一種高透光率的金色單銀low-e玻璃及制備方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種高透光率的金色單銀LOW-E玻璃，包括有玻璃基片，其特征在于：在玻璃基片的復(fù)合面上由內(nèi)到外依次相鄰地復(fù)合有七個膜層，其中第一膜層即最內(nèi)層為SSTZrOX層，第二層為AZO層，第三層為Si層，第四層為AZO層，第五層為Ag層，第六層為CrNxOy，最外層為SnO2層。本發(fā)明目的是克服了現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種透過率高，色澤鮮艷，輻射率低，節(jié)能效果顯著，生產(chǎn)成本低的高透光率的金色單銀LOW-E玻璃，本發(fā)明還提供一種磁控濺射法制備高透光率的金色單銀LOW-E玻璃的方法。
【專利說明】—種高透光率的金色單銀LOW-E玻璃及制備方法
【【技術(shù)領(lǐng)域】】
[0001]本發(fā)明涉及一種高透光率的金色單銀LOW-E玻璃，本發(fā)明還涉及一種磁控濺射法制備高透光率的金色單銀LOW-E玻璃的方法。
【【背景技術(shù)】】
[0002]鍍膜玻璃具有節(jié)能減排及裝飾幕墻的雙重功效。而金色玻璃作為鍍膜玻璃的一個非常規(guī)品種，深受人們喜愛。但由于市場上現(xiàn)有的金色鍍膜玻璃產(chǎn)品，色調(diào)暗淡且生產(chǎn)成本高，且大多數(shù)為陽光控制鍍膜玻璃。
【
【發(fā)明內(nèi)容】
】
[0003]本發(fā)明目的是克服了現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種透過率高，色澤鮮艷，輻射率低，節(jié)能效果顯著，生產(chǎn)成本低的高透光率的金色單銀LOW-E玻璃，本發(fā)明還提供一種磁控濺射法制備高透光率的金色單銀LOW-E玻璃的方法。
[0004]本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的:
[0005]一種高透光率的金色單銀LOW-E玻璃，包括有玻璃基片I，其特征在于:在玻璃基片的復(fù)合面上由內(nèi)到外依次相鄰地復(fù)合有七個膜層，其中第一膜層即最內(nèi)層為SSTZrOx層21，第二層為AZO層22，第三層為Si層23，第四層為AZO層24，第五層為Ag層25，第六層為CrNx0y26，最外層為SnO2層27。
[0006]如上所述的高透光率的金色單銀LOW-E玻璃，其特征在于所述第一膜層SSTZrOx層21的厚度為30?40nm。
[0007]如上所述的高透光率的金色單銀LOW-E玻璃，其特征在于所述第二層AZO層22的厚度為10?15nm，第四層AZO層24的厚度10?20nm。
[0008]如上所述的高透光率的金色單銀LOW-E玻璃，其特征在于所述第三層Si層23的厚度為3?5nm。
[0009]如上所述的高透光率的金色單銀LOW-E玻璃，其特征在于所述第五層Ag層25的厚度為10?15nm。
[0010]如上所述的高透光率的金色單銀LOW-E玻璃，其特征在于所述第六層CrNx0y26和第十二層CrNxOy層212的厚度均為3nm。
[0011 ] 如上所述的高透光率的金色單銀LOW-E玻璃，其特征在于所述最外層SnO2層27的厚度為60nm。
[0012]一種制備上述的高透光率的金色單銀LOW-E玻璃的方法，其特征在于包括如下步驟:
[0013](I)磁控濺射33121'0)(層，用交流中頻電源、氧氣作反應(yīng)氣體濺射摻鋯的不銹鋼靶Fe:Zr = 80:20，氬氧比為 400SCCM ?420SCCM:450SCCM ?500SCCM ；
[0014](2)磁控濺射氧AZO層，用中頻交流電源濺射陶瓷Zn靶，用氬氣作為濺射氣體，摻入少量02，氬氧比為:400SCCM-420SCCM:20?40SCCM，為S1、Ag層作鋪墊；
[0015](3)磁控濺射Si層，交流電源濺射，用Ar氣作為濺射氣體，氣體流量500?550SCCM ；
