一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃的制作方法
【專利摘要】本實用新型是有關(guān)于一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，包括：玻璃基片、氮化硅膜層、鎳鉻膜層、銀膜層、鎳鉻膜層、氮化硅膜層；在所述玻璃基片上依次設(shè)置有所述氮化硅膜層、所述鎳鉻膜層、所述銀膜層、所述鎳鉻膜層、所述氮化硅膜層；該產(chǎn)品具有高透光率、耐高溫和輻射率低的優(yōu)點。
【專利說明】一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，特別是涉及一種本實用新型含有五層膜結(jié)構(gòu)的耐高溫單銀低輻射鍍膜玻璃。
【背景技術(shù)】
[0002]低輻射鍍膜玻璃是指在浮法玻璃表面沉積一層金屬銀作為功能層，對太陽光中的近紅外線和生活環(huán)境中的遠紅外線起反射作用，從而降低玻璃對紅外線的吸收和輻射率，所以稱之為低輻射鍍膜玻璃。此種玻璃既可用于家庭窗戶，也可用于商店、寫字樓和高檔賓館的玻璃幕墻及其它需要的場所。
[0003]高透光率低輻射鍍膜玻璃較一般的低輻射鍍膜玻璃具有較高的可見光透光率，外觀效果通透性好，室內(nèi)采光自然，而且具有很高的隔熱性能。在寒冷地區(qū)，冬季時間長，氣溫低，室內(nèi)的熱量向室外更低的氣溫環(huán)境失散。冬天太陽熱輻射透過玻璃進入室內(nèi)，以此來增加室內(nèi)的熱能，而室內(nèi)的暖氣、家電、人體等發(fā)出的遠紅外被阻隔反射回室內(nèi)，有效降低了暖氣的能耗。制作成中空玻璃的高透光率低輻射鍍膜玻璃具有更優(yōu)良的節(jié)能效果。
[0004]現(xiàn)在市場上已經(jīng)有一些可鋼化耐高溫低輻射鍍膜玻璃，這些可鋼化耐高溫低輻射鍍膜玻璃其保護層必須達到一定厚度才能有效發(fā)揮保護銀膜的作用，但同時因為保護層厚度的增加也限制了產(chǎn)品的可見光透過率。目前市場上缺乏一種高透光率、耐高溫單銀低輻射鍍膜玻璃產(chǎn)品。
[0005]保護層材質(zhì)的選擇及其厚度直接影響到最終成品的可見光透過率。目前多數(shù)廠家采用氧化鈦膜做保護層以提高可見光透過率。但由于鈦的濺射效率較低，通常都必須使用很高的生產(chǎn)功率；再者，為了達到保護效果的厚度，還需降低玻璃的行進速度。因此，為提高透光率使用氧化鈦膜通常都會付出很大的代價，直接導(dǎo)致效率下降，成本升高。
[0006]由此可見，上述現(xiàn)有的低輻射鍍膜玻璃在結(jié)構(gòu)與使用上，顯然仍存在有不便與缺陷，而亟待加以進一步改進。因此如何能創(chuàng)設(shè)一種新型結(jié)構(gòu)的提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，亦成為當(dāng)前業(yè)界極需改進的目標(biāo)。
[0007]有鑒于上述現(xiàn)有的低輻射鍍膜玻璃存在的缺陷，本發(fā)明人基于從事此類產(chǎn)品設(shè)計制造多年豐富的實務(wù)經(jīng)驗及專業(yè)知識，并配合學(xué)理的運用，積極加以研究創(chuàng)新，以期創(chuàng)設(shè)一種新型結(jié)構(gòu)的提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，能夠改進一般現(xiàn)有的低輻射鍍膜玻璃，使其更具有實用性。經(jīng)過不斷的研究、設(shè)計，并經(jīng)過反復(fù)試作樣品及改進后，終于創(chuàng)設(shè)出確具實用價值的本實用新型。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]本實用新型的目的在于，克服現(xiàn)有的低輻射鍍膜玻璃存在的缺陷，而提供一種新型結(jié)構(gòu)的提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，所要解決的技術(shù)問題是使其提供一種含有五層薄膜結(jié)構(gòu)的耐高溫單銀低輻射鍍膜玻璃提高透光率的方法，在現(xiàn)有設(shè)備基礎(chǔ)上，控制膜層的厚度，既有效保護受熱過程中的銀層不受氧化，又要有效調(diào)節(jié)最終產(chǎn)品的透光率高于70%，能耐630°C左右高溫，且能阻擋外界氧氣、玻璃內(nèi)的鈉離子等對銀層侵蝕的膜層組合。
[0009]本實用新型的目的及解決其技術(shù)問題是采用以下技術(shù)方案來實現(xiàn)的。依據(jù)本實用新型提出的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其中包括:玻璃基片、氮化硅膜層、鎳鉻膜層、銀膜層、鎳鉻膜層、氮化硅膜層；其中在所述玻璃基片上依次設(shè)置有所述氮化硅膜層、所述鎳鉻膜層、所述銀膜層、所述鎳鉻膜層、所述氮化硅膜層；
