本申請(qǐng)是申請(qǐng)日為2015年7月24日、發(fā)明名稱為“氣流紡紗裝置用引紗裝置、噴氣織機(jī)用引紗裝置及引紗方法”、申請(qǐng)?zhí)枮?01510443570.2的發(fā)明的分案申請(qǐng)。
本發(fā)明屬于氣流紡織、氣流紡紗技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種氣流紡紗裝置用引紗裝置、噴氣織機(jī)用引紗裝置及引紗方法。
背景技術(shù):
在現(xiàn)代紡織業(yè)中,利用氣流牽引來(lái)完成紡紗和織造越來(lái)越廣泛。
目前在紡紗技術(shù)中利用氣流牽引紡紗的方法主要有噴氣紡紗以及渦流紡紗技術(shù)。噴氣紡是利用高速旋轉(zhuǎn)氣流使紗條加捻成紗的一種新型紡紗方法,采用棉條喂入,四羅拉雙短膠圈超大牽伸,經(jīng)固定噴嘴加捻成紗。噴氣紡的特點(diǎn)是:紡紗速度高、工藝流程短、產(chǎn)品質(zhì)量好、品種適應(yīng)廣。渦流紡紗是利用固定不動(dòng)的渦流紡紗管,來(lái)代替高速回轉(zhuǎn)的紡紗杯進(jìn)行紡紗的一種新型紡紗方法,纖維條由給棉羅拉喂入,經(jīng)過(guò)刺輥開(kāi)松成單纖維,借助氣流的作用,從輸棉管道高速喂入渦流管內(nèi);當(dāng)旋轉(zhuǎn)向上的氣流到達(dá)芯管時(shí),與輸棉管道進(jìn)入的纖維匯合,沿渦流管內(nèi)壁形成一個(gè)凝聚纖維環(huán),穩(wěn)定地圍繞渦流管軸線,高速回轉(zhuǎn),將纖維加捻成紗。渦流紡紗的優(yōu)勢(shì)在于:速度快、產(chǎn)量高、工藝流程短、制成率高、操作簡(jiǎn)單、接頭方便等優(yōu)點(diǎn)。
在織造業(yè)中,噴氣織機(jī)在幾種無(wú)梭織機(jī)中是車速最高的一種,由于引緯方式合理,入緯率較高,運(yùn)轉(zhuǎn)操作簡(jiǎn)便安全,具有品種適應(yīng)性較廣、織機(jī)物料消耗少、紡織效率高、車速高等優(yōu)點(diǎn),已成為最具發(fā)展前途的新型織機(jī)之一。其工作原理是利用空氣作為引緯介質(zhì),以噴射出的壓縮高速氣流對(duì)緯紗產(chǎn)生的摩擦力進(jìn)行牽引,將緯紗帶過(guò)梭口,通過(guò)噴氣產(chǎn)生的射流來(lái)達(dá)到引緯的目的。
但是不管是在氣流牽引紡紗還是噴氣織機(jī)中,極高的空氣消耗及能源消耗量以及空氣動(dòng)力噪音等問(wèn)題是目前存在的主要缺點(diǎn)。針對(duì)這些缺陷人們展開(kāi)了大量的研究與改進(jìn)工作,以噴氣織機(jī)為例,其研究的重點(diǎn)主要集中在通過(guò)改變主噴嘴以及輔助噴嘴的幾何結(jié)構(gòu)參數(shù),如主噴嘴的直徑尺寸、加速管長(zhǎng)度等來(lái)提高射流速度來(lái)達(dá)到省氣、節(jié)能及提高織機(jī)效率的目的。但是,這種方法需要更換紡紗裝置或織機(jī)的噴嘴,甚至引紗機(jī)構(gòu)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
有鑒于此,本發(fā)明的目的在于提供一種氣流紡紗裝置用引紗裝置、噴氣織機(jī)用引紗裝置及引紗方法,本發(fā)明提供的引紗裝置無(wú)需更換噴嘴即可獲得較大的氣流牽引力,能夠提高紡織效率,降低設(shè)備噪音。
本發(fā)明提供了一種提高纖維氣流牽引力的氣流紡紗裝置用引紗裝置,包括:
等離子體處理器和與所述等離子體處理器的纖維出口相連的纖維氣流牽引裝置;
所述等離子體處理器用于對(duì)纖維進(jìn)行等離子體處理。
優(yōu)選的,還包括試劑涂覆裝置,所述試劑涂覆裝置的纖維出口與所述等離子體處理器的纖維入口相連通。
優(yōu)選的,所述等離子體處理器包括:
石英管反應(yīng)器,所述石英管反應(yīng)器上設(shè)置有纖維入口和纖維出口;
設(shè)置在所述石英管反應(yīng)器內(nèi)壁上的放電電極;
設(shè)置在所述石英管反應(yīng)器外壁上的接地電極;
分別與所述放電電極和接地電極相連接的等離子體發(fā)生電源;
或者,所述等離子體處理器包括:等離子體發(fā)生器和與所述等離子體發(fā)生器的等離子體出口相連通的等離子體氣氛處理器;