[0016](4)磁控濺射AZO層，用中頻交流電源濺射陶瓷Zn靶，用氬氣作為濺射氣體，摻入少量02，氬氧比為400SCCM-420SCCM:20?40SCCM，為Cu層作鋪墊；
[0017](5)磁控濺射Ag層，直流電源濺射，用氬氣作工藝氣體，氣體流量500?550SCCM ；
[0018](6)磁控濺射CrNxOy層，用直流電源濺射，用氮氣做反應(yīng)氣體，滲少量氧氣；
[0019](7)磁控濺射SnO2層，用交流中頻電源、氧氣作反應(yīng)氣體濺射Sn靶，氬氧比為400SCCM ?420SCCM:450SCCM ?500SCCM。
[0020]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明有如下優(yōu)點:
[0021]1、本發(fā)明特殊膜系的金色單銀LOW-E玻璃，色澤鮮艷，而且透光率高，達到70%以上；O
[0022]2、本發(fā)明與采用金作為功能層生產(chǎn)的金色相比較，Si作為功能層的成本不到用金的千分之一，且產(chǎn)品的輻射率僅0.02，節(jié)能效果顯著。
[0023]3、本發(fā)明采用硅作為功能層，在保證了金色效果的同時比普通的LOW-E玻璃成本更低。
【【專利附圖】

【附圖說明】】
[0024]圖1是本發(fā)明結(jié)構(gòu)示意圖。
【【具體實施方式】】
[0025]一種高透光率的金色單銀LOW-E玻璃，包括有玻璃基片I，在玻璃基片的復(fù)合面上由內(nèi)到外依次相鄰地復(fù)合有七個膜層，其中第一膜層即最內(nèi)層為35121'0)(層21，第二層為AZO層22，第三層為Si層23，第四層為AZO層24，第五層為Ag層25，第六層為CrNx0y26，最外層為SnO2層27。
[0026]所述第一膜層即最內(nèi)層為35121'0)(層21，即摻鋯氧化不銹鋼層，通過在不銹鋼內(nèi)摻鋯，在反應(yīng)濺射時提高膜層的折射率，達到2.0左右，從而提升復(fù)合膜系的透過率。作調(diào)節(jié)金色顏色層，可得到較黃的金色效果。SSTZrOx層21的厚度為30?40nm，優(yōu)選35nm，nm是納米，Im = 109nm。
[0027]所述第二層AZO層22，即鋁摻雜的氧化鋅層，平整層，平滑Si層，為S1、Ag層作鋪墊，降低輻射率。AZO層的厚度為10?15nm。優(yōu)選12nm。
[0028]所述第三層Si層23，即硅層，為功能層，用來作為金色提供層。Si層的厚度為3?5nm,優(yōu)選 4nm。
[0029]所述第四層AZO層24，即鋁摻雜的氧化鋅層，平整層，由于Si濺射后成簇狀結(jié)構(gòu)，通過用AZO層平滑Si層，為下層鍍Ag起打底作用。為Ag層作鋪墊，降低輻射率。AZO層的厚度為10?20nm。優(yōu)選15nm。
[0030]所述第五層Ag層25，即金屬銀層，為功能層，金屬銀層提供了較低的輻射率，起環(huán)保節(jié)能的作用。Ag層的厚度為10?15nm,優(yōu)選12nm。
[0031]所述第六層CrNxOy層26，即氮氧化鉻層，提高膜層耐磨性、提高透光率、提高鋼化時抗高溫氧化性。CrNxOy層26的厚度為3nm。
[0032]所述第七層SnO2層27，即氧化鋅層，為中間介質(zhì)層，保護層。SnO2層27的厚度為60nmo
[0033]Low-E玻璃也叫做低輻射鍍膜玻璃。
[0034]一種制備高透光率的金色單銀LOW-E玻璃的方法，包括如下步驟:
[0035](I)磁控濺射33121'0)(層，用交流中頻電源、氧氣作反應(yīng)氣體濺射摻鋯的不銹鋼靶Fe:Zr = 80:20，氬氧比為400SCCM?420SCCM:450SCCM?500SCCM，本步驟中氬氧比決定了成膜的質(zhì)量；
[0036](2)磁控濺射氧AZO層，用中頻交流電源濺射陶瓷Zn祀，即AZO祀，用氬氣作為濺射氣體，摻入少量02，氬氧比為:400SCCM-420SCCM:20?40SCCM，為S1、Ag層作鋪墊；
[0037](3)磁控濺射Si層，交流電源濺射，用Ar氣作為濺射氣體，氣體流量500?550SCCM ；
[0038](4)磁控濺射AZO層，用中頻交流電源濺射陶瓷ZnAZO靶，用氬氣作為濺射氣體，摻入少量02，氬氧比為400SCCM-420SCCM:20?40SCCM，為Ag層作鋪墊；
