基底分離裝置和方法
【專利摘要】本發(fā)明提供基底分離裝置和方法?；追蛛x裝置包括：固定上基底并在由彼此相交的X軸和Y軸組成的XY坐標(biāo)系中的正X軸方向傳送上基底的上傳送部件；以及被安裝在上傳送部件的下方且在之間具有間隙并固定和傳送下基底的下傳送部件，其中下傳送部件包括：下基底被放置在其上的下保持單元；以及包括用于引導(dǎo)下保持單元的移動的路徑引導(dǎo)件的下引導(dǎo)單元，其中路徑引導(dǎo)件包括平行于X軸的第一路徑引導(dǎo)件以及和第一路徑引導(dǎo)件連續(xù)并接觸具有在XY坐標(biāo)系中的負(fù)斜率的直線的第二路徑引導(dǎo)件。
【專利說明】基底分離裝置和方法
[0001]相關(guān)申請的交叉引用
[0002]此申請要求2013年5月31日遞交到韓國知識產(chǎn)權(quán)局的韓國專利申請第10-2013-0062721號的優(yōu)先權(quán)，其公開通過引用整體合并于此。

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0003]本發(fā)明涉及基底分離裝置和方法。

【背景技術(shù)】
[0004]具有柔性的電子設(shè)備的重要性近來不斷增加。因此，需要用于在柔性基底上實(shí)現(xiàn)有機(jī)發(fā)光顯示器(OLED)、電泳顯示器(EH))、等離子體顯示面板(PDP)、薄膜晶體管(TFT)、微處理器、隨機(jī)存取存儲器(RAM)等的各種技術(shù)。
[0005]為了在柔性基底上制造電子設(shè)備，已經(jīng)提出將柔性基底附著到由硬質(zhì)材料制成的載體基底上且然后形成該電子設(shè)備的方法。在該方法中，分離載體基底和柔性基底的過程是至關(guān)重要的。
[0006]然而，在分離載體基底和柔性基底的過程中，電子設(shè)備可能會損壞或破裂，載體基底和柔性基底可能由于在分離過程中產(chǎn)生的靜電而無法順利分離，并且當(dāng)外來物質(zhì)由于靜電附著到載體基底和柔性基底時，可能會發(fā)生污染。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]提供可以穩(wěn)定地分離上基底和柔性下基底的基底分離裝置和方法。
[0008]還提供可以通過控制基底分離過程中的靜電而最小化污染的基底分離裝置和方法。
[0009]然而，本發(fā)明的方面并不限于本文所提出的方面。通過參照下面給出的詳細(xì)描述，上述和其他方面對于相關(guān)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說將變得更明顯。
[0010]根據(jù)一個方面，提供用于分離彼此接觸的上基底和下基底的裝置。該裝置包括上傳送部件和下傳送部件,上傳送部件固定上基底并在包括彼此相交的X軸和Y軸的XY坐標(biāo)系中的正X軸方向傳送上基底，所述下傳送部件被安裝在上傳送部件的下方且在之間具有間隙并固定和傳送下基底，其中下傳送部件包括:下基底被放置在其上的下保持單元以及包括用于引導(dǎo)下保持單元的移動的路徑引導(dǎo)件的下引導(dǎo)單元，其中路徑引導(dǎo)件包括平行于X軸的第一路徑引導(dǎo)件以及和第一路徑引導(dǎo)件連續(xù)并沿具有在XY坐標(biāo)系中的負(fù)斜率的線形成的第二路徑引導(dǎo)件。線的斜率的絕對值可以是恒定的。線的斜率的絕對值可以隨著到第一路徑引導(dǎo)件的距離增大而增大。
[0011]根據(jù)另一方面，提供一種用于分離彼此接觸的上基底和下基底的裝置。該裝置包括:固定上基底的頂表面并沿直線傳送上基底的上傳送部件以及被安裝在上傳送部件的下方、固定下基底的底表面并傳送下基底的下傳送部件，其中下傳送部件包括:下基底被放置在其上的下保持單元以及包括用于引導(dǎo)下保持單元的移動的路徑引導(dǎo)件的下引導(dǎo)單元，其中路徑引導(dǎo)件包括第一路徑引導(dǎo)件和第二路徑引導(dǎo)件，第一路徑引導(dǎo)件到直線的垂直距離恒定，第二路徑引導(dǎo)件和第一路徑引導(dǎo)件連續(xù)并且第二路徑引導(dǎo)件到直線的垂直距離隨著到第一路徑引導(dǎo)件的距離增大而增大。
[0012]根據(jù)另一方面，提供一種分離彼此接觸的上基底和下基底的方法。該方法包括:固定下基底的底表面和上基底的頂表面；沿直線傳送上基底；以及在傳送上基底的同時傳送下基底，其中傳送下基底包括:沿到直線的垂直距離保持不變的第一路徑引導(dǎo)件移動下基底被放置在其上的下保持單元；以及通過沿第二路徑引導(dǎo)件移動下保持單元而分離下基底和上基底，第二路徑引導(dǎo)件和第一路徑引導(dǎo)件連續(xù)并且到直線的垂直距離隨著到第一路徑引導(dǎo)件的距離增大而增大。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]通過參照附圖詳細(xì)描述其示例實(shí)施例，上述和其他方面和特征將變得更加明顯，附圖中:
[0014]圖1是根據(jù)一個實(shí)施例的基底分離裝置的示意性剖視圖；
[0015]圖2和圖3是示出圖1所示的下傳送部件的一個實(shí)施例的示意性結(jié)構(gòu)的剖視圖；
[0016]圖4和圖5是示出圖1所示的下傳送部件的另一實(shí)施例的示意性結(jié)構(gòu)的剖視圖；
[0017]圖6是示出圖1所示的第一路徑引導(dǎo)件和第二路徑引導(dǎo)件的一個實(shí)施例的剖視圖；
[0018]圖7是示出圖1所示的第一路徑引導(dǎo)件和第二路徑引導(dǎo)件的另一實(shí)施例的剖視圖；
[0019]圖8是示出圖1所示的第一路徑引導(dǎo)件和第二路徑引導(dǎo)件的另一實(shí)施例的剖視圖；
[0020]圖9是示出圖1所示的第一路徑引導(dǎo)件和第二路徑引導(dǎo)件的另一實(shí)施例的剖視圖；
[0021]圖10是圖1所示的第一路徑引導(dǎo)件和第二路徑引導(dǎo)件的另一實(shí)施例的剖視圖；
[0022]圖11是示出圖1所示的上傳送部件的示意性結(jié)構(gòu)的透視圖；
[0023]圖12和圖13是示出圖1所示的上固定單元的一個實(shí)施例的示意性結(jié)構(gòu)的剖視圖和仰視圖；
[0024]圖14和圖15是示出圖1所示的分離器的一個實(shí)施例的示意性結(jié)構(gòu)的剖視圖和透視圖；
[0025]圖16是示出圖1所示的分離器的另一實(shí)施例的示意性結(jié)構(gòu)的透視圖；
[0026]圖17是示出根據(jù)一個實(shí)施例的分離器的操作的透視圖；
[0027]圖18是示出根據(jù)一個實(shí)施例的上固定單元和分離器的操作的示意性剖視圖；
[0028]圖19是示出根據(jù)另一實(shí)施例的上固定單元和分離器的操作的示意性剖視圖；
[0029]圖20是示出根據(jù)本公開的基底分離裝置中的根據(jù)一個實(shí)施例的輔助分離器和離子發(fā)生器的設(shè)置的示意性透視圖；和
[0030]圖21至圖23是分別示出根據(jù)一個實(shí)施例的基底分離方法的步驟和基底分離裝置的操作的剖視圖。

【具體實(shí)施方式】
[0031]通過參照示例實(shí)施例的下面詳細(xì)描述和附圖，本公開以及實(shí)現(xiàn)它們的方法的優(yōu)點(diǎn)和特征可以更容易理解。然而，本發(fā)明可以體現(xiàn)為許多不同的形式，并且不應(yīng)被解釋為限于本文所提出的實(shí)施例。在整個文件中，相同的數(shù)字指代相同的元件。在圖中，層和區(qū)域的尺寸和相對尺寸可能為了清楚而被夸大。
[0032]將理解的是，當(dāng)一個元件或?qū)颖环Q為在另一元件或?qū)印吧稀睍r，它可以直接在另一元件或?qū)由?，或者可以存在中間元件或?qū)印?br> [0033]將理解的是，雖然在本文中使用術(shù)語第一、第二、第三等來描述各種元件，但這些元件不應(yīng)該受這些術(shù)語的限制。這些術(shù)語僅用于區(qū)分一個元件和另一個元件。因此，下面討論的第一元件可以被稱為第二元件，而不脫離本公開的教導(dǎo)。