所述等離子體氣氛處理器上設(shè)置有纖維入口和纖維出口。
優(yōu)選的,所述纖維氣流牽引裝置為喂入裝置。
本發(fā)明提供的氣流紡紗裝置用引紗裝置包括等離子體處理器和與所述等離子體處理器的纖維出口相連的纖維氣流牽引裝置。待紡纖維首先經(jīng)過(guò)等離子體氣氛處理后再通過(guò)纖維氣流牽引裝置進(jìn)入牽伸裝置、加捻裝置等被加工成紗,采用等離子體對(duì)待紡纖維進(jìn)行處理能夠改變纖維表面分子化學(xué)特性,從而提高纖維的氣流牽引力,進(jìn)而提高紡織效率、降低噴嘴牽引氣流消耗,同時(shí)降低噪音。另外,本申請(qǐng)?zhí)峁┑难b置直接在纖維氣流牽引裝置之前設(shè)置等離子體處理器即可,無(wú)需對(duì)原有紡紗裝置進(jìn)行改造。且本發(fā)明提供的引紗裝置可實(shí)現(xiàn)在線處理,無(wú)需停機(jī)。
本發(fā)明還提供了一種提高紗線氣流牽引力的噴氣織機(jī)用引紗裝置,包括:等離子體處理器和與所述等離子體處理器的紗線出口相連的氣流引紗裝置;
所述等離子體處理器用于對(duì)紗線進(jìn)行等離子體處理。
優(yōu)選的,還包括試劑涂覆裝置,所述試劑涂覆裝置的紗線出口與所述等離子體處理器的紗線入口相連通。
優(yōu)選的,所述等離子體處理器包括:
石英管反應(yīng)器,所述石英管反應(yīng)器上設(shè)置有紗線入口和紗線出口;
設(shè)置在所述石英管反應(yīng)器內(nèi)壁上的放電電極;
設(shè)置在所述石英管反應(yīng)器外壁上的接地電極;
分別與所述放電電極和接地電極相連接的等離子體發(fā)生電源。
或者,
所述等離子體處理器包括:等離子體發(fā)生器和與所述等離子體發(fā)生器的等離子體出口相連通的等離子體氣氛處理器;
所述等離子體氣氛處理器上設(shè)置有紗線入口和紗線出口。
本發(fā)明還提供了一種提高纖維氣流牽引力的氣流紡紗方法,包括:
將待紡纖維經(jīng)過(guò)等離子體氣氛處理后進(jìn)行氣流紡紗,得到紗線。
優(yōu)選的,所述等離子體氣氛由等離子體處理器提供;
所述等離子體處理器包括:
石英管反應(yīng)器,所述石英管反應(yīng)器上設(shè)置有纖維入口和纖維出口;
設(shè)置在所述石英管反應(yīng)器內(nèi)壁上的放電電極;
設(shè)置在所述石英管反應(yīng)器外壁上的接地電極;
分別與所述放電電極和接地電極相連接的等離子體發(fā)生電源。
本發(fā)明還提供了一種提高紗線氣流牽引力的噴氣織造方法,包括:
將待織紗線經(jīng)過(guò)等離子體氣氛處理后進(jìn)行噴氣織造,得到織物。
本發(fā)明提供的噴氣織機(jī)用引紗裝置包括等離子體處理器和與所述等離子體處理器的紗線出口相連的紗線牽引裝置。待織紗線首先經(jīng)過(guò)等離子體氣氛處理后再通過(guò)氣流引紗裝置進(jìn)入織造工序被加工成織物,采用等離子體對(duì)待織紗線進(jìn)行處理能夠改變紗線表面分子化學(xué)特性,從而提高紗線的氣流牽引力,進(jìn)而提高紡織效率、降低噴嘴牽引氣流消耗,同時(shí)降低噪音。另外,本申請(qǐng)?zhí)峁┑难b置直接在氣流引紗裝置之前設(shè)置等離子體處理器即可,無(wú)需對(duì)原有織機(jī)進(jìn)行改造。且本發(fā)明提供的引紗裝置可實(shí)現(xiàn)在線處理,無(wú)需停機(jī)處理。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,本發(fā)明提供的引紗裝置能夠?qū)⒓喚€的最大氣流牽引力增加5%以上,甚至20%以上。
附圖說(shuō)明
為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見(jiàn)地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。
