本發(fā)明涉及靜電紡絲領(lǐng)域，特別是涉及一種圓柱面三角形間隔陣列的靜電紡絲噴頭及靜電紡絲方法。

背景技術(shù)：

申請?zhí)枮?00910031948.2的發(fā)明專利公開了一種陣列多噴頭靜電紡絲設(shè)備，利用在平面上呈線性矩形陣列布置的多個噴頭進行紡絲，可實現(xiàn)電紡纖維膜材的大批量生產(chǎn)。

然而經(jīng)過長時間的使用后，技術(shù)人員發(fā)現(xiàn)當(dāng)噴頭在平面上呈陣列布置后，各噴頭尖端的電場會相互影響、干擾，使得不同噴頭之間電場差異較大導(dǎo)致紡絲不均。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

為了解決上述問題，本發(fā)明的目的在于提供一種圓柱面三角形間隔陣列的靜電紡絲噴頭，其噴嘴的尖端電場較為均勻。

本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是：

一種圓柱面三角形間隔陣列的靜電紡絲噴頭，包括本體，所述本體具有一位于頂部的圓柱面以及設(shè)有至少三組輸出結(jié)構(gòu)，相鄰兩組輸出結(jié)構(gòu)在圓柱面的軸線方向上軸對稱并間隔一段距離，各組輸出結(jié)構(gòu)包括開設(shè)在圓柱面上的三個連接孔，每個連接孔上均接有針式噴嘴，各針式噴嘴沿圓柱面的法向延伸且等高，同一組輸出結(jié)構(gòu)中各連接孔位于等腰三角形的端點上，其中等腰三角形頂角的端點位于圓柱面的頂線上，等腰三角形與頂角相對底邊垂直于圓柱面的軸線。

作為本發(fā)明的進一步改進，同一組輸出結(jié)構(gòu)中各連接孔在水平面上的投影分別處于正三角形的端點上。

作為本發(fā)明的進一步改進，相鄰組輸出結(jié)構(gòu)的間距與正三角形的邊長相等。

本發(fā)明還提供一種靜電紡絲方法，其采用的技術(shù)方案是：

使用上述的靜電紡絲噴頭，將紡絲液涂覆于各針式噴嘴上，紡絲液在針式噴嘴、收集裝置所形成的誘導(dǎo)電場下產(chǎn)生誘導(dǎo)射流，誘導(dǎo)射流被誘導(dǎo)至收集裝置形成纖維。

另外，本發(fā)明的靜電紡絲噴頭還可以采用以下結(jié)構(gòu)：

所述針式噴嘴具有中空的出液腔，所述本體表面具有進液口，本體內(nèi)部具有溶液通道，所述出液腔通過對應(yīng)的連接孔、溶液通道連通進液口。

該靜電紡絲噴頭的靜電紡絲方法如下：

將紡絲液通過溶液通道注入出液腔內(nèi)并到達針式噴嘴頂端，紡絲液在針式噴嘴、收集裝置所形成的誘導(dǎo)電場下產(chǎn)生誘導(dǎo)射流，誘導(dǎo)射流被誘導(dǎo)至收集裝置形成纖維。

本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明相鄰組輸出結(jié)構(gòu)沿圓柱面的軸線呈軸對稱布置并隔開一段距離，各組輸出結(jié)構(gòu)的三個連接孔的連線構(gòu)成等腰三角形軌跡，其中等腰三角形頂角的端點位于圓柱面的頂線上，等腰三角形底邊垂直于圓柱面的軸線，那么所有連接孔在投影面上的投影點即形成等腰三角形軸對稱陣列的軌跡，這種布置方式相對于在平面上呈陣列軌跡布置的噴嘴的現(xiàn)有技術(shù)來說，各噴嘴電場強度差異較小，各噴嘴的尖端電場更加均勻。