[0034]在下文中，將參照附圖描述示例實(shí)施例。
[0035]圖1是根據(jù)一個示例實(shí)施例的基底分離裝置的示意性剖視圖。
[0036]參照圖1，根據(jù)本公開的基底分離裝置被配置為將彼此接觸的下基底11和上基底13的層疊結(jié)構(gòu)10分開成分離的下基底11和上基底13。
[0037]層疊結(jié)構(gòu)10的下基底11可以是柔性的，并且可以是任何形式，只要它是柔性的。例如，下基底11可以是例如膜或片，或者可以是柔性印刷電路板(FPCB)。此外，下基底11可以包括具有柔性的電子設(shè)備。電子設(shè)備可以是例如從由有機(jī)發(fā)光顯示器(OLED)、液晶顯示器(LCD)和白色有機(jī)發(fā)光二極管(WOLED)顯示器組成的組中選擇的一種或多種顯示器。下基底11還可以包括柔性絕緣基底(例如聚酰亞胺基底)和安裝在該柔性絕緣基底上的電子設(shè)備。然而，這些僅僅是示例，已經(jīng)開發(fā)和商用或者取決于將來的技術(shù)發(fā)展可實(shí)現(xiàn)的所有柔性物體可被用作本發(fā)明的下基底11。
[0038]上基底13可以是柔性或剛性的。例如，上基底13可以是膜或片，或者可以是包括膜或片的電子設(shè)備。另外，上基底13可以是剛性載體基底或顯示器的視窗。如果為剛性，上基底13可以是，但不限于，玻璃基底、石英基底、藍(lán)寶石基底和陶瓷基底中的任意一種。
[0039]基底分離裝置可以包括下傳送部件100和被設(shè)置在下傳送部件100上并且之間有間隙的上傳送部件300，并可以進(jìn)一步包括分離器500。
[0040]下傳送部件100被配置為固定和傳送下基底11。下傳送部件100可以包括支撐被放置在其上的層疊結(jié)構(gòu)10的下基底11的底表面的下保持單元110以及引導(dǎo)下保持單元110的移動路徑的下引導(dǎo)單元190。下傳送部件100可以進(jìn)一步包括固定層疊結(jié)構(gòu)10的底表面(更具體地講，接觸并固定下基底11的底表面)的下固定單元130。下傳送部件100可以進(jìn)一步包括移動下保持單元110以傳送下基底11的下驅(qū)動單元(未示出)以及多個下連接單元150。
[0041 ] 如本文所用，正方向是由圖中所示的各軸的箭頭所指的方向，負(fù)方向是由圖中所示的各軸的箭頭所指的方向相反的方向。此外，符號“Θ”表示箭頭指向圖中的向前方向。也就是，符號“Θ”表示箭頭伸出圖。此外，符號“?”表示箭頭指向圖中的向后方向。也就是，符號“?”表示箭頭指向和符號“O”表示的方向相反的方向。盡管圖中所示的XY坐標(biāo)系以垂直相交的方式顯示X、Y和Z軸，但是垂直相交的坐標(biāo)系不是必須的，XY坐標(biāo)系可以只具有相交的X、Y和Z軸。
[0042]層疊結(jié)構(gòu)10被放置在下保持單元110上。下保持單元110可在路徑引導(dǎo)件(191、193)的引導(dǎo)下移動。下保持單元100可由下連接單元150聯(lián)接到路徑引導(dǎo)件(191、193)。下保持單元110可以包括，但不限于，多個單獨(dú)的輔助保持單元。
[0043]下連接單元150的每一個的第一側(cè)153可被固定到下保持單元110，下連接單元150的每一個的第二側(cè)151可接觸路徑引導(dǎo)件(191、193)。例如，下連接單元150的第二側(cè)151可被成形為類似輥，從而輥接觸路徑引導(dǎo)件(191、193)。然而，本公開不限于此。
[0044]也就是，下連接單元150的形狀和結(jié)構(gòu)可以根據(jù)路徑引導(dǎo)件(191、193)的形狀和結(jié)構(gòu)變化。
[0045]下固定單元130可以被安裝在下保持單元110上，以固定下基底11的底表面。為此，下固定單元130可包括，例如，一個或多個真空吸附部分(未在圖1中示出)。例如，下固定單元130可以包括被形成在下保持單元110中的多個真空孔，并真空吸附被放置在下保持單元110上的下基底11。也就是，當(dāng)下基底11被放置在下保持單元110上時，下固定單元130可通過孔吸入空氣，從而在下保持單元110和下基底11之間產(chǎn)生真空。因此，下基底11可以被固定到下保持單元110上?？商娲兀鹿潭▎卧?30可包括，例如，被形成在下保持單元110中的真空吸附墊或橡膠吸墊，真空吸附墊或橡膠吸附墊可有一定程度的彈性。也就是，已經(jīng)開發(fā)和商用或者取決于將來的技術(shù)發(fā)展可實(shí)現(xiàn)的所有吸附裝置可被用作本公開的下固定單元130。
[0046]下引導(dǎo)單元190包括引導(dǎo)下保持單元110的移動路徑的路徑引導(dǎo)件(191、193)。也就是，下保持單元110通過保持與路徑引導(dǎo)件(191、193)接觸而沿著路徑引導(dǎo)件(191、193)移動，下基底11由下固定單元130固定在下保持單元110上。因此，下基底11和下保持單元110 —起移動。
[0047]路徑引導(dǎo)件(191、193)可包括第一路徑引導(dǎo)件191和第二路徑引導(dǎo)件193。第一路徑引導(dǎo)件191可以在由箭頭C表示的方向(也就是正X軸方向)引導(dǎo)下保持單元110的移動。和第一路徑引導(dǎo)件191連續(xù)的第二路徑引導(dǎo)件193可以在由箭頭D表示的在XY坐標(biāo)系中具有負(fù)斜率的方向(也就是由正X軸方向和負(fù)Y軸方向的和表示的方向)引導(dǎo)由第一路徑引導(dǎo)件191引導(dǎo)的下保持單元110。
[0048]更具體地說，當(dāng)層疊結(jié)構(gòu)10被安裝在下保持單元110上時，下固定單元130可以將下基底11的底表面固定在下保持單元110上。然后，下驅(qū)動單元可移動下保持單元110。因此，下保持單元110可以在第一路徑引導(dǎo)件191的引導(dǎo)下在箭頭C所表示的方向上被傳送，然后在第二路徑引導(dǎo)件193的引導(dǎo)下在箭頭D所表示的方向上被傳送。
[0049]對于路徑引導(dǎo)件(191、193)的類型沒有限制。例如，路徑引導(dǎo)件(191、193)的每一個可以包括引導(dǎo)槽、引導(dǎo)孔和引導(dǎo)軌中的任意一種或它們的組合。然而，本公開不限于此。也就是，已經(jīng)開發(fā)和商用或者取決于將來的技術(shù)發(fā)展可實(shí)現(xiàn)的所有類型的引導(dǎo)件可被應(yīng)用到本公開的路徑引導(dǎo)件(191、193)。
[0050]第一路徑引導(dǎo)件191和第二路徑引導(dǎo)件193的具體形狀將在后面描述。
[0051]上傳送部件300被配置為固定和傳送上基底13。上傳送部件300可包括上基底13被放置在其上的上保持單元310、被設(shè)置在上保持單元310的下部中以固定上基底13的頂表面的上固定單元330以及移動上保持單元310以傳送上基底13的上驅(qū)動單元(未示出)。
[0052]上保持單元310可形成用于傳送上基底13的部件的外部。上保持單元310的尺寸和形狀可根據(jù)上基底13的尺寸和形狀進(jìn)行設(shè)計(jì)。
[0053]上固定單元330可以被設(shè)置在上保持單元310的下部中，以固定上基底13，并且可以包括真空吸附部分。
[0054]當(dāng)層疊結(jié)構(gòu)10被設(shè)置在下傳送部件100上時，上驅(qū)動單元可在箭頭A表示的方向(也就是負(fù)Y軸方向)移動上保持單元310。因此，上固定單元330可固定上基底13的頂表面。然后，上驅(qū)動單元可以通過在箭頭B表示的方向(也就是正X軸方向)移動上保持單元310來傳送上基底13。為了在箭頭A表示的方向上引導(dǎo)上保持單元310的移動，可以進(jìn)一步安裝上引導(dǎo)單元390。