圖1為本發(fā)明實(shí)施例1提供的噴氣織機(jī)用引紗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本發(fā)明實(shí)施例2提供的噴氣織機(jī)用引紗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為本發(fā)明實(shí)施例3提供的噴氣織機(jī)用引紗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面將對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒景l(fā)明中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
本發(fā)明提供了一種噴氣織機(jī)用引紗裝置,包括:等離子體處理器和與所述等離子體處理器的紗線出口相連的氣流引紗裝置。
參見(jiàn)圖1,圖1為本發(fā)明實(shí)施例1提供的噴氣織機(jī)用引紗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖,其中,1為等離子體處理器,2為氣流引紗裝置。
所述噴氣織機(jī)用引紗裝置包括等離子體處理器1,等離子體處理器1的作用在于采用等離子體氣氛對(duì)待織紗線進(jìn)行處理,使待織紗線表面分子改性,從而提高紗線的氣流牽引力。
在一個(gè)實(shí)施例中,等離子體處理器1在產(chǎn)生等離子體的同時(shí)對(duì)紗線進(jìn)行處理,其具體包括:
石英管反應(yīng)器11,所述石英管反應(yīng)器上設(shè)置有紗線入口12和紗線出口13;
設(shè)置在所述石英管反應(yīng)器內(nèi)壁上的放電電極14;
設(shè)置在所述石英管反應(yīng)器外壁上的接地電極15;
分別與所述放電電極和接地電極相連接的等離子體發(fā)生電源16。
在本發(fā)明中,石英管反應(yīng)器11內(nèi)壁上設(shè)置有放電電極14,外壁設(shè)置有接地電極15,放電電極14與等離子體發(fā)生電源16的高壓輸出端相連,接地電極15與等離子體發(fā)生電源16的接地電極相連。放電電極14和接地電極15平行設(shè)置,通過(guò)高壓放電產(chǎn)生等離子體,使石英管反應(yīng)器11內(nèi)部充滿等離子體。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中,放電電極14和接地電極15的間距可以為5mm~15mm,優(yōu)選為8mm。在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例中,放電電極14和接地電極15均為不銹鋼絲網(wǎng)電極。石英管反應(yīng)器11上設(shè)置有紗線入口12和紗線出口13,紗線由紗線入口12進(jìn)入石英管反應(yīng)器11在等離子體氣氛中被處理后經(jīng)由紗線出口13進(jìn)入下一工序。
為安全起見(jiàn),在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例中,還包括容納石英管反應(yīng)器11的石英管保護(hù)罩17。
在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例中,還包括設(shè)置于石英管保護(hù)罩17外部或者石英管反應(yīng)器11外部的散熱器18,用于對(duì)石英管反應(yīng)器11進(jìn)行散熱。散熱器18可以是散熱風(fēng)扇,本發(fā)明對(duì)此并無(wú)特殊限制。
在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例中,還包括支架,支架的作用在于支持石英管反應(yīng)器11。
在另一個(gè)實(shí)施例中,等離子體處理器1包括等離子體發(fā)生器21和與所述等離子體發(fā)生器的等離子體出口相連通的等離子體氣氛處理器22;
所述等離子體氣氛處理器22上設(shè)置有紗線入口和紗線出口。
參見(jiàn)圖2,圖2為本發(fā)明實(shí)施例2提供的噴氣織機(jī)用引紗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。其中,21為等離子體發(fā)生器,22為等離子體氣氛處理器,2為氣流引紗裝置。
等離子體發(fā)生器21用于產(chǎn)生等離子體,并將等離子體輸入等離子體氣氛處理器22中對(duì)紗線進(jìn)行處理。