附圖說明

下面結(jié)合附圖和實施方式對本發(fā)明進一步說明。

圖1是靜電紡絲噴頭的主視圖；

圖2是靜電紡絲噴頭的側(cè)視圖；

圖3是靜電紡絲噴頭的俯視圖；

圖4是靜電紡絲過程的示意圖；

圖5是在平面上呈三排線性陣列布置噴頭的示意圖；

圖6是在平面上呈三角形軸對稱陣列布置噴頭的示意圖；

圖7是圖5中布置方式的電場仿真結(jié)果示意圖；

圖8是圖6中布置方式的電場仿真結(jié)果示意圖；

圖9是本發(fā)明布置方式的電場仿真結(jié)果示意圖。

具體實施方式

如圖1至圖3所示的圓柱面三角形間隔陣列的靜電紡絲噴頭，包括本體1，本體1具有一位于頂部的圓柱面以及設(shè)有至少三組輸出結(jié)構(gòu)，所述的輸出結(jié)構(gòu)用于收集并噴射紡絲液。

每組輸出結(jié)構(gòu)由開設(shè)在圓柱面上的三個連接孔以及分別連接在連接孔上的針式噴嘴2組成，附圖中的連接孔與針式噴嘴2重合，因此連接孔在圖1和圖2中沒有標示。這三個連接孔分別位于一個等腰三角形的三個端點上，也即這三個連接孔的連線構(gòu)成等腰三角形軌跡。該所述的等腰三角形頂角的端點位于圓柱面的頂線上，即其中一個連接孔位于圓柱面的頂線上；該等腰三角形與頂角相對的底邊垂直于圓柱面的軸線，由此即另外兩個連接孔分別對稱位于圓柱面頂線的兩側(cè)。如圖3所示，這三個連接孔在水平面上的投影分別處于另外一個等腰三角形的端點上，也就是將三個投影點連線后構(gòu)成等腰三角形的軌跡。

實施例中，相鄰兩組輸出結(jié)構(gòu)在圓柱面的軸線方向上軸對稱并間隔一段距離。具體來說可參考圖3，每個等腰三角形均為一組輸出結(jié)構(gòu)連接孔的投影軌跡。其中相鄰的等腰三角形21、22的底邊相對，且這兩個等腰三角形21、22分隔一段距離并相對于軸23呈軸對稱；相鄰的等腰三角形22、24的頂角相對，且這兩個等腰三角形22、24分隔一段距離并相對于軸25呈軸對稱。以此類推，在水平投影面上形成了間隔的陣列軌跡，該陣列軌跡的單元為等腰三角形，并且相鄰的等腰三角形互為對稱。

上述的針式噴嘴2遠離連接孔的末端為針尖結(jié)構(gòu)，該種針式噴嘴2為本領(lǐng)域常用的噴頭結(jié)構(gòu)，在此不作詳細的描述。每組輸出結(jié)構(gòu)的針式噴嘴2都是等高的，而且不同組輸出結(jié)構(gòu)的各針式噴嘴2也是等高的，也即所有的針式噴嘴2均相對于圓柱面來說等高。這些針式噴嘴2沿圓柱面的法向延伸。

上述的本體1可以是完整的圓柱體結(jié)構(gòu)從而其表面均為圓柱面，也可以是僅有一部分具有圓柱面的結(jié)構(gòu)。

具有上述連接孔、針式噴嘴軌跡的靜電紡絲噴頭能大大減少呈各針式噴嘴電場的相互影響，使得各針式噴嘴的尖端電場更加均勻。

優(yōu)選的，同一組輸出結(jié)構(gòu)中各連接孔在水平面上的投影分別處于正三角形的端點上，即三個連接孔的投影構(gòu)成一個正三角形的軌跡，該正三角形的中心處于圓柱面頂線在水平面的投影線上。這種布置結(jié)構(gòu)更有利于保證尖端電場的均勻。

進一步優(yōu)選的，相鄰組輸出結(jié)構(gòu)的間距實際上即為水平投影面上相鄰正三角形的距離。在圖3所示中，該間距為投影點31和投影點32之間的間距，也等于兩個等腰三角形21、22相對的兩條底邊之間的距離，該間距與正三角形的邊長均相等，這種布置結(jié)構(gòu)更有利于保證尖端電場的均勻。