[0055]在第一區(qū)域PAl中，上基底13和下基底11可以以相同的速度移動。這里，術(shù)語“速度”表示包括方向分量和幅度分量的矢量值。也就是，上基底13在第一區(qū)域PAl中行進(jìn)的距離和方向可以和下基底11在第一區(qū)域PAl中行進(jìn)的距離和方向相同。換句話說，在第一區(qū)域PAl中，以上基底13和下基底11彼此接觸并且上基底13的頂表面由上固定單元330固定以及下基底11的底表面由下固定單元130固定的狀態(tài),層疊結(jié)構(gòu)10可以沿著正X軸方向被傳送。也就是，第一區(qū)域PAl可以被定義為其中沒有物理上彼此分離的上基底13和下基底11在同一方向被同時傳送的區(qū)域?？商娲兀谝粎^(qū)域PAl可以被定義為對應(yīng)于第一路徑引導(dǎo)件191的位置的區(qū)域。
[0056]在第二區(qū)域PA2中，上基底13和下基底11可以以不同的速度移動。更具體地說，上基底13的移動速度的Y軸方向分量可以和下基底11的移動速度的Y軸方向分量不同。例如，在第二區(qū)域PA2中上基底13的移動速度的Y軸方向分量可大致為零，在第二區(qū)域PA2中下基底11的移動速度的Y軸方向分量可具有負(fù)值。因此，上基底13和下基底11可以在第二區(qū)域PA2中逐漸彼此分離。在第二區(qū)域PA2中上基底13的移動速度的X軸方向分量可以和第二區(qū)域PA2中下基底11的移動速度的X軸方向分量相同或不同。
[0057]也就是，第二區(qū)域PA2可以被定義為上基底13和下基底11隨著它們在Y軸方向相對于彼此移動而彼此分離的區(qū)域?？商娲?，第二區(qū)域PA2可以被定義為對應(yīng)于第二路徑引導(dǎo)件193的位置的區(qū)域。因?yàn)檫M(jìn)入第二區(qū)域PA2的下基底11和上基底13從它們之間的邊界逐漸彼此分離，因此它們可以被穩(wěn)定地分離，同時最小化施加到下基底11或上基底13的應(yīng)力，并且分離速度可被調(diào)節(jié)。此外，可以防止在基底分離過程中接觸下基底11的頂表面，從而防止在分離過程中下基底11的頂表面被污染。
[0058]為了利于下基底11和上基底13的分離，基底分離裝置可進(jìn)一步包括分離器500。
[0059]分離器500可以包括例如具有帶有鋒利邊緣的刃的刀510。刀510可以沿與X軸和Y軸相交的Z軸的方向部分分離彼此接觸的下基底11和上基底13。也就是，分離器500可以初始分離下基底11和上基底13。使用刀510分離上基底13和下基底11的過程可在層疊結(jié)構(gòu)10進(jìn)入第二區(qū)域PA2之前進(jìn)行，也就是，在具有被放置在其上的下基底11的下保持單元110由第一路徑引導(dǎo)件191引導(dǎo)時進(jìn)行。
[0060]換句話說，彼此接觸的下基底11和上基底13可以由分離器500的刀510沿Z軸方向部分分離，在被刀510部分分離之后，層疊結(jié)構(gòu)10可以被傳送到第二區(qū)域PA2。因此，下基底11和上基底13可以在第二區(qū)域PA2中更容易地被分離。
[0061]為了利于使用刀510部分分離下基底11和上基底13的過程，層疊結(jié)構(gòu)10可以在進(jìn)入第二區(qū)域PA2之前停止。然后，可以在層疊結(jié)構(gòu)10靜止時使用刀510執(zhí)行部分分離下基底11和上基底13的過程。
[0062]圖2和圖3是示出圖1所示的下傳送部件100的一個實(shí)施例的示意性結(jié)構(gòu)的剖視圖。
[0063]參照圖2和圖3，下保持單元110(參見圖1)可以由彼此分開的多個輔助保持單元IlOa至IlOc以及彼此分開并可以被分別安裝在輔助保持單元IlOa至IlOc上的多個下固定單元130a至130c組成。下固定單元130a至130c可以被形成為，但不限于，真空孔、真空吸附墊或橡膠吸附墊的形式。
[0064]輔助保持單元IlOa至IlOc可由下連接單元150分別連接到路徑引導(dǎo)件(191、193)。
[0065]因此，如圖2所示，當(dāng)輔助保持單元IlOa至IlOc由基本上平行于X軸的第一路徑引導(dǎo)件191引導(dǎo)時，輔助保持單元IlOa至IlOc的頂表面不會在其間形成臺階，而是在同一平面上對齊，并形成平坦表面。
[0066]如圖3所示，當(dāng)輔助保持單元IlOa至IlOc由第二路徑引導(dǎo)件193引導(dǎo)時，因?yàn)橛傻诙窂揭龑?dǎo)件193形成的路徑的方向在XY坐標(biāo)系中具有負(fù)斜率，輔助保持單元IlOa至IlOc的頂表面可以位于不同的平面上。也就是，因?yàn)橄卤３謫卧?10 (參見圖1)包括彼此分開的輔助保持單元IlOa至IlOc并且輔助保持單元IlOa至IlOc在第二路徑引導(dǎo)件193的引導(dǎo)下移動，由于第二路徑引導(dǎo)件193的引導(dǎo)，輔助保持單元IlOa至IlOc的頂表面可以在其間形成臺階。因此，隨著下保持單元110 (參見圖1)沿第二路徑引導(dǎo)件193移動，臺階(由輔助保持單元IlOa至IlOc的頂表面形成)可被反映在下基底11 (參見圖1)中。因此，下基底11 (參見圖1)與上基底13 (參見圖1)可以逐漸彼此分離。輔助保持單元IlOa至IlOc可以具有相等或不同的寬度。
[0067]在一個示例中，圖中所示的三個輔助保持單元IlOa至I1c可以被定義為第一輔助保持單元110a、第二輔助保持單元IlOb和第三輔助保持單元110c。在這種情況下，第一輔助保持單元I 1a的寬度Wl、第二輔助保持單元I 1b的寬度W2和第三輔助保持單元I 1c的寬度W3可以相等或不同。例如，輔助保持單元IlOa至IlOc的各自寬度Wl至W3可以具有如Wl = W2 = W3、Wl = W2>W3、W1>W2>W3和W1>W2 = W3的各種關(guān)系。也就是,對輔助保持單元IlOa至IlOc的寬度Wl至W3間的關(guān)系沒有限制。
[0068]在圖3中，下保持單元110 (參見圖1)包括三個單獨(dú)的輔助保持單元I1a至110c。然而，這僅僅是示例。也就是，對構(gòu)成下保持單元110(參見圖1)的輔助保持單元的數(shù)目沒有限制。為了便于描述，將保持單元110(參見圖1)包括三個單獨(dú)的輔助保持單元IlOa至IlOc的情況作為示例進(jìn)行描述。
[0069]圖4和圖5是示出圖1所示的下傳送部件100的另一實(shí)施例的示意性結(jié)構(gòu)的剖視圖。
[0070]參照圖4和圖5，下保持單元110(參見圖1)可以由彼此分開的多個輔助保持單元IlOa至IlOc組成，被形成為單件的下固定單元130可被安裝在輔助保持單元IlOa至IlOc上。下輔助保持單元IlOa至IlOc可以由下連接單元150分別連接到路徑引導(dǎo)件190 (參見圖1)。也就是，根據(jù)當(dāng)前實(shí)施例的下傳送部件與圖2和圖3的下傳送部件部分不同在于被安裝在輔助保持單元IlOa至IlOc上的下固定單元130被形成為單件。下固定單元130可以是真空吸附墊或橡膠吸附墊，并且可以具有彈性。
[0071]因此，如圖4所示，當(dāng)輔助保持單元IlOa至IlOc由基本上平行于X軸的第一路徑引導(dǎo)件191引導(dǎo)時，輔助保持單元IlOa至IlOc的頂表面不會在其間形成臺階，而是形成平坦表面。
[0072]另外，如圖5所示，當(dāng)輔助保持單元IlOa至IlOc由第二路徑引導(dǎo)件193引導(dǎo)時，輔助保持單元IlOa至IlOc的頂表面可以在其間形成臺階。如圖5所示，輔助保持單元IlOa至IlOc中的一些(IlOaUlOb)的由臺階露出的側(cè)表面可用彈性下固定單元130覆蓋。
[0073]因此，隨著下保持單元110 (參見圖1)沿第二路徑引導(dǎo)件193移動，臺階(由輔助保持單元IlOa至IlOc的頂表面形成)可被反映在下基底11 (參見圖1)中。因此，下基底11 (參見圖1)與上基底13 (參見圖1)可以逐漸彼此分離。此外，彈性下固定單元130可以最小化下基底11 (參見圖1)中陡峭臺階的形成。