[0010]本實用新型的目的及解決其技術(shù)問題還可采用以下技術(shù)措施進一步實現(xiàn)。
[0011]本實用新型前述的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述氮化硅膜層設(shè)置到玻璃表面為第一層膜，厚度為39納米-40納米。
[0012]前述的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述鎳鉻膜層設(shè)置到氮化硅表面為第二層膜，厚度為I納米-1.1納米；
[0013]前述的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述銀膜層設(shè)置到鎳鉻表面為第三層膜，厚度為9納米-10納米；
[0014]前述的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述鎳鉻膜層設(shè)置到銀表面為第四層膜，厚度為I納米-1.1納米
[0015]前述的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述氮化硅膜層設(shè)置到鎳鉻表面為第五層膜，厚度為42納米-50納米。
[0016]本實用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點和有益效果。由以上可知，為達到上述目的，本實用新型提供了一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，包括:玻璃基片、氮化硅膜層、鎳鉻膜層、銀膜層、鎳鉻膜層、氮化硅膜層；其中在所述玻璃基片上依次設(shè)置有所述氮化硅膜層、所述鎳鉻膜層、所述銀膜層、所述鎳鉻膜層、所述氮化硅膜層；本實用新型的目的是提供一種含有五層薄膜結(jié)構(gòu)的耐高溫單銀低輻射鍍膜玻璃提高透光率的方法，在現(xiàn)有設(shè)備基礎(chǔ)上，控制膜層的厚度，既有效保護受熱過程中的銀層不受氧化，又要有效調(diào)節(jié)最終產(chǎn)品的透光率高于70%，能耐630°C左右高溫，且能阻擋外界氧氣、玻璃內(nèi)的鈉離子等對銀層侵蝕的膜層組合。本實用新型的目的可采用如下技術(shù)方案來實現(xiàn):首先采購新鮮的浮法玻璃基片，玻璃基片在工廠鍍膜機上依次鍍上氮化硅膜層、鎳鉻膜層、銀膜層、鎳鉻膜層、氮化硅膜層，構(gòu)成一種由五層膜結(jié)構(gòu)組成的單銀低輻射鍍膜玻璃。精準(zhǔn)控制銀膜厚度，準(zhǔn)確控制第二、四層鎳鉻膜層的厚度，保證成品耐高溫的同時有效提高可見光的透光率。
[0017]本實用新型借由上述技術(shù)方案，本實用新型一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃至少具有下列優(yōu)點及有益效果:該產(chǎn)品具有高透光率、耐高溫和輻射率低的優(yōu)點。
[0018]上述說明僅是本實用新型技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本實用新型的技術(shù)手段，而可依照說明書的內(nèi)容予以實施，并且為了讓本實用新型的上述和其他目的、特征和優(yōu)點能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實施例，并配合附圖，詳細(xì)說明如下。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0019]圖1為本實用新型一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0020]1:玻璃基片 2:氮化硅膜層
[0021]3:鎳鉻膜層 4:銀膜層
[0022]5:鎳鉻膜層 6:氮化硅膜層【具體實施方式】
[0023]為更進一步闡述本實用新型為達成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及功效，以下結(jié)合附圖及較佳實施例，對依據(jù)本實用新型提出的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃其【具體實施方式】、結(jié)構(gòu)、特征及其功效，詳細(xì)說明如后。
[0024]請參閱圖1所示，圖1為本實用新型一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0025]本實用新型提供了本實用新型一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，包括:玻璃基片