等離子發(fā)生器21包括:
石英管反應(yīng)器211,所述石英管反應(yīng)器上設(shè)置有等離子體出口212;
設(shè)置在所述石英管反應(yīng)器內(nèi)壁上的放電電極213;
設(shè)置在所述石英管反應(yīng)器外壁上的接地電極214;
分別與所述放電電極和接地電極相連接的等離子體發(fā)生電源215。
在本發(fā)明中,石英管反應(yīng)器211內(nèi)壁上設(shè)置有放電電極213,外壁設(shè)置有接地電極214,放電電極213與等離子體發(fā)生電源215的高壓輸出端相連,接地電極214與等離子體發(fā)生電源215的接地電極相連。放電電極213和接地電極214平行設(shè)置,通過(guò)高壓放電產(chǎn)生等離子體,并通過(guò)等離子體出口212輸送至等離子體氣氛處理器22中。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中,放電電極213和接地電極214的間距可以為5mm~15mm,優(yōu)選為8mm。在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例中,放電電極213和接地電極214均為不銹鋼絲網(wǎng)電極。
在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例中,還包括設(shè)置于石英管反應(yīng)器211外部的散熱器216,用于對(duì)石英管反應(yīng)器211進(jìn)行散熱。散熱器216可以是散熱風(fēng)扇,本發(fā)明對(duì)此并無(wú)特殊限制。
在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例中,還包括支架,支架的作用在于支持石英管反應(yīng)器211。
等離子體氣氛處理器22上設(shè)置有等離子體入口221、紗線入口222和紗線出口223。等離子體發(fā)生器22產(chǎn)生的等離子體進(jìn)入等離子體氣氛處理器22中,紗線由紗線入口222進(jìn)入等離子體氣氛處理器中被等離子體處理,再由紗線出口223進(jìn)入下一工序。
在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例中,所述等離子體處理器可以為等離子體氣氛處理器,包括等離子體入口、紗線入口和紗線出口,等離子體可以由其他設(shè)備提供。
本發(fā)明提供的噴氣織機(jī)用引紗裝置還包括氣流引紗裝置,本發(fā)明對(duì)其具體結(jié)構(gòu)沒(méi)有特殊限制。紗線經(jīng)過(guò)等離子體處理后,其氣流牽引力獲得較大提高,從而能夠降低紗線牽引裝置氣流消耗、降低能耗,同時(shí)降低噪音。
在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中,還包括試劑涂覆裝置,參見(jiàn)圖3,圖3為本發(fā)明實(shí)施例3提供的噴氣織機(jī)用引紗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖,1為等離子體處理器,2為氣流引紗裝置,3為試劑涂覆裝置。
所述試劑涂覆裝置的紗線出口與所述等離子體處理器的紗線入口相連通。試劑涂覆裝置的作用在于在紗線表面涂覆化學(xué)試劑,實(shí)現(xiàn)對(duì)紗線的改性,例如可以對(duì)紗線涂覆苯胺,苯胺在等離子體氣氛中實(shí)現(xiàn)聚合,形成聚苯胺涂層。
本發(fā)明還提供了一種織造方法,包括:
將待織紗線經(jīng)過(guò)等離子體氣氛處理后進(jìn)行織造,得到織物。
本發(fā)明首先將待織紗線經(jīng)過(guò)等離子體氣氛處理,使待織紗線表面成為親水性表面,然后對(duì)其進(jìn)行織造,獲得織物。本發(fā)明對(duì)所述等離子體氣氛處理的具體參數(shù)沒(méi)有任何限制,不損傷紗線力學(xué)性能、將其表面處理為親水性表面即可。本發(fā)明對(duì)所述織造方法也沒(méi)有限制,按照本領(lǐng)域技術(shù)人員熟知的方法進(jìn)行織造即可。