[0074]圖6是示出圖1所示的第一路徑引導(dǎo)件191和第二路徑引導(dǎo)件193的一個實(shí)施例的剖視圖。更具體地說，圖6是示意性地示出第一路徑引導(dǎo)件191和第二路徑引導(dǎo)件193的如上面參照圖1所描述的接觸下連接單元150的第二側(cè)151的部分的剖視圖。
[0075]參照圖6，根據(jù)當(dāng)前實(shí)施例的第一路徑引導(dǎo)件191可以平行于X軸。例如，第一路徑引導(dǎo)件191的接觸下連接單元150的第二側(cè)151的表面(在下文中稱為“第一路徑引導(dǎo)件表面”191a)可以平行于X軸。由第一路徑引導(dǎo)件191引導(dǎo)的下保持單元110 (參見圖1)和由下固定單元130固定到下保持單元110的下基底11 (參見圖1)可以在正X軸方向被傳送。第二路徑引導(dǎo)件193和第一路徑引導(dǎo)件191連續(xù)，由第二路徑引導(dǎo)件193引導(dǎo)的下保持單元110(參見圖1)在負(fù)Y軸方向以及正X軸方向上移動。也就是，由第二路徑引導(dǎo)件193引導(dǎo)的下保持單元110 (參見圖1)在具有XY坐標(biāo)系中的負(fù)斜率的方向被傳送。
[0076]第二路徑引導(dǎo)件193的接觸下連接單元150的第二側(cè)151的表面(在下文中稱為“第二路徑引導(dǎo)件表面”193a)可以沿具有負(fù)斜率的直線LI形成。直線LI的斜率可以是恒定的。例如，假設(shè)第一路徑引導(dǎo)件191和第二路徑引導(dǎo)件193之間的邊界的接觸下連接單元150(參見圖1)的第二側(cè)151的部分，也就是，第一路徑引導(dǎo)件表面191a和第二路徑引導(dǎo)件表面193a的交點(diǎn)，是XY坐標(biāo)系的原點(diǎn)P，原點(diǎn)P可具有坐標(biāo)值(0，0)。此外，第二路徑引導(dǎo)件表面193a的第一位置P1、第二位置P2、第三位置P3可分別具有坐標(biāo)值(xl，_yl)、(x2，-y2)和(x3，-y3)，其中xn和yn具有正實(shí)數(shù)的值，η是正整數(shù)。這里，接觸第一位置Pl的直線的斜率、接觸第二位置Ρ2的直線的斜率和接觸第三位置Ρ3的直線的斜率可以相等。也就是，投影到XY坐標(biāo)系上的第一位置Pl、第二位置Ρ2和第三位置Ρ3可以位于XY坐標(biāo)系中的同一直線LI上。換句話說，由第二路徑引導(dǎo)件193或第二路徑引導(dǎo)件表面193a形成的弓I導(dǎo)路徑可以是XY坐標(biāo)系中的直線的形式。
[0077]由XY坐標(biāo)系中的直線LI和正X軸形成的銳角α I可以，例如，在大于O至45度的范圍內(nèi)。也就是，由第二路徑引導(dǎo)件表面193a和第一路徑引導(dǎo)件表面191a形成的角度可以在大于135至小于180度的范圍內(nèi)。然而，這僅僅是示例，由第一路徑引導(dǎo)件191和第二路徑引導(dǎo)件193形成的角度或者由第一路徑引導(dǎo)件表面191a和第二路徑引導(dǎo)件表面193a形成的角度可根據(jù)需要改變。
[0078]圖7是示出圖1所示的第一路徑引導(dǎo)件191和第二路徑引導(dǎo)件193的另一實(shí)施例的剖視圖。除了第二路徑引導(dǎo)件193的形狀，圖7所示的結(jié)構(gòu)和圖6所示的結(jié)構(gòu)相同。
[0079]參照圖7，接觸下連接單元150的第二側(cè)151 (參見圖6)的第二路徑引導(dǎo)件表面193a可沿著接觸具有負(fù)斜率的直線L2、L3和L4的曲線形成。直線L2、L3和L4的斜率可以隨著到第一路徑引導(dǎo)件191 (參見圖6)或第一路徑導(dǎo)引表面191a的距離增大而增大。例如，假設(shè)第一路徑引導(dǎo)件表面191a和第二路徑引導(dǎo)件表面193a的交點(diǎn)是XY坐標(biāo)系的原點(diǎn)P，原點(diǎn)P可具有坐標(biāo)值(0，0)。此外，第二路徑引導(dǎo)件表面193a上的第四位置P4、第五位置P5和第六位置P6可以分別具有坐標(biāo)值(x4，-y4)、(x5，-y5)和(x6，-y6)。這里，接觸第四位置P4的直線L2的斜率可以大于接觸第五位置P5的直線L3的斜率，接觸第五位置P5的直線L3的斜率可以大于接觸第六位置P6的直線L4的斜率。也就是，由正X軸和分別接觸第四位置P4、第五位置P5和第六位置P6的直線L2、L3和L4形成的銳角α 2、α 3和α 4可以隨著到第一路徑引導(dǎo)件191的距離增大而增大，銳角α2、α3和α4之間的關(guān)系可以是α2〈α3〈α4。總地來說，每個直線的斜率的絕對值可以隨著到第一路徑引導(dǎo)件191 (參見圖6)或第一路徑引導(dǎo)件表面191a的距離增大而增大。
[0080]在當(dāng)前實(shí)施例中，由第二路徑引導(dǎo)件193或第二路徑導(dǎo)向表面193a形成的引導(dǎo)路徑可以是其在XY坐標(biāo)系中的曲率的中心位于圖的下部(未示出)的曲線的形式。
[0081]圖8是示出圖1所示的第一路徑引導(dǎo)件191和第二路徑引導(dǎo)件193的另一實(shí)施例的剖視圖。
[0082]參照圖8，根據(jù)當(dāng)前實(shí)施例的第二路徑引導(dǎo)件表面193a的第一側(cè)193b可以和第一路徑引導(dǎo)件表面191a連續(xù)，其第二側(cè)193c可以位于比第一路徑引導(dǎo)件表面191a更低的位置。第一路徑引導(dǎo)件表面191a和第二路徑引導(dǎo)件表面193a的之間的臺階或高度差可以從第二路徑引導(dǎo)件表面193a的第一側(cè)193b向第二側(cè)193c逐漸增大。也就是，第二路徑引導(dǎo)件表面193a可以在從第一側(cè)193b向第二側(cè)193c的方向上形成傾斜表面。因此，第二路徑引導(dǎo)件可形成向下傾斜的弓I導(dǎo)路徑。
[0083]在當(dāng)前實(shí)施例中，第一路徑引導(dǎo)件表面191a和第二路徑引導(dǎo)件表面193a之間的高度差可以從第二路徑引導(dǎo)件表面193a的第一側(cè)193b向第二側(cè)193c以恒定的比率增大。例如，假設(shè)第一路徑引導(dǎo)件表面191a和第二路徑引導(dǎo)件表面193a的邊界是XY坐標(biāo)系的原點(diǎn)P，原點(diǎn)P可具有坐標(biāo)值(0，0)。此外，第二路徑引導(dǎo)件表面193a上的第七位置P7、第八位置P8和第九位置P9可以分別具有坐標(biāo)值(x7, -y7)、(x8, -y8)和(x9, -y9)。這里，y7/X7 = y8/x8 = y9/x9 或(y8-y7)/ (x8_x7) = (y9-y8) / (x9_x8)。也就是，第一路徑引導(dǎo)件表面191a和第二路徑引導(dǎo)件表面193a之間的高度差隨著到第一路徑引導(dǎo)件表面191a的距離增大而以恒定的比率增大。因此，第二路徑引導(dǎo)件表面193a可在從第一側(cè)193b向第二側(cè)193c的方向上形成傾斜的引導(dǎo)路徑。
[0084]圖9是示出圖1所示的第一路徑引導(dǎo)件191和第二路徑引導(dǎo)件193的另一實(shí)施例的剖視圖。除了第二路徑引導(dǎo)件193，圖9所示的結(jié)構(gòu)和圖8所示的結(jié)構(gòu)相同。