[0039](5)磁控濺射Ag層，直流電源濺射，用氬氣作反應(yīng)氣體，氣體流量500?550SCCM ；
[0040](6)磁控濺射CrNxOy層，用直流電源濺射，用氮氣做反應(yīng)氣體，滲少量氧氣；
[0041](7)磁控濺射SnO2層，用交流中頻電源、氧氣作反應(yīng)氣體濺射Sn靶，氬氧比為400SCCM?420SCCM:450SCCM?500SCCM，本步驟中氬氧比決定了成膜的質(zhì)量。
【權(quán)利要求】
1.一種高透光率的金色單銀101-2玻璃，包括有玻璃基片(1),其特征在于:在玻璃基片的復(fù)合面上由內(nèi)到外依次相鄰地復(fù)合有七個膜層，其中第一膜層即最內(nèi)層為33121?層(21),第二層為420層(22),第三層為31層(24),第五層為^層(25)，第六層為0隊07 (26)，最外層為31102層(27)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高透光率的金色單銀11)1-2玻璃，其特征在于所述第一膜層331--層(21)的厚度為30?40咖。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高透光率的金色單銀11)1-2玻璃，其特征在于所述第二層八20層(22)的厚度為10?15鹽，第四層八20層(24)的厚度10?20鹽。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高透光率的金色單銀11)1-2玻璃，其特征在于所述第三層31層(23)的厚度為3?511111。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高透光率的金色單銀11)1-2玻璃，其特征在于所述第五層八8層(25)的厚度為10?15鹽。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高透光率的金色單銀11)1-2玻璃，其特征在于所述第六層01-^0,(26)和第十二層0隊07層(212)的厚度均為311111。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高透光率的金色單銀11)1-2玻璃，其特征在于所述最外層81102層(27)的厚度為60咖。
8.一種制備權(quán)利要求1?7任意一項所述的高透光率的金色單銀11)1-2玻璃的方法，其特征在于包括如下步驟: (1)磁控濺射33121^層，用交流中頻電源、氧氣作反應(yīng)氣體濺射摻鋯的不銹鋼靶？6:IX = 80: 20，氬氧比為 4008001 ?4208001:4508001 ?5008001 ； (2)磁控濺射氧八20層，用中頻交流電源濺射陶瓷2=靶，用氬氣作為濺射氣體，摻入少量 02，氬氧比為:4008001-4208001:20 ?408001, % 81,? 層作鋪墊； (3)磁控濺射31層，交流電源濺射，用紅氣作為濺射氣體，氣體流量500?5503(1?； (4)磁控濺射八20層，用中頻交流電源濺射陶瓷2=靶，用氬氣作為濺射氣體，摻入少量02，氬氧比為 40030:1-4203(:(:1:20 ?4030:1，為 層作鋪墊； (5)磁控濺射仏層，直流電源濺射，用氬氣作工藝氣體，氣體流量500?5503(1?； (6)磁控濺射0隊07層，用直流電源濺射，用氮氣做反應(yīng)氣體，滲少量氧氣； (7)磁控濺射3！102層，用交流中頻電源、氧氣作反應(yīng)氣體濺射如靶，氬氧比為4008001 ?42031X1:4508001 ?50030:1。
【文檔編號】B32B15/00GK104369444SQ201410637287
【公開日】2015年2月25日 申請日期:2014年11月12日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月12日
【發(fā)明者】魏佳坤, 林改, 鄭梅鵬, 宋曉群, 鄭凱永 申請人:揭陽市宏光鍍膜玻璃有限公司