上述實施例的靜電紡絲方法如下：

如圖4所示，將紡絲液通過外部的涂覆裝置均勻涂覆于各針式噴嘴2上，本體1相對于收集裝置4是固定不動的，并且針式噴嘴2朝向收集裝置4，紡絲液在針式噴嘴2、收集裝置4所形成的誘導(dǎo)電場下產(chǎn)生誘導(dǎo)射流，誘導(dǎo)射流被誘導(dǎo)至收集裝置4形成纖維。

在靜電紡絲噴頭的其他實施例中，針式噴嘴2可以具有中空的出液腔，該出液腔貫通針式噴嘴2前后，在本體1表面具有進液口，本體1內(nèi)部具有溶液通道，出液腔通過對應(yīng)的連接孔、溶液通道連通進液口。此時，連接孔可以認為是一個噴孔。

采用該優(yōu)選實施例的靜電紡絲方法如下：

如圖4所示，本體1相對于收集裝置4是固定不動的，并且針式噴嘴2朝向收集裝置4，將紡絲液通過溶液通道注入出液腔內(nèi)并到達針式噴嘴2頂端，紡絲液在針式噴嘴2、收集裝置4所形成的誘導(dǎo)電場下產(chǎn)生誘導(dǎo)射流，誘導(dǎo)射流被誘導(dǎo)至收集裝置4形成纖維。這種紡絲方法和紡絲結(jié)構(gòu)能夠持續(xù)而不間斷地進行紡絲。

以下通過電場仿真來將實施例中的靜電紡絲噴頭與在平面上呈線性陣列布置以及平面上三角形線性陣列布置的噴頭進行對比。

仿真參數(shù)如下：針式噴嘴2直徑2mm，噴嘴端部至圓柱面的高度為15mm，在如圖3所示的俯視圖（水平投影）中，相鄰噴嘴投影點的間距為20mm，噴嘴材料為不銹鋼，圓柱面的直徑為100mm，長度為220mm，材料為不銹鋼。圓柱面頂線距離收集裝置距離為115mm，收集裝置寬為180mm，長為240mm，厚為2mm，材料為鋁。仿真軟件為comsol，仿真電壓為50kv。所取電場均為噴嘴尖端1mm處電場。

對比仿真的噴嘴61在平面6上成三排線性陣列布置，如圖5所示。噴嘴61直徑2mm，噴嘴端部至平面6的高度為15mm，相鄰噴嘴間距為20mm，材料為不銹鋼。噴嘴61的頂端離并未圖示的收集裝置距離為100mm，收集裝置寬為180mm，長為240mm，厚為2mm，材料為鋁。仿真軟件為comsol，仿真電壓為50kv；所取電場均為噴嘴尖端1mm處電場。

如圖6所示，對比仿真的噴嘴51在平面5上呈三角形軸對稱間隔陣列布置，該布置所形成圖形與本靜電紡絲噴頭各連接孔在水平投影面上投影所上形成的圖形一致。噴嘴51直徑2mm，噴嘴端部至平面5的高度為15mm，相鄰噴嘴間距為20mm，材料為不銹鋼。噴嘴51的頂端離并未圖示的收集裝置距離為100mm，收集裝置寬為180mm，長為240mm， 厚為2mm，材料為鋁。仿真軟件為comsol，仿真電壓為50kv；所取電場均為噴嘴尖端1mm處電場。

對比圖7、圖8和圖9為仿真結(jié)果，圖9中相鄰針式噴嘴的電場強度相差較小；而圖7和圖8所示，相鄰噴嘴的電場強度差距明顯比圖9中的大。因此采用本實施例靜電紡絲噴頭所獲得的電場更均勻。

以上所述只是本發(fā)明優(yōu)選的實施方式，其并不構(gòu)成對本發(fā)明保護范圍的限制。