[0085]參照圖9，在當(dāng)前實(shí)施例中，第一路徑引導(dǎo)件表面191a和第二路徑引導(dǎo)件表面193a之間的高度差的增大比率可以從第二路徑引導(dǎo)件表面193a的第一側(cè)193b向第二側(cè)193c增大。例如，假設(shè)第一路徑引導(dǎo)件表面191a和第二路徑引導(dǎo)件表面193a之間的邊界是XY坐標(biāo)系的原點(diǎn)P，原點(diǎn)P可具有坐標(biāo)值(0，0)。此外，第二路徑引導(dǎo)件表面193a上的第十位置P10、第i^一位置Pll和第十二位置P12可以分別具有坐標(biāo)值(xlO，-ylO)、(xll，-yll)和(xl2, -yl2) ο 這里，yl0/xl0〈yll/xll〈yl2/xl2 或(yll - ylO) / (xll - xlO) < (yl2 - yll) /(xl2 - xll)。也就是，第一路徑引導(dǎo)件表面191a和第二路徑引導(dǎo)件表面193a之間的高度差隨著在正X軸方向上到第一路徑引導(dǎo)件表面191a的距離增大而增大。并且,高度差的增大比率隨著到第一路徑引導(dǎo)件表面191a的距離增大而增大。因此，由第二路徑引導(dǎo)件193 (參見圖1)形成的引導(dǎo)路徑可以是其在XY坐標(biāo)系中的曲率的中心位于圖的下部(未示出)的曲線的形式。換句話說，第二路徑引導(dǎo)件表面193a可以是其在XY坐標(biāo)系中的曲率中心位于圖的下部的曲面。
[0086]圖10是圖1所示的第一路徑引導(dǎo)件191和第二路徑引導(dǎo)件193的另一實(shí)施例的首1J視圖。
[0087]參照圖10，上保持單元310可以和上基底13(參見圖1)同時沿直線SI移動。
[0088]下基底11 (參見圖1)可以以其被固定在下保持單元110上的狀態(tài)被傳送。下保持單元110(參見圖1)可以由下連接單元150連接到第一路徑引導(dǎo)件191和第二路徑引導(dǎo)件193，并由第一路徑引導(dǎo)件191和第二路徑引導(dǎo)件193引導(dǎo)。
[0089]由第一路徑引導(dǎo)件191引導(dǎo)的下保持單元110可以平行于上基底13(參見圖1)被傳送，從直線SI到第一路徑引導(dǎo)件191 (參見圖1)的接觸下連接單元150 (參見圖1)的第二側(cè)151 (參見圖1)的部分(S卩，第一路徑引導(dǎo)件表面191a)的垂直距離DO可以是恒定的。
[0090]第二路徑引導(dǎo)件193 (參見圖1)從第一路徑引導(dǎo)件191 (參見圖1)向下傾斜。從直線SI到第二路徑引導(dǎo)件193 (參見圖1)的接觸下連接單元150的第二側(cè)151的部分(即，第二路徑引導(dǎo)件表面193a)的垂直距離可以逐漸增大。例如，如果上保持單元310從第一路徑引導(dǎo)件191和第二路徑引導(dǎo)件193之間的邊界移動r、2r和3r，從直線SI到第二路徑引導(dǎo)件表面193a的垂直距離可以是D1、D2和D3。在這種情況下，D0<D1<D2<D3。
[0091]這里，Dl-DO = D2-D1 = D3-D2。在這種情況下，第二路徑引導(dǎo)件193 (參見圖1)或第二路徑引導(dǎo)件表面193a可形成類似向下傾斜的直線的形狀的引導(dǎo)路徑。另外，D1-D0〈D2-D1〈D3-D2。在這種情況下，第二路徑引導(dǎo)件193 (參見圖1)或第二路徑引導(dǎo)件表面193a可形成如圖10所示的類似向下傾斜的曲線的形狀的引導(dǎo)路徑。
[0092]也就是，對第二路徑引導(dǎo)件193 (參見圖1)或第二路徑引導(dǎo)件表面193a的形狀沒有限制，只要上述垂直距離之間的關(guān)系滿足D0<D1<D2<D3。
[0093]圖11是示出圖1所示的上傳送部件300的示意性結(jié)構(gòu)的透視圖。
[0094]參照圖11，根據(jù)本公開的上傳送部件300可以包括上保持單元310、上固定單元(未示出)和上驅(qū)動單元(未示出)，并且可以進(jìn)一步包括第一上支撐件350、第二上支撐件370、第三上支撐件380和上引導(dǎo)件390a和390b。
[0095]第一上支撐件350被連接到上保持單元310的頂表面，從而支撐上保持單元310。第一上支撐件350在Y軸方向被上驅(qū)動單元(未示出)移動，從而升高或降低上保持單元310。第一上支撐件350在Y軸方向上的移動可以由第二上支撐件370引導(dǎo)。
[0096]第二上支撐件370可被連接到第三上支撐件380。第二上支撐件370可以在Z軸方向上被上驅(qū)動單元(未示出)移動，從而移動上保持單元310。這里,第二上支撐件370的移動可以由第三上支撐件380引導(dǎo)。
[0097]第三上支撐件380可以在X軸方向被上驅(qū)動單元(未示出)移動，從而移動上保持單元310。這里，第三上支撐件380的移動可以由上引導(dǎo)件390a和390b引導(dǎo)。如圖所示，上引導(dǎo)件390a和390b可以接觸第三上支撐件380的兩端。
[0098]第一上支撐件350、第二上支撐件370和第三上支撐件380之間的上述聯(lián)接關(guān)系僅是示例，本公開并不限于此。也就是，對第一上支撐件350、第二上支撐件370和第三上支撐件380之間的聯(lián)接關(guān)系沒有限制，它們之間的聯(lián)接關(guān)系可以被適當(dāng)?shù)馗淖?。此外，第一上支撐?50、第二上支撐件370和第三上支撐件380中的任何一個可以被省略，或者可以和另一個一體形成。
[0099]圖12和圖13是示出圖1所示的上固定單元330的一個實(shí)施例的示意性結(jié)構(gòu)的剖視圖和仰視圖。
[0100]參照圖12和圖13，如上參照圖1描述的，上固定單元330可以被設(shè)置在上保持單元310的底表面上。上固定單元330可以包括例如真空吸附部分，從而通過吸附將上基底13的頂表面固定到上保持單元310。
[0101]更具體地說，上固定單元330可以包括沿上保持單元310的底表面的邊緣部分提供的多個第一真空吸附部分331以及被形成在上保持單元310的底表面的沒有形成第一真空吸附部分331的部分中的多個第二真空吸附部分333。
[0102]用于真空吸附上基底13的頂表面的一側(cè)的第一真空吸附部分331可被配置為具有較強(qiáng)的吸附力。如圖12和圖13所示，第一真空吸附部分331可以在上保持單元310的底表面的邊緣被布置成一直線。盡管在圖中第一真空吸附部分331僅被形成在上保持單元310的底表面的一個邊緣處，但這僅僅是示例，第一真空吸附部分331可以額外地形成在另一邊緣處。對第一真空吸附部分331的形式?jīng)]有限制。第一真空吸附部分331可被形成為真空孔的形式。為了具有更強(qiáng)的吸附力，第一真空吸附部分331可被形成為如圖12和圖13所示的吸盤的形式。
[0103]如圖13所示，第二真空吸附部分333可以位于上保持單元310的底表面的除了形成第一真空吸附部分331的部分之外的部分。第二真空吸附部分333可真空吸附上基底13的頂表面，但不包括頂表面的邊緣。第二真空吸附部分333不需要具有和第一真空吸附部分331 —樣強(qiáng)的吸附力。因此，第二真空吸附部分333可被形成為，但不限于，真空孔的形式。
[0104]雖然在圖中未示出，上固定單元330可進(jìn)一步包括輔助上驅(qū)動單元。如圖12中由真空吸附部分331旁邊的箭頭所表示，輔助上驅(qū)動單元可以在Y軸方向移動第一真空吸附部分331，并可被形成為，但不限于，圓柱體的形式。真空吸附部分331獨(dú)立于上保持單元310如圖12中的上下箭頭所示地移動。
[0105]圖14和圖15是示出圖1所示的分離器500的一個實(shí)施例的示意性結(jié)構(gòu)的剖視圖和透視圖。
[0106]參照圖14和圖15，根據(jù)當(dāng)前實(shí)施例的分離器500可以包括具有帶有鋒利邊緣的刃的刀510與用于移動刀510的刀驅(qū)動單元(未示出)，并可以進(jìn)一步包括第一刀支撐件530、第二刀支撐件540、第三刀支撐件550和第四刀支撐件560中的至少一個。
[0107]第一刀支撐件530可通過將刀510固定到其一側(cè)而支撐刀510。第一刀支撐件530可在X軸方向被刀驅(qū)動單兀(未不出)移動，從而移動刀510。第一刀支撐件530在X軸方向上的移動可由，但不限于，第二刀支撐件540引導(dǎo)。