在本發(fā)明中,待織紗線首先經(jīng)過(guò)等離子體氣氛處理后再通過(guò)紗線牽引裝置進(jìn)入織造工序被加工成織物,采用等離子體對(duì)待織紗線進(jìn)行處理能夠改變紗線表面分子化學(xué)特性,從而提高紗線的氣流牽引力,進(jìn)而提高紡織效率、降低噴嘴牽引氣流消耗,同時(shí)降低噪音。另外,本申請(qǐng)?zhí)峁┑难b置直接在紗線牽引裝置之前設(shè)置等離子體處理器即可,無(wú)需對(duì)原有織機(jī)進(jìn)行改造。且本發(fā)明提供的引紗裝置可實(shí)現(xiàn)在線處理,無(wú)需停機(jī)處理。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,本發(fā)明提供的引紗裝置能夠?qū)⒓喚€的最大氣流牽引力增加5%以上。
本發(fā)明還提供了一種氣流紡紗裝置用引紗裝置,包括:
等離子體處理器和與所述等離子體處理器的纖維出口相連的纖維氣流牽引裝置。
與上述技術(shù)方案所述的噴氣織機(jī)用引紗裝置相比,所述氣流紡紗裝置用引紗裝置的區(qū)別在于是對(duì)待紡纖維進(jìn)行處理,即與等離子體處理器的纖維出口相連的是纖維氣流牽引裝置,可以為喂入裝置。等離子體處理器可以參見(jiàn)上文所述的等離子體處理器,本發(fā)明在此不再贅述。
本發(fā)明還提供了一種紡紗方法,包括:
將待紡纖維經(jīng)過(guò)等離子體氣氛處理后進(jìn)行紡紗,得到紗線。
本發(fā)明提供的氣流紡紗裝置用引紗裝置包括等離子體處理器和與所述等離子體處理器的纖維出口相連的纖維氣流牽引裝置。待紡纖維首先經(jīng)過(guò)等離子體氣氛處理后再通過(guò)纖維氣流牽引裝置進(jìn)入牽伸裝置、加捻裝置等被加工成紗,采用等離子體對(duì)待紡纖維進(jìn)行處理能夠改變纖維表面分子化學(xué)特性,從而提高纖維的氣流牽引力,進(jìn)而提高紡織效率、降低噴嘴牽引氣流消耗,同時(shí)降低噪音。另外,本申請(qǐng)?zhí)峁┑难b置直接在纖維氣流牽引裝置之前設(shè)置等離子體處理器即可,無(wú)需對(duì)原有紡紗裝置進(jìn)行改造。且本發(fā)明提供的引紗裝置可實(shí)現(xiàn)在線處理,無(wú)需停機(jī)。
以下結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明提供的引紗裝置、紡紗方法及織造方法進(jìn)行詳細(xì)描述。
實(shí)施例1
參見(jiàn)圖1,本實(shí)施例提供的引紗裝置包括等離子處理器1和氣流引紗裝置2,其中,等離子體處理器1包括:規(guī)格為400mm*10mm*10mm的石英管反應(yīng)器,其壁厚為2mm;設(shè)置在石英管反應(yīng)器外壁上的不銹鋼絲網(wǎng)接地電極,規(guī)格為300mm*10mm;設(shè)置在石英管反應(yīng)器內(nèi)壁上的不銹鋼絲網(wǎng)放電電極,尺寸為300mm*2mm;分別與接地電極和放電電極相連的等離子體發(fā)生電源;接地電極和放電電極的間距為8mm;等離子體處理器兩端分別設(shè)置有紗線入口和紗線出口。
實(shí)施例2
參見(jiàn)圖2,本實(shí)施例提供的引紗裝置包括等離子處理器1和氣流引紗裝置2,其中,等離子體處理器1包括等離子體發(fā)生器21和等離子體氣氛處理器22;等離子體發(fā)生器21包括:規(guī)格為400mm*10mm*10mm的石英管反應(yīng)器,其壁厚為2mm;設(shè)置在石英管反應(yīng)器外壁上的不銹鋼絲網(wǎng)接地電極,規(guī)格為300mm*10mm;設(shè)置在石英管反應(yīng)器內(nèi)壁上的不銹鋼絲網(wǎng)放電電極,尺寸為300mm*2mm;分別與接地電極和放電電極相連的等離子體發(fā)生電源;接地電極和放電電極的間距為8mm;等離子體發(fā)生器一端設(shè)置有等離子體出口;等離子體氣氛處理器22兩端分別設(shè)置有紗線入口和紗線出口,并設(shè)置有等離子體入口。
實(shí)施例3
