到的陽(yáng)離子P0M分散劑是強(qiáng)酸性 的。因此，陽(yáng)離子P0M分散劑具有《2. 5的抑（例如，從約2至約2. 5的抑)。
[0086] 在各種實(shí)施方案中，陽(yáng)離子P0M分散劑由至少約30wt. %或至少約45wt. %的晶狀 S水合氧化侶顆粒但是不大于約60wt. %或不大于約55wt. %的晶狀S水合氧化侶顆粒組 成，并且余量主要地或唯一地為聚氯化侶（PAC-K和/或PAC-K13)。在該種情況下，PAC-K 和/或PAC-K13的量包括除固體（不揮發(fā)的）組分之外還存在于PAC-K和/或PAC-K13中 的水的重量。通常，存在于PAC-K和/或PAC-K13中的水的量為約65wt. %至約75wt. %，但 是更普遍地，水含量可W為從約55wt. %至約85wt. %。在某些實(shí)施方案中，陽(yáng)離子P0M分散 劑的特征為；基本上由或由晶狀S水合氧化侶顆粒與PAC-K和/或PAC-K13組成，該P(yáng)AC-K 和/或PAC-K13包括通常存在于為制備陽(yáng)離子P0M分散劑所采用的聚氯化侶中的水。例如， 當(dāng)PAC-K和/或PAC-K13包含約65wt. %至約75wt. %的水，陽(yáng)離子P0M分散劑可W分別包 含約 30wt. % 至約 60wt. % 的ATH和約 40wt. % 至約 70wt. % 的PAC-K和 / 或PAC-K13 (總 計(jì)100%，包含存在于PAC中的水），或約45wt. %至約55wt. %的ATH和約45wt. %至約 55wt. %的PAC-K和/或PAC-K13 (總計(jì)100 %，包含存在于PAC中的水），或49wt. %至約 51wt. %的ATH和約49wt. %至約51wt. %的PAC-K和/或PAC-K13 (總計(jì)100%，包含存在 于PAC中的水）。在一個(gè)實(shí)施方案中，陽(yáng)離子POM分散劑不含有機(jī)聚合物。
[0087] 陽(yáng)離子P0M分散劑通過使ATH與PAC-K和/或PAC-K13結(jié)合來制備。根據(jù)本發(fā)明 的一個(gè)實(shí)施方案，將ATH緩慢地加入PAC-K和/或PAC-K13,同時(shí)混合（通過攬拌，例如，使 用高速混合或進(jìn)行其他徹底的攬動(dòng)W確保得到的產(chǎn)物中的良好的均勻性）。得到的產(chǎn)物可 W在制備水性漿料（即，在水中的漿料）中被用作有效的分散劑，該水性漿料包含諸如另外 的ATH顆粒和/或二氧化鐵顆粒的無機(jī)微粒，如在下文中更詳細(xì)地描述。
[008引在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案中，陽(yáng)離子P0M分散劑可W使用約30wt.%至約60wt.% 的晶狀S水合氧化侶顆粒和約40wt.%至約70wt.%的PAC-K和/或PAC-K13來制備，其中 PAC-K和/或PAC-K13由從約65wt.%至約75wt.%的水和從約25wt.%至約35wt.%的固 體組成。在該種情況下，"固體"意指不揮發(fā)的PAC-K和/或PAC-K13的組分，應(yīng)理解，PAC-K 和/或PAC-K13自身可W是溶液的形式，不揮發(fā)的組分實(shí)質(zhì)上或完全地溶于水W提供溶液。 在另一個(gè)實(shí)施方案中，陽(yáng)離子P0M分散劑使用約45wt.%至約55wt.%的晶狀S水合氧化侶 顆粒和約45wt.%至約55wt.%的PAC-K和/或PAC-K13來制備，其中PAC-K和/或PAC-K13 由從約65wt.%至約75wt.%的水和從約25wt.%至約35wt.%的固體組成。