[0108]第二刀支撐件540可被連接到第三刀支撐件550。第二刀支撐件540可在Y軸方向被刀驅(qū)動單元(未示出)移動，從而在Y軸方向移動刀510。第二刀支撐件540的移動可由，但不限于，第三刀支撐件550引導(dǎo)。
[0109]第三刀支撐件550可以在Z軸方向被刀驅(qū)動單元(未示出)移動，從而移動刀510。這里，第三刀支撐件550的移動可以由支撐第三刀支撐件550的第四刀支撐件560引導(dǎo)。
[0110]然而，第一至第四刀支撐件530至560之間的上述聯(lián)接關(guān)系僅是示例，本公開不限于此。也就是，對第一至第四刀支撐件530至560之間的聯(lián)接關(guān)系沒有限制，它們之間的聯(lián)接關(guān)系在必要時可以被改變。此外，第一至第四刀支撐件530至560中的任何一個可以被省略。
[0111]圖16是示出圖1所示的分離器500和上傳送部件300的另一實(shí)施例的示意性結(jié)構(gòu)的透視圖。圖16中所示的分離器500的結(jié)構(gòu)和圖15中所示的結(jié)構(gòu)基本相同。
[0112]參照圖16，根據(jù)當(dāng)前實(shí)施例的分離器500可以和上傳送部件300—體形成。例如，分離器500的第四刀支撐件560可被連接到上傳送部件300的上保持單元310。因此，在由上固定單元330(331、333)固定的上基底13 (參見圖1)的傳送過程中，分離器500可以根據(jù)上保持單元310的移動而移動。
[0113]圖17是示出根據(jù)一個實(shí)施例的分離器500的操作的透視圖。
[0114]參照圖17，分離器500的刀510可以在負(fù)X軸方向上移動，以被插入到下基底11和上基底13之間。然后，刀510可以沿Z軸方向移動，從而部分分離彼此接觸的下基底11和上基底13。對于刀510在Z軸方向的移動路徑?jīng)]有限制。在一個示例中，通過在負(fù)X軸方向移動而插入在下基底11和上基底13之間的刀510可以通過沿正Z軸方向移動而部分分離上基底13和下基底11，然后再通過沿負(fù)Z軸方向移動而部分分離上基底13和下基底
11?？商娲?，刀510可通過在負(fù)Z軸方向移動然后在正Z軸方向移動而部分分離上基底13和下基底11。這發(fā)生在基底分離裝置的第一區(qū)域PAl (參見圖1)中。
[0115]圖18是示出根據(jù)一個實(shí)施例的上固定單元330和分離器500的操作的示意性剖視圖。
[0116]參照圖18，作為上固定單元330，第一真空吸附部分331和第二真空吸附部分333可以被設(shè)置在上保持單元310的下部的下方或上保持單元310的下部中，如上參照圖12和圖13所描述的那樣。以上基底13的頂表面由第一真空吸附部分331和第二真空吸附部分333固定并且下基底11的底表面由下保持單元110的下固定單元130固定的狀態(tài)，第一真空吸附部分331可以在正Y軸方向被輔助上驅(qū)動單元移動。因此，上基底13的邊緣的一部分可以在向上的方向(也就是在正Y軸方向)被升高，間隙19可以在負(fù)X軸方向上被形成在上基底13和下基底11的表面之間。在這種狀態(tài)下，刀510通過在負(fù)X軸方向移動可被插入到間隙19中，并且可以通過在Z軸方向移動而部分分離彼此接觸的上基底13和下基底11。也就是，根據(jù)當(dāng)前實(shí)施例，因?yàn)槭褂玫谝徽婵瘴讲糠?31在下基底11和上基底13之間形成有間隙19，刀510可以更容易地被插入到兩個基底11和13之間。
[0117]圖19是示出另一實(shí)施例的上固定單元330和分離器500的操作的示意性剖視圖。
[0118]根據(jù)當(dāng)前實(shí)施例，用于真空吸附上基底13的頂表面的邊緣的第一真空吸附部分331可以在Y軸方向移動，以在上基底13和下基底11的表面之間在負(fù)Z軸方向形成間隙
19。刀510可以在負(fù)Z軸方向從上基底13和下基底11的側(cè)表面移動，以被插入到間隙19中，并且可以在負(fù)Z軸方向連續(xù)移動，以切割聯(lián)接上基底13和下基底11的聯(lián)接件(未示出)。也就是，根據(jù)當(dāng)前實(shí)施例，刀510被初始插入在上基底13和下基底11之間的方向和如上參照圖17和圖18描述的方向不同。也就是，當(dāng)前實(shí)施例與圖17和圖18的實(shí)施例的不同在于刀510被初始插入在上基底13和下基底11之間的方向，而刀510部分分離上基底13和下基底11的方向相同。換句話說，在圖17和圖18中，刀510被插入在上基底13和下基底11的前部(面對下保持單元110移動的方向的前部)，在圖19中，刀510被插入在上基底13和下基底11的側(cè)部。根據(jù)當(dāng)前實(shí)施例，刀510可以被更容易地插入在兩個基底11和13之間。另外，可以連續(xù)地執(zhí)行在上基底13和下基底11之間插入刀510的操作以及使用刀510分離上基底13和下基底11的操作。
[0119]圖20是示出根據(jù)本公開的基底分離裝置中的根據(jù)一個實(shí)施例的輔助分離器700a和700b以及離子發(fā)生器810a、810b、830a和830b的布置的示意性透視圖。
[0120]參照圖20，在過程期間或在層疊結(jié)構(gòu)10 (參見圖1)被傳送時，靜電可能積聚在被放置于下保持單元110(參見圖1)上的用于基底分離的層疊結(jié)構(gòu)10上。因?yàn)閹щ姳砻嫖龑盈B結(jié)構(gòu)10周圍的微粒，積聚在層疊結(jié)構(gòu)10上的靜電可能污染層疊結(jié)構(gòu)10的暴露表面。因此，為了移除在下基底11 (參見圖1)和上基底13(參見圖1)的至少一個上帶的靜電，根據(jù)當(dāng)前實(shí)施例的基底分離裝置可以進(jìn)一步包括離子發(fā)生器810a和810b。
[0121]離子發(fā)生器810a和810b可以是光電離器。光電離器最多僅受如(用于去除靜電)抗靜電距離和風(fēng)向的外部條件的很小影響，并利用空氣電離。因此，光電離器不產(chǎn)生灰塵、電磁波和臭氧。此外，由于其高離子發(fā)生密度，光電離器去除靜電很有效。當(dāng)離子發(fā)生器810a和810b照射X射線到被放置在下保持單元110 (參見圖1)上的層疊結(jié)構(gòu)10 (參見圖1)時，X射線可以擊中氣體或存在于空氣中的原子，以產(chǎn)生正/負(fù)離子。正/負(fù)離子可中和在層疊結(jié)構(gòu)10上所帶的靜電，從而去除靜電。
[0122]在圖20中，離子發(fā)生器810a和810b被分別設(shè)置在對應(yīng)于第一路徑引導(dǎo)件191_1和191-2的下引導(dǎo)單元190-1和190-2的側(cè)部的位置處。然而，這僅僅是示例。也就是，離子發(fā)生器810a和810b也可以被放置在下引導(dǎo)單元190-1和190-2之間的空間上方，這樣它們可以同時向?qū)盈B結(jié)構(gòu)10(參見圖1)的所有區(qū)域供給離子。也就是，對離子發(fā)生器810a和810b的數(shù)量和位置沒有限制。在一實(shí)施方式中，離子發(fā)生器810a和810b可以供給離子到下基底11或上基底13周圍的區(qū)域。
[0123]離子發(fā)生器830a和830b也可以被設(shè)置在對應(yīng)于第一路徑引導(dǎo)件191_1和191_2和第二路徑引導(dǎo)件193-1和193-2之間的邊界的下引導(dǎo)單元190-1和190-2的側(cè)部的位置處。如上所述，如果靜電積聚，帶電的表面吸引微粒。因而，表面可能被污染。因此，如果在將層疊結(jié)構(gòu)10 (參見圖1)分離成下基底11和上基底13的過程中在下基底11 (參見圖1)或上基底13 (參見圖1)上產(chǎn)生靜電，下基底11的頂表面或上基底13的底表面可能被靜電污染。