參見(jiàn)圖3,本實(shí)施例提供的引紗裝置包括等離子處理器1、氣流引紗裝置2和試劑涂覆裝置3,其中,等離子體處理器1包括:規(guī)格為400mm*10mm*10mm的石英管反應(yīng)器,其壁厚為2mm;設(shè)置在石英管反應(yīng)器外壁上的不銹鋼絲網(wǎng)接地電極,規(guī)格為300mm*10mm;設(shè)置在石英管反應(yīng)器內(nèi)壁上的不銹鋼絲網(wǎng)放電電極,尺寸為300mm*2mm;分別與接地電極和放電電極相連的等離子體發(fā)生電源;接地電極和放電電極的間距為8mm;等離子體處理器兩端分別設(shè)置有紗線入口和紗線出口。
實(shí)施例4
將滌綸紗線(150d/288f)在實(shí)施例1公開(kāi)的等離子體處理器中、在表1所示電源電壓下處理30s后采用張力計(jì)法測(cè)定其張力,結(jié)果參見(jiàn)表1,表1為本發(fā)明實(shí)施例4和5提供的紗線氣流牽引力應(yīng)變值。
實(shí)施例5
將腈綸紗線(32s/2)在實(shí)施例1公開(kāi)的等離子體處理器中、在表1所示電源電壓下處理30s后采用張力計(jì)法測(cè)定其張力,結(jié)果參見(jiàn)表1,表1為本發(fā)明實(shí)施例4和5提供的紗線氣流牽引力應(yīng)變值。
表1本發(fā)明實(shí)施例4和5提供的紗線氣流牽引力應(yīng)變值
由表1可知,經(jīng)過(guò)等離子體氣氛處理后,腈綸紗線的氣流牽引力均有提高,最大氣流牽引力相對(duì)增加6%;在電源電壓32~34v時(shí),滌綸紗線的氣流牽引力也有提高,最大氣流牽引力相對(duì)增加24.5%。
實(shí)施例6
將滌綸紗線(150d/288f)在實(shí)施例2公開(kāi)的等離子體處理器中、在表1所示電源電壓下處理30s后采用張力計(jì)法測(cè)定其張力,結(jié)果參見(jiàn)表2,表2為本發(fā)明實(shí)施例6和7提供的紗線氣流牽引力應(yīng)變值。
實(shí)施例7
將腈綸紗線(32s/2)在實(shí)施例2公開(kāi)的等離子體處理器中、在表2所示電源電壓下處理30s后采用張力計(jì)法測(cè)定其張力,結(jié)果參見(jiàn)表2,表2為本發(fā)明實(shí)施例6和7提供的紗線氣流牽引力應(yīng)變值。
表2本發(fā)明實(shí)施例6和7提供的紗線氣流牽引力應(yīng)變值
由表2可知,滌綸紗線經(jīng)過(guò)等離子體氣氛處理后,其氣流牽引力有所提高,最大氣流牽引力相對(duì)增加13.2%;腈綸紗線經(jīng)過(guò)等離子體氣氛處理后,氣流牽引力也有所提高,最大氣流牽引力相對(duì)增加7.1%。
實(shí)施例8
采用實(shí)施例3公開(kāi)的裝置進(jìn)行處理:
將滌綸紗線(150d/288f)首先在試劑涂覆裝置中涂覆苯胺單體,然后進(jìn)入等離子體處理器中在表3所示電源電壓下處理30s后采用張力計(jì)法測(cè)定其張力,結(jié)果參見(jiàn)表3,表3為本發(fā)明實(shí)施例8和9提供的紗線氣流牽引力應(yīng)變值。
實(shí)施例9
采用實(shí)施例3公開(kāi)的裝置進(jìn)行處理:
將腈綸紗線(32s/2)首先在試劑涂覆裝置中涂覆苯胺單體,然后進(jìn)入等離子體處理器中在表3所示電源電壓下處理30s后采用張力計(jì)法測(cè)定其張力,結(jié)果參見(jiàn)表3,表3為本發(fā)明實(shí)施例8和9提供的紗線氣流牽引力應(yīng)變值。
表3本發(fā)明實(shí)施例8和9提供的紗線氣流牽引力應(yīng)變值
由表3可知,經(jīng)過(guò)聚苯胺修飾和等離子體氣氛處理后,滌綸紗線在32~36v電源電壓下氣流牽引力均有提高,最大氣流牽引力相對(duì)增加20.7%;腈綸紗線在30~36v電源電壓下氣流牽引力也均有提高,最大氣流牽引力相對(duì)增加9.2%。
以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式,應(yīng)當(dāng)指出,對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō),在不脫離本發(fā)明原理的前提下,還可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾,這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。