于所述的 51層膜之外，該磨損層為SiO2膜層，厚度為3-5nm。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種日夜兩用型濾光片，包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的51層膜，該51層膜由低折射率的二氧化硅SiO2膜層和高折射率的二氧化鈦TiO2膜層多次交替堆疊組成。本實(shí)用新型在380-620nm透射波段與840-860nm透射波段，其平均透射率在98%以上，而在700-780nm截止波段與900-1100nm截止波段，其平均透過率小于1%；本實(shí)用新型能有效截除次峰，中心波長(zhǎng)無溫飄，膜層牢固度強(qiáng)，無色差均勻性好，不易出現(xiàn)次峰通帶，不易產(chǎn)生光干擾問題；能廣泛應(yīng)用于數(shù)碼像機(jī)、數(shù)碼錄像機(jī)、監(jiān)控用攝像機(jī)、電腦攝像頭、手機(jī)攝像、可視電話、電子玩具、紅外感應(yīng)等CCD或CMOS成像系統(tǒng)設(shè)備領(lǐng)域。
文檔編號(hào)B32B9/04GK203164462SQ20132007600
公開日2013年8月28日 申請(qǐng)日期2013年2月19日 優(yōu)先權(quán)日2013年2月19日
發(fā)明者奐微微, 黃興橋 申請(qǐng)人:東莞五方光電科技有限公司