[0124]為了解決這個問題，在根據(jù)當(dāng)前實(shí)施例的基底分離裝置中，離子發(fā)生器830a和830b被設(shè)置在對應(yīng)于第一路徑引導(dǎo)件191-1和191-2和第二路徑引導(dǎo)件193-1和193-2之間的邊界的下引導(dǎo)單元190-1和190-2的側(cè)部的位置處。因此，可以移除在基底分離過程中產(chǎn)生的靜電，從而防止基底分離過程中可能的污染。離子發(fā)生器830a和830b可以是光電離器，對于離子發(fā)生器830a和830b的數(shù)目沒有限制。另外，對于離子發(fā)生器830a和830b的位置沒有限制。
[0125]根據(jù)當(dāng)前實(shí)施例的基底分離裝置可以進(jìn)一步包括用于進(jìn)一步部分分離上基底13(參見圖1)和下基底11(參見圖1)的輔助分離器700a和700b。輔助分離器700a和700b可以被設(shè)置為沿上基底13 (參見圖1)和下基底11 (參見圖1)通過吸附固定并傳送而分離的位置的側(cè)部，也就是，第一路徑引導(dǎo)件191-1和191-2與第二路徑引導(dǎo)件193-1和193-2之間的邊界的側(cè)部的位置。輔助分離器700a和700b可以分別包括沿Z軸方向伸出的輔助刀710a和710b以及固定并支撐輔助刀710a和710b的輔助刀支撐件730a和730b。在一實(shí)施方式中，輔助分離器700a和700b可以設(shè)置在第一路徑引導(dǎo)件191-1和191-2的側(cè)部。
[0126]在一個示例中，沿Z軸方向伸出的輔助刀710a和710b可被放置在沿正X軸方向移動的上基底13 (參見圖1)和下基底11 (參見圖1)被彼此分離的位置處。在這種情況下，隨著上基底13和下基底11移動，輔助刀710a和710b可以被插入在兩個基底11和13 (參見圖1)之間。這里，隨著上基底13 (參見圖1)和下基底11 (參見圖1)在X軸的正方向移動，它們可以在X軸的負(fù)方向由輔助刀710a和710b分離。也就是，輔助刀710a和710b可以被固定在指定的位置，隨著上基底13 (參見圖1)和下基底11 (參見圖1)移動，它們可以在負(fù)X軸方向由輔助刀710a和710b分離。然而，這僅僅是示例，輔助分離器700a和700b可以進(jìn)一步包括驅(qū)動單元來分別移動輔助刀710a和710b。
[0127]對于輔助分離器700a和700b以及離子發(fā)生器830a和830b的位置關(guān)系，離子發(fā)生器830a和830b基于X軸被放置在輔助分離器700a和700b前方。然而，這僅僅是示例。也就是，輔助分離器700a和700b也可以基于X軸被放置在離子發(fā)生器830a和830b前方。
[0128]圖21至圖23是分別示出根據(jù)一個實(shí)施例的基底分離方法的步驟和基底分離裝置的操作的剖視圖。下面將描述如圖2和圖3所示構(gòu)造的下傳送部件100的情況。然而，這僅僅是為了方便描述而使用的示例。
[0129]參照圖21,上基底13的頂表面和下基底11的底表面可以被固定。具體地說，層疊結(jié)構(gòu)10被放置在下傳送部件100的下保持單元110 (也就是，彼此獨(dú)立的多個輔助保持單元IlOa至IlOc)上，下基底11的底表面使用下固定單元130 (130a至130c)被固定。然后，上傳送部件300的上保持單元310被放置在層疊結(jié)構(gòu)10上，然后在箭頭A表示的方向(即負(fù)Y軸方向)被移動，上基底13的頂表面使用上固定單元(331、333)被固定。
[0130]可替代地，盡管在圖中沒有示出，上基底13的頂表面可以被首先固定。例如，以層疊結(jié)構(gòu)10被上固定單元(331、333)固定的狀態(tài)，上保持單元310可以移動到下傳送部件100上方。然后，上保持單元310可以在負(fù)Y軸方向(即箭頭A表示的方向)移動，以將層疊結(jié)構(gòu)10放置在下保持單元110上，下固定單元130 (130a至130c)可固定下基底11的底表面。
[0131]頂表面被固定的上基底13和底表面被固定的下基底11在第一區(qū)域PAl中一起在正X軸方向被傳送。更具體地說，上保持單元310可以在箭頭B表示的方向(即正X軸方向)移動，從而傳送其頂表面被上固定單兀(331、333)固定的上基底13。同時，由第一路徑引導(dǎo)件191引導(dǎo)的輔助保持單元IlOa至IlOc在平行于箭頭B表示的方向的箭頭C表示的方向(也就是正X軸方向)被傳送。
[0132]換句話說，頂表面被固定的上基底13可以在第一區(qū)域PAl中沿直線SI被移動，其中直線SI可以平行于X軸。
[0133]此外，底表面被固定的下基底11可以和下保持單元110 —起被傳送，下保持單元110可以由到直線SI的垂直距離是恒定的第一路徑引導(dǎo)件191引導(dǎo)。
[0134]參照圖22，上基底13和下基底11可以在第一區(qū)域PAl中或在第一區(qū)域PAl和第二區(qū)域PA2之間的邊界處被部分分離。
[0135]具體地說，上基底13和下基底11在進(jìn)入第二區(qū)域PA2之前被停止。也就是，上保持單元310的移動和下保持單元110的移動可以被停止。然后，分離器的刀510在負(fù)X軸方向被移動，以被插入在上基底13和下基底11之間，并在Z軸方向被移動，以部分分離彼此接觸的上基底13和下基底11。
[0136]此外，可以進(jìn)一步執(zhí)行通過在正Y軸方向移動上固定單元(331、333)中固定上基底13的頂表面的邊緣的第一真空吸附部分331而在上基底13和下基底11之間形成間隙19的過程。在這種情況下，間隙19使得在上基底13和下基底11之間插入刀510更容易，如上參照圖18描述的那樣。
[0137]雖然在圖中未示出，間隙19也可以被形成在上基底13和下基底11的側(cè)表面之間，如上參照圖19所描述的那樣。在這種情況下，刀510可以在負(fù)Z軸方向移動，以被插入到間隙19中。
[0138]參照圖23，上基底13和下基底11隨著它們被移動到第二區(qū)域PA2中而被分離。
[0139]更具體地說，通過在箭頭B表示的方向(即正X軸方向)移動上保持單元310，頂表面被上固定單元(331、333)固定的上基底13在正X軸方向被傳送。同時，下基底11被放置和固定在其上的輔助保持單元IlOa至IlOc由第二路徑引導(dǎo)件193引導(dǎo)，以在由箭頭D表不的方向(即由正X軸方向和負(fù)Y軸方向的和表不的方向)被傳送。
[0140]通過第二路徑引導(dǎo)件193的引導(dǎo)，在輔助保持單元IlOa至IlOc之間形成臺階，下基底11和上基底13可以通過臺階逐漸分離。
[0141]也就是，固定上基底13的頂表面的力、在正X軸方向移動上基底13的力、固定下基底11的底表面的力、在正X軸方向和負(fù)Y軸方向移動下基底11被放置在其上的輔助保持單元IlOa至IlOc的力用作能夠逐漸分離上基底13和下基底11的外力。
[0142]換句話說，頂表面被固定的上基底13可以在第二區(qū)域PA2中沿著上述直線SI被傳送，底表面被固定的下基底11可以在其和直線SI的垂直距離增大的第二路徑引導(dǎo)件193的引導(dǎo)下被傳送。因此，上基底13和下基底11可以逐漸彼此分離。
[0143]包括輔助刀710a的輔助分離器可以進(jìn)一步被放置在下引導(dǎo)單元190的側(cè)部，以進(jìn)一步分離上基底13和下基底11，如上參照圖20描述的那樣。
[0144]雖然在圖中未示出，離子發(fā)生器可以被放置在上基底13和下基底11的分離在該處開始的第一區(qū)域PAl和第二區(qū)域PA2之間的邊界或第一路徑引導(dǎo)件191和第二路徑引導(dǎo)件193之間的邊界的側(cè)部。在這種情況下，離子發(fā)生器可提供離子到上基底13和下基底11的分離后的表面，從而去除靜電，如上參照圖20描述的那樣。在上基底13和下基底11分離前，層疊結(jié)構(gòu)10上帶的靜電也可以通過使用離子發(fā)生器供應(yīng)離子而被初始去除，如上參照圖20描述的那樣。