[0089] 含有陽(yáng)離子P0M分散劑的陽(yáng)離子S水合氧化侶（ATH+)漿料
[0090] 本發(fā)明的陽(yáng)離子P0M分散劑可W與S水合氧化侶顆粒中的一種或更多種另外的 部分結(jié)合W形成漿料，且陽(yáng)離子P0M分散劑起分散另外的ATH顆粒，W便甚至在相當(dāng)高的固 體含量下提供更穩(wěn)定、相對(duì)低粘度的漿料的作用。例如，ATH+漿料的總固體含量可W為約 50wt.%或更大、或約65wt.%或更大。一般而言，固體含量不超過約85wt.%。在本發(fā)明的 各種實(shí)施方案中，ATH+漿料具有約65wt.%至約84wt.%的固體含量。如在本文件中別處更 詳細(xì)地描述的，固體含量可W變化并選擇為可W期望滿足對(duì)ATH+漿料的特定最終用途應(yīng)用 的要求。
[00川與陽(yáng)離子P0M分散劑結(jié)合W提供ATH+漿料的另外的ATH顆?？蒞與用于制備陽(yáng) 離子P0M分散劑的ATH顆粒相同或不同。例如，另外的ATH可W是顏料級(jí)ATH，可W具有從 約0. 3mVg至約lOmVg的表面積，并且可W具有S水侶礦晶形。平均粒度通常為至少約0. 1 微米或至少約0. 2微米，W便當(dāng)漿料具有高固體含量時(shí)使高觸變性問題最小化，但是平均 粒度一般不大于約10微米。為了降低可能W其他方式被觀察到的漿料的沉降程度，ATH的 平均粒度不超過約2微米可W是有利的。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案中，另外的ATH顆粒具 有比在陽(yáng)離子P0M分散劑的制備中利用的微粒狀A(yù)TH的平均粒度大的平均粒度。例如，作 為陽(yáng)離子P0M分散劑的一部分存在的ATH顆?？蒞具有從約0. 2微米至約0. 5微米的平均 粒度，并且與陽(yáng)離子P0M分散劑結(jié)合的另外的ATH顆?？蒞具有從約0. 8微米至約1. 5微 米的平均粒度。適合于作為本發(fā)明的ATH+漿料中的另外的ATH而使用的顏料級(jí)（顏料的） ATH是可商購(gòu)的，包括例如具有通常約1微米的平均粒度和約4mVg的表面積的J.M.化ber Co巧oration的商標(biāo)產(chǎn)品HYDRAL".' 710。
[0092] 在本發(fā)明的各種實(shí)施方案中，中間物ATH+漿料可W具有按重量計(jì)至少50%的ATH 固體含量和按重量計(jì)至多約70%、例如按重量計(jì)約67% -68%的ATH。研磨固體為74%至 84%的固體，或約77%至78%的固體。隨著ATH加入陽(yáng)離子P0M分散劑和水，因混合期間 的熱釋放而產(chǎn)生的研磨溫度不應(yīng)超過80°C，并且在一個(gè)方面可W保持小于70°C。研磨后的 溫度上升通過在"膨脹物研磨"后水夾套冷卻和/或稀釋水添加來控制。
[0093] 中間物ATH+漿料膨脹物研磨通過增加混合器考雷斯葉片（mixercowlesblade) rpm而獲得74%的固體，W致漿料由于葉片尖端處的高剪切而變稠。更慢的混合器考雷斯 葉片速度允許固體更高度地研磨直到漿料變得濃縮為止，通常為75% -80%的固體。在研 磨過程期間，攬拌軸可W猛烈振動(dòng)直到ATH團(tuán)聚體在漿料中分散并且被整流為止。
