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一種高透光率的耐高溫低輻射鍍膜玻璃的制作方法

文檔序號:2449727閱讀:352來源:國知局
一種高透光率的耐高溫低輻射鍍膜玻璃的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型是有關(guān)于一種高透光率的耐高溫低輻射鍍膜玻璃,其具有玻璃基片,在所述玻璃基片表面從底層向上依次設(shè)置有第一氮化硅膜層、第一鎳鉻膜層,銀膜層,第二鎳鉻膜層及第二氮化硅膜層;其中所述的第一氮化硅膜層的厚度為39-40納米;所述的第一鎳鉻膜層的厚度為1-1.1納米;所述的銀膜層的厚度為9-10納米;所述的第二鎳鉻膜層的厚度為1-1.1納米;所述的第二氮化硅膜層的厚度為42-57納米。本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案具有高透光率、耐高溫和輻射率低的優(yōu)點(diǎn)。
【專利說明】一種高透光率的耐高溫低輻射鍍膜玻璃
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種鍍膜玻璃,特別是涉及一種含有五層膜結(jié)構(gòu)的高透光率、耐高溫單銀低輻射鍍膜玻璃。
【背景技術(shù)】
[0002]低輻射鍍膜玻璃是指在浮法玻璃表面沉積一層金屬銀作為功能層,對太陽光中的近紅外線和生活環(huán)境中的遠(yuǎn)紅外線起反射作用,從而降低玻璃對紅外線的吸收和輻射率,所以稱之為低輻射鍍膜玻璃。此種玻璃既可用于家庭窗戶,也可用于商店、寫字樓和高檔賓館的玻璃幕墻及其它需要的場所。
[0003]高透光率低輻射鍍膜玻璃較一般的低輻射鍍膜玻璃具有較高的可見光透光率,外觀效果通透性好,室內(nèi)采光自然,而且具有很高的隔熱性能。在寒冷地區(qū),冬季時間長,氣溫低,室內(nèi)的熱量向室外更低的氣溫環(huán)境失散。冬天太陽熱輻射透過玻璃進(jìn)入室內(nèi),以此來增加室內(nèi)的熱能,而室內(nèi)的暖氣、家電、人體等發(fā)出的遠(yuǎn)紅外被阻隔反射回室內(nèi),有效降低了暖氣的能耗。制作成中空玻璃的高透光率低輻射鍍膜玻璃具有更優(yōu)良的節(jié)能效果,是目前公認(rèn)的最佳節(jié)能建筑用玻璃,具有廣闊的市場發(fā)展空間。
[0004]現(xiàn)在市場上已經(jīng)有很多高透光率低輻射鍍膜玻璃,有單銀低輻射鍍膜玻璃,也有雙銀和三銀低輻射鍍膜玻璃。但是一般的低輻射鍍膜玻璃生產(chǎn)出來后,不能再進(jìn)行鋼化或熱彎處理,否則銀層會被氧化或侵蝕,從而限制了鍍膜玻璃的使用范圍,尤其是在某些有造型設(shè)計的工程訂單中。而現(xiàn)在可鋼化的低輻射鍍膜玻璃通過工藝的改進(jìn),能夠做到鍍膜后可再進(jìn)行切、磨、洗、鋼化或熱彎、中空等工序,這樣就能得到更大的發(fā)揮,從根本上解決了異地加工的難題,給客戶降低了成本也為公司創(chuàng)造了更多的利潤。因此,目前市場上缺乏一種高透光率、耐高溫單銀低輻射鍍膜玻璃產(chǎn)品。
[0005]有鑒于上述現(xiàn)有的鍍膜玻璃存在的缺陷,本實(shí)用新型人基于從事此類產(chǎn)品設(shè)計制造多年豐富的實(shí)務(wù)經(jīng)驗(yàn)及專業(yè)知識,并配合學(xué)理的運(yùn)用,積極加以研究創(chuàng)新,以期創(chuàng)設(shè)一種新型的高透光率的耐高溫低輻射鍍膜玻璃,能夠改進(jìn)一般現(xiàn)有的低輻射鍍膜玻璃,使其更具有實(shí)用性。經(jīng)過不斷的研究、設(shè)計,并經(jīng)過反復(fù)試作樣品及改進(jìn)后,終于創(chuàng)設(shè)出確具實(shí)用價值的本實(shí)用新型。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本實(shí)用新型目的在于,克服現(xiàn)有的高透光率低輻射鍍膜玻璃存在的缺陷,而提供一種含有五層薄膜結(jié)構(gòu)的高透光率、耐高溫的單銀低輻射鍍膜玻璃,所要解決的技術(shù)問題是在現(xiàn)有設(shè)備基礎(chǔ)上,控制膜層的厚度,既有效保護(hù)受熱過程中的銀層不受氧化,又要有效調(diào)節(jié)最終產(chǎn)品的透光率高于70%,能耐630°C左右高溫,且能阻擋外界氧氣、玻璃內(nèi)的鈉離子等對銀層侵蝕的膜層組合,從而更加適于實(shí)用。