[0145]本公開的實(shí)施例可以提供以下優(yōu)點(diǎn)中的至少一個。
[0146]通過逐步增大上基底和下基底之間的間隙，可以更穩(wěn)定地分離上基底和下基底。還可以最小化分離過程中基底損壞的可能性。
[0147]此外，通過控制分離過程中的靜電，可以最小化靜電的作用，并防止由于外來物質(zhì)造成的污染。
[0148]然而，本公開的效果并不僅限于這里提出的效果。上述和其他效果對于包括權(quán)利要求的本公開所屬的相關(guān)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說將變得更加明顯。
[0149]盡管已經(jīng)參照其示例實(shí)施例特別示出和描述了本公開，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將理解在不背離包括所附權(quán)利要求的本公開的精神和范圍的情況下，可以對形式和細(xì)節(jié)進(jìn)行各種改變。示例實(shí)施例應(yīng)當(dāng)被認(rèn)為僅僅是描述性的，而不用于限制的目的。
【權(quán)利要求】
1.一種用于分離彼此接觸的上基底和下基底的裝置，該裝置包括: 上傳送部件，所述上傳送部件固定所述上基底并在包括彼此相交的X軸和Y軸的XY坐標(biāo)系中的正X軸方向傳送所述上基底；和 下傳送部件，所述下傳送部件被安裝在所述上傳送部件的下方且在之間具有間隙并固定和傳送所述下基底， 其中所述下傳送部件包括: 所述下基底被放置在其上的下保持單元；和 包括用于引導(dǎo)所述下保持單元的移動的路徑引導(dǎo)件的下引導(dǎo)單元， 其中所述路徑引導(dǎo)件包括平行于X軸的第一路徑引導(dǎo)件以及和所述第一路徑引導(dǎo)件連續(xù)并沿具有在XY坐標(biāo)系中的負(fù)斜率的線形成的第二路徑引導(dǎo)件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述線的斜率的絕對值是恒定的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述線的斜率的絕對值隨著到所述第一路徑引導(dǎo)件的距離增大而增大。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，進(jìn)一步包括各自具有被連接到所述下保持單元的第一側(cè)和接觸所述路徑引導(dǎo)件的第二側(cè)的下連接單元。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述下保持單元由彼此分離的多個輔助保持單元組成。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述下傳送部件進(jìn)一步包括: 被安裝在所述下保持單元的上部上或所述下保持單元的上部中以固定所述下基底的底表面的下固定單兀；和 移動所述下保持單元的下驅(qū)動單元。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其中所述下固定單元包括真空吸附所述下基底的所述底表面的一個或多個下真空吸附部分。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，進(jìn)一步包括在和X軸和Y軸相交的Z軸的方向上分離所述下基底和所述上基底的分離器。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其中所述分離器包括: 被插入在所述下基底和所述上基底之間以分離所述上基底和所述下基底的刀； 被連接到所述刀以固定所述刀的刀支撐件；和 移動所述刀支撐件的刀驅(qū)動單元。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其中所述分離器被連接到所述上傳送部件。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，進(jìn)一步包括在負(fù)X軸方向上分離所述下基底和所述上基底的輔助分離器。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的裝置，其中所述輔助分離器被放置在所述第一路徑引導(dǎo)件的側(cè)部或在所述第一路徑引導(dǎo)件和所述第二路徑引導(dǎo)件之間的邊界的側(cè)部。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的裝置，其中所述輔助分離器包括: 被插入在所述下基底和所述上基底之間以在負(fù)X軸方向上分離所述上基底和所述下基底的輔助刀；和 被連接到所述輔助刀以固定所述輔助刀的輔助刀支撐件。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述上部傳送部件包括: 上保持單元；和 被安裝在所述上保持單元的下部的下方或所述上保持單元的下部中以固定所述上基底的頂表面的上固定單元；和 移動所述上保持單元的上驅(qū)動單元。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的裝置，其中所述上固定單元包括真空吸附所述上基底的所述頂表面的上真空吸附部分。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，進(jìn)一步包括供給離子到所述下基底或所述上基底周圍的區(qū)域的一個或多個離子發(fā)生器。
17.一種用于分離彼此接觸的上基底和下基底的裝置，該裝置包括: 固定所述上基底的頂表面并沿直線傳送所述上基底的上傳送部件；和 被安裝在所述上傳送部件的下方并固定所述下基底的底表面且傳送所述下基底的下傳送部件， 其中所述下傳送部件包括: 所述下基底被放置在其上的下保持單元；和 包括用于引導(dǎo)所述下保持單元的移動的路徑引導(dǎo)件的下引導(dǎo)單元， 其中所述路徑引導(dǎo)件包括: 第一路徑引導(dǎo)件，所述第一路徑引導(dǎo)件到所述直線的垂直距離恒定；和第二路徑引導(dǎo)件，所述第二路徑引導(dǎo)件和所述第一路徑引導(dǎo)件連續(xù)并且所述第二路徑引導(dǎo)件到所述直線的垂直距離隨著到所述第一路徑引導(dǎo)件的距離增大而增大。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的裝置，其中所述直線和所述第二路徑引導(dǎo)件之間的垂直距離增大的比率是恒定的。
19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的裝置，其中所述直線和所述第二路徑引導(dǎo)件之間的垂直距離增大的比率隨著到所述第一路徑引導(dǎo)件的距離增大而增大。
20.一種分離彼此接觸的上基底和下基底的方法，該方法包括: 固定所述下基底的底表面和所述上基底的頂表面； 沿直線傳送所述上基底；和 在傳送所述上基底的同時傳送所述下基底， 其中所述傳送所述下基底包括: 沿第一路徑引導(dǎo)件移動所述下基底被放置在其上的下保持單元，所述第一路徑引導(dǎo)件到所述直線的垂直距離保持不變；和 通過沿第二路徑引導(dǎo)件移動所述下保持單元而分離所述下基底和所述上基底，所述第二路徑引導(dǎo)件和所述第一路徑引導(dǎo)件連續(xù)并且所述第二路徑引導(dǎo)件到所述直線的垂直距離隨著到所述第一路徑引導(dǎo)件的距離增大而增大。
【文檔編號】B32B38/10GK104210221SQ201410224742
【公開日】2014年12月17日 申請日期:2014年5月26日 優(yōu)先權(quán)日:2013年5月31日
【發(fā)明者】李承俊, 金俊亨 申請人:三星顯示有限公司