1、氮化硅膜層2、鎳鉻膜層3、銀膜層4、鎳鉻膜層5、氮化硅膜層6 ；
[0026]其中:在所述玻璃基片I上依次設(shè)置有所述氮化硅膜層2、所述鎳鉻膜層3、所述銀膜層4、所述鎳鉻膜層5、所述氮化硅膜層6。
[0027]本實用新型提供的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，在應(yīng)用時:
[0028]本實用新型是在高真空環(huán)境下，用磁控濺射鍍膜機在浮法玻璃表面上鍍制五層納米材料膜的方法，生產(chǎn)一種具有高透光率、耐高溫、包含有一個銀層的低福射鍍膜玻璃。
[0029]所述的高透光率的耐高溫低輻射鍍膜玻璃是在工廠鍍膜機設(shè)備上按如下方法完成:首先鍍膜室抽真空至本底真空度5X10 - 4Pa以下，充入工藝氣體(氬氣、氮氣、氧氣)，使鍍膜室內(nèi)工藝氣體壓力穩(wěn)定在2.5X10 -1Pa左右，接通濺射電源，靶材開始濺射，玻璃經(jīng)清洗機清洗合格后進入真空室，經(jīng)過靶材時，靶材原子或其化合物就會沉積到玻璃表面。
[0030]第一個祀祀材為非金屬娃，工藝氣體為氮氣，將氮化娃薄膜沉積到玻璃表面為第一層膜，厚度39納米至40納米；第二個靶靶材為鎳鉻合金，工藝氣體為氬氣，將鎳鉻薄膜沉積到氮化硅表面為第二層膜，厚度I納米至1.1納米；第三個靶靶材為金屬銀，工藝氣體為氬氣，將銀薄膜沉積到鎳鉻表面為第三層膜，厚度9納米至10納米；第四個靶靶材為鎳鉻合金，工藝氣體為氬氣，將鎳鉻薄膜沉積到銀表面為第四層膜，厚度I納米至1.1納米；第五個靶靶材為硅，工藝氣體為氮氣，將氮化硅薄膜沉積到鎳鉻表面為第五層膜，厚度42納米至50納米。
[0031]第二、四層鎳鉻層總厚度對整個膜系的透光率和顏色會產(chǎn)生影響，第二、四層鎳鉻和第三層銀的膜厚的埃米級變化會引起膜系透光率的變化。增厚I納米銀層厚度對透光率的影響基本可通過減薄0.25納米鎳鉻層厚度來補償。因此，保證銀層厚度，減小第二、四層鎳鉻層膜厚，可以有效提高透光率。
[0032]以上所述，僅是本實用新型的較佳實施例而已，并非對本實用新型作任何形式上的限制，雖然本實用新型已以較佳實施例揭露如上，然而并非用以限定本實用新型，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員，在不脫離本實用新型技術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動或修飾為等同變化的等效實施例，但凡是未脫離本實用新型技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本實用新型的技術(shù)實質(zhì)對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本實用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特征在于包括:玻璃基片(I)、氮化硅膜層(2)、鎳鉻膜層(3)、銀膜層(4)、鎳鉻膜層(5)、氮化硅膜層(6);其中: 在所述玻璃基片(I)上依次設(shè)置有所述氮化硅膜層(2)、所述鎳鉻膜層(3)、所述銀膜層(4 )、所述鎳鉻膜層(5 )、所述氮化硅膜層(6 )。
2.如權(quán)利要求1所述的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述氮化硅膜層設(shè)置到玻璃表面為第一層膜，厚度為39納米-40納米。
3.如權(quán)利要求1所述的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述鎳鉻膜層設(shè)置到氮化硅表面為第二層膜，厚度為I納米-1.1納米。
4.如權(quán)利要求1所述的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述銀膜層設(shè)置到鎳鉻表面為第三層膜，厚度為9納米-10納米。
5.如權(quán)利要求1所述的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述鎳鉻膜層設(shè)置到銀表面為第四層膜，厚度為I納米-1.1納米。
6.如權(quán)利要求1所述的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述氮化硅膜層設(shè)置到鎳鉻表面為第五層膜，厚度為42納米-50納米。
【文檔編號】B32B17/06GK203472228SQ201320550447
【公開日】2014年3月12日 申請日期:2013年9月5日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月5日
【發(fā)明者】董明, 孟怡敏, 白留森, 孫震, 潘其真 申請人:洛陽新晶潤工程玻璃有限公司