[0007]本實(shí)用新型首先采購新鮮的浮法玻璃基片,玻璃基片在工廠鍍膜機(jī)上依次鍍上第一氮化娃膜層、第一鎳鉻膜層、銀膜層、第二鎳鉻膜層、第二氮化娃膜層,構(gòu)成一種由五層膜結(jié)構(gòu)組成的單銀低輻射鍍膜玻璃。
[0008]精準(zhǔn)控制銀膜層的厚度,合理控制第一鎳鉻膜層和第二鎳鉻膜層的厚度,保證成品耐聞溫的同時有效提聞可見光的透光率。
[0009]本實(shí)用新型的目的及解決其技術(shù)問題是采用以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)的。依據(jù)本實(shí)用新型提出的一種高透光率的耐高溫低輻射鍍膜玻璃,其具有玻璃基片,在所述玻璃基片表面從底層向上依次設(shè)置有第一氮化硅膜層、第一鎳鉻膜層,銀膜層,第二鎳鉻膜層及第二氮化娃膜層。
[0010]本實(shí)用新型的目的及解決其技術(shù)問題還可采用以下技術(shù)措施進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)。
[0011]前述的高透光率的耐高溫低輻射鍍膜玻璃,其中所述的第一氮化硅膜層的厚度為39-40納米;所述的第一鎳鉻膜層的厚度為1-1.1納米;所述的銀膜層的厚度為9-10納米;所述的第二鎳鉻膜層的厚度為1-1.1納米;所述的第二氮化硅膜層的厚度為42-57納米。
[0012]借由上述技術(shù)方案,本實(shí)用新型一種高透光率的耐高溫低輻射鍍膜玻璃至少具有高透光率、耐高溫和輻射率低的優(yōu)點(diǎn)。
[0013]上述說明僅是本實(shí)用新型技術(shù)方案的概述,為了能夠更清楚了解本實(shí)用新型的技術(shù)手段,而可依照說明書的內(nèi)容予以實(shí)施,并且為了讓本實(shí)用新型的上述和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更明顯易懂,以下特舉較佳實(shí)施例,并配合附圖,詳細(xì)說明如下。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0014]圖1為本實(shí)用新型高透光率的耐高溫低輻射鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015]【主要元件符號說明】
[0016]1:玻璃基片 2:第一氮化娃膜層
[0017]3:第一鎳鉻膜層4:銀膜層
[0018]5:第二鎳鉻膜層6:第二氮化硅膜層
【具體實(shí)施方式】
[0019]為更進(jìn)一步闡述本實(shí)用新型為達(dá)成預(yù)定實(shí)用新型目的所采取的技術(shù)手段及功效,以下結(jié)合附圖及較佳實(shí)施例,對依據(jù)本實(shí)用新型提出的一種高透光率的耐高溫低輻射鍍膜玻璃其【具體實(shí)施方式】、結(jié)構(gòu)、特征及其功效,詳細(xì)說明如后。
[0020]如圖1所示:本實(shí)用新型高透光率的耐高溫低輻射鍍膜玻璃具有玻璃基片1,在玻璃基片表面從底層向上依次鍍制第一氮化硅膜層2,第一鎳鉻膜層3,銀膜層4,第二鎳鉻膜
5,第二氮化娃膜層6,從而構(gòu)成五層膜結(jié)構(gòu)的單銀低福射鍍膜玻璃。
[0021]在一實(shí)施例中,本實(shí)用新型是在高真空環(huán)境下,用磁控濺射鍍膜機(jī)在浮法玻璃表面上鍍制五層納米材料膜的方法,生產(chǎn)一種具有高透光率、耐高溫、包含有一個銀層的低輻射鍍膜玻璃。