[0094] 調(diào)整干燥ATH顏料添加的比率W保持濕潤(rùn)對(duì)在研磨后制造低粘度、良好分散的漿 料是重要的。理想地，攬拌機(jī)葉片的高度最初從槽的底部調(diào)整，W致膨脹的ATH+漿料在移 動(dòng)著的攬拌器的底部與槽的底部之間不被卡住。另外，理想地，移動(dòng)著的攬拌器葉片的尖端 必須距槽的壁足夠遠(yuǎn)，W致膨脹的顏料在槽的壁處不剪切增稠。當(dāng)攬拌器葉片直徑、高rpm 和/或高固體量被調(diào)節(jié)時(shí)，經(jīng)歷槽的過度振動(dòng)，W致膨脹的研磨區(qū)接觸壁。引起膨脹行為的 漿料剪切速率由本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員使用流變儀容易地確定。
[0095] 有效的膨脹研磨要求保持禍流，同時(shí)在顏料粉末添加期間升高漿料的水平面。禍 流可W通過增加攬拌器rpm、調(diào)整葉片的直徑和/或在混合期間升高攬拌器葉片的高度來 保持。任選地，可W使用堆疊在彼此的頂部上的多個(gè)葉片。在一個(gè)方面，混合槽壁是圓柱形 的、不具有壁裝式擋板，該壁裝式擋板將產(chǎn)生可能積聚未研磨的漿料的盲區(qū)。在壁處不充分 混合的混合研磨槽可W在膨脹的漿料研磨期間被周期性地刮落W防止堆積物積聚在壁上。 顏料的快速添加可能達(dá)到74%的固體，隨后較慢的添加W確保所添加的所有粉末直接落入 禍流中而不聚集。攬拌器電動(dòng)機(jī)安培數(shù)被監(jiān)測(cè)W防止電動(dòng)機(jī)超負(fù)荷和過熱。"設(shè)計(jì)攬拌器 馬力"被定義為保持膨脹物研磨禍流，使得在顏料研磨期間在軸處的攬拌器葉片的連接部 仍可W看到80%的固體所要求的馬力。如果禍流消失并且漿料水平面覆蓋葉片，那么該葉 片將在固體狀的洞中旋轉(zhuǎn)而無表面混合，產(chǎn)生被稱為老鼠洞的現(xiàn)象。由于加速的顏料添加 而得到的未研磨的顏料導(dǎo)致不合需要的寬的粒度分布。
[0096] 當(dāng)蒸汽從研磨槽的表面釋放時(shí)，固體百分比由于水蒸發(fā)而可W上升超過已計(jì)算的 分批添加計(jì)算值。理想地，停止顏料添加并且繼續(xù)研磨持續(xù)最少5分鐘或直到流體禍流形 成而不超過80°C為止，之后用稀釋水冷卻。重要地，防止?jié){料變得太熱，因?yàn)檎扯葘⒂捎跓?老化而增大。緩慢地添加稀釋水，W便降低漿料粘度但是提供足夠的剪切W打碎膨脹物塊。 向68% -70%的固體直接地快速添加水產(chǎn)生了分散于低粘度漿料中的小膨脹物塊，該小膨 脹物塊隨后堵塞325目與100目之間的細(xì)網(wǎng)過濾器。
[0097] 在制備本發(fā)明的ATH+漿料和其他漿料中使用的水可W是去離子的。即，水已穿過 離子交換柱W去除可能影響漿料的穩(wěn)定性和其他性能的不需要的離子。在一個(gè)方面，金屬 離子含量應(yīng)該是足夠低的，W便提供如使用ASTM方法D1125測(cè)量的小于5微西口子/厘 米的電導(dǎo)率。