[0022]在一實(shí)施例中,本實(shí)用新型所述的高透光率的耐高溫低輻射鍍膜玻璃是在工廠鍍膜機(jī)設(shè)備上按如下方法完成:首先鍍膜室抽真空至本底真空度5X10 _ 4Pa以下,充入工藝氣體(氬氣、氮?dú)狻⒀鯕?,使鍍膜室內(nèi)工藝氣體壓力穩(wěn)定在2.5X10 ' 1Pa左右,接通濺射電源,靶材開始濺射,玻璃經(jīng)清洗機(jī)清洗合格后進(jìn)入真空室,經(jīng)過靶材時,靶材原子或其化合物就會沉積到玻璃表面。[0023]第一個祀祀材為非金屬娃,工藝氣體為氮?dú)?,將氮化娃薄膜沉積到玻璃表面為第一氮化硅膜層2,厚度39至40納米;第二個靶靶材為鎳鉻合金,工藝氣體為氬氣,將鎳鉻薄膜沉積到氮化硅表面為第一鎳鉻膜層3,厚度I至1.1納米;第三個靶靶材為金屬銀,工藝氣體為氬氣,將銀薄膜沉積到鎳鉻表面為銀膜層4,厚度9至10納米;第四個靶靶材為鎳鉻合金,工藝氣體為氬氣,將鎳鉻薄膜沉積到銀表面為第二鎳鉻膜5,厚度I至1.1納米;第五個靶靶材為硅,工藝氣體為氮?dú)?,將氮化硅薄膜沉積到鎳鉻表面為第二氮化硅膜6,厚度42至57納米。第一鎳鉻層2和第二鎳鉻層5的總厚度對整個膜系的透光率和顏色會產(chǎn)生影響,第一鎳鉻層2、第二鎳鉻層5和銀膜層4的膜厚的埃米級變化會引起膜系透光率的變化。增厚I納米銀膜層4的厚度對透光率的影響基本可通過減薄0.25納米鎳鉻層厚度來補(bǔ)償。調(diào)整銀膜層4上下的鎳鉻層膜厚,可以保持透光率和顏色基本不變。
[0024]以上所述,僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已,并非對本實(shí)用新型做任何形式上的限制,雖然本實(shí)用新型已以較佳實(shí)施例揭露如上,然而并非用以限定本實(shí)用新型,任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員,在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案范圍內(nèi),當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容做出些許更動或修飾為等同變化的等效實(shí)施例,但凡是未脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的內(nèi)容,依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對以上實(shí)施例所做的任何簡單修改、等同變化與修飾,均仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種高透光率的耐高溫低輻射鍍膜玻璃,其特征在于其具有玻璃基片(I),在所述玻璃基片(I)表面從底層向上依次設(shè)置有第一氮化硅膜層(2)、第一鎳鉻膜層(3),銀膜層(4),第二鎳鉻膜層(5)及第二氮化硅膜層(6)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高透光率的耐高溫低輻射鍍膜玻璃,其特征在于: 所述的第一氮化硅膜層(2)的厚度為39-40納米; 所述的第一鎳鉻膜層(3)的厚度為1-1.1納米; 所述的銀膜層(4)的厚度為9-10納米; 所述的第二鎳鉻膜層(5)的厚度為1-1.1納米; 所述的第二氮化硅膜層(6)的厚度為42-57納米。
【文檔編號】B32B9/04GK203472221SQ201320565106
【公開日】2014年3月12日 申請日期:2013年9月11日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月11日
【發(fā)明者】董明, 孟怡敏, 白留森, 孫震, 潘其真 申請人:洛陽新晶潤工程玻璃有限公司
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