[0098] 在本發(fā)明的一個(gè)方面，提供了中間物ATH+漿料。該樣的組合物可W通過其中稀 釋的P0M分散劑與晶狀S水合氯化侶顆粒（除存在于用于制備稀釋的P0M分散劑的陽(yáng)離 子P0M分散劑中的ATH顆粒之外）結(jié)合的程序來制備。稀釋的P0M分散劑可W通過使約 5wt. %至約14wt. %的本發(fā)明的陽(yáng)離子P0M分散劑與約86wt. %至約95wt. %的水（總計(jì) lOOwt. % )結(jié)合來制備。在另一個(gè)實(shí)施方案中，稀釋的P0M分散劑可W通過使本發(fā)明的陽(yáng) 離子P0M分散劑與W足W在稀釋的P0M分散劑中提供約Iwt. %至約lOwt. %的總ATH固體 含量的量的水結(jié)合來獲得。當(dāng)稀釋的P0M分散劑用于紙級(jí)ATH+漿料中時(shí)，稀釋的P0M分散 劑的總ATH固體含量可W為約3wt. %至約6wt. %。當(dāng)稀釋的P0M分散劑用于油漆級(jí)ATH+ 漿料中時(shí)，稀釋的POM分散劑的總ATH固體含量可W為約Iwt. %至約4wt. %。一定量的除 作為陽(yáng)離子P0M分散劑的一部分存在的晶狀S水合氧化侶顆粒之外的晶狀S水合氧化侶 顆粒（ATH)與有效提供具有約2與約6. 8之間的抑和約74wt. %至約84wt. %的總ATH固 體含量的中間物ATH+漿料的稀釋的P0M分散劑結(jié)合。
[009引中間物ATH+漿料可W被用來提供紙級(jí)ATH+漿料和/或油漆級(jí)ATH+漿料，如在下 文中更詳細(xì)地描述。
[0100] 本發(fā)明在另一個(gè)方面提供了紙級(jí)ATH+漿料，該ATH+漿料包含中間物ATH+漿料和足 W使中間物ATH+漿料稀釋成約70wt. %至約72wt. %的總ATH固體含量的量的水。中間物 ATH+漿料包含稀釋的P0M分散劑，該稀釋的P0M分散劑包含根據(jù)本發(fā)明的陽(yáng)離子P0M分散劑 和足W提供稀釋的P0M分散劑中的約3wt. %至約6wt. %的總ATH固體含量的水，且中間物 ATH+漿料還包含除作為陽(yáng)離子P0M分散劑的一部分存在的晶狀S水合氧化侶顆粒之外的晶 狀S水合氧化侶顆粒（ATH)。中間物ATH+漿料具有從約2至約6. 8的pH和約74wt. %至約 84wt. %的總ATH固體含量。水W足W使中間物ATH+漿料稀釋成約70wt. %至約72wt. %的 總ATH固體含量的量存在。得到的漿料在制造紙時(shí)是有用的（例如，作為還包含紙漿和二氧 化鐵顆粒的水性造紙?jiān)系慕M分，或作為還包含淀粉（例如，己氧基化的淀粉）和任選地包 含聚己締醇和/或諸如水基陽(yáng)離子聚氨醋的陽(yáng)離子粘合劑的施膠壓棒混合物（sizepress mixture)的組分）。
[0101] 此外，由本發(fā)明提供的是油漆級(jí)ATH+漿料。該樣的漿料包含中間物ATH+漿料和水。 中間物ATH+漿料具有從約2至約6. 8的抑和約74wt. %至約84wt. %的總ATH固體含量， 并且包含稀釋的P0M分散劑。稀釋的P0M分散劑包含根據(jù)本發(fā)明的陽(yáng)離子P0M分散劑和W 足W將陽(yáng)離子P0M分散劑稀釋到稀釋的P0M分散劑中的約Iwt. %至約4wt. %的總ATH固 體含量的量的水。中間物ATH+漿料另外包含除作為陽(yáng)離子P0M分散劑的一部分存在的晶 狀=水合氧化侶顆粒之外的晶狀=水合氧化侶（ATH)顆粒。
[010引 陽(yáng)離子Ti化和ATH7Ti化漿料
[0103] 如前面提到的，本發(fā)明的陽(yáng)離子P0M分散劑還可用于制備二氧化鐵顆粒的陽(yáng)離子 漿料（"陽(yáng)離子Ti化漿料"）W及=水合氧化侶顆粒和二氧化鐵顆粒的共混物的陽(yáng)離子漿 料（"ATH7Ti〇2漿料"或"ATH7Ti〇2漿