專利名稱：光信息記錄介質(zhì)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光信息記錄介質(zhì)，特別是涉及熱模式的追加型光信息記錄介質(zhì)。
背景技術(shù)：
迄今，人們知道的是通過激光只能進行一次信息記錄的光信息介質(zhì)(光盤)。所述光盤也稱作追加型CD(所謂的CD-R)，其典型的結(jié)構(gòu)是，在透明的圓盤狀襯底上依次疊層由有機色素構(gòu)成的記錄層、由金等金屬構(gòu)成的光反射層、樹脂材料的保護層而構(gòu)成。另外，向所述CD-R記錄信息是通過向CD-R照射近紅外區(qū)域的激光(通常是780nm附近波長的激光)而進行，記錄層的照射部分吸收所述光而溫度局部上升后，由物理或化學變化(例如生成槽)，該部分的光學特性發(fā)生變化，從而進行信息記錄。另外，信息的讀取(再生)也將和記錄用激光相同波長的激光向CD-R照射，并通過檢測出記錄層中光學特性發(fā)生改變的部位(記錄部分)和沒有發(fā)生改變的部位(未記錄部分)之間反射率的差異而進行。
近年來，需求記錄密度更高的光信息記錄介質(zhì)。響應(yīng)于這種需求，提出的是追加型數(shù)字通用·光盤(所謂DVD-R)(例如[日經(jīng)new media]附刊[DVD]、1995年發(fā)行)。所述DVD-R通常具有，在透明圓盤狀襯底上依次層疊含有機色素的記錄層、光反射層以及保護層后得到的2張盤，以記錄層為內(nèi)側(cè)貼合在一起，或者該盤和具有同樣形狀的圓盤狀保護襯底，以記錄層為內(nèi)側(cè)貼合在一起的結(jié)構(gòu)，其中在所述透明圓盤狀襯底上形成的用于引導(dǎo)照射激光的導(dǎo)向槽(預(yù)刻槽)的寬度小于CD-R導(dǎo)向槽寬1/2(0.74～0.8μm)。并且，通過照射可見激光(通常是630nm～680nm范圍波長的激光)向所述DVD-R記錄信息和再生信息，從而能夠?qū)崿F(xiàn)比CD-R密度更高的記錄。
最近，因特網(wǎng)等的網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)或高清晰度電視迅速地普及起來。另外，也即將實現(xiàn)HDTV(High Definition Television)的放映。在這種形勢下，需要的是能夠便宜簡便地記錄圖象信息的大容量記錄介質(zhì)。目前DVD-R，作為大容量記錄介質(zhì)發(fā)揮著非常重要的作用，但是對大容量化、高密度化要求在不斷提高，而能夠適應(yīng)所述要求的記錄介質(zhì)的開發(fā)也是必須的。因此，正在進行能夠在比DVD-R更短波長的光下進行高密度記錄的容量更大的記錄介質(zhì)的開發(fā)。
例如，在特開平4-74690號公報、特開平7-304256號公報、特開平7-304257號公報、特開平8-127174號公報、特開平11-53758號公報、特開平11-334204號公報、特開平11-334205號公報、特開平11-334206號公報、特開平11-334207號公報、特開2000-43423號公報、特開2000-108513號公報、特開2000-113504號公報、特開2000-149320號公報、特開2000-158818號公報以及特開2000-228028號公報中提出，在記錄層中含有機色素的光信息記錄介質(zhì)中，通過從記錄層側(cè)向光反射層側(cè)，照射波長小于530nm的激光，而進行信息記錄和再生的記錄再生方法。所述這些方法是，通過向在記錄層中含有卟啉化合物、偶氮系色素、金屬偶氮系色素、奎酞酮系色素、三次甲基花青苷色素、二氰乙烯基苯基骨架色素、香豆素化合物、萘酚花青苷色素等的光盤，照射藍色(波長430nm、488nm)或者是青綠色(波長515nm)激光，而進行信息記錄和再生。
但是，本發(fā)明者根據(jù)研究探討明確了以下事實即通過向在所述公報中所記載的光盤，照射波長小于450nm的短波長激光而記錄信息時，無法得到實用上所需要的感度，并且無法滿足反射率或調(diào)制度等其它記錄特性，從而需要進一步的改進。特別是，向在所述公報中所記載的光盤照射波長小于450nm的激光時，確認光盤的記錄特性下降。
另外目前提出，通過在所述公報中所記載的光盤的光反射層中使用銀(Ag)，而進一步提高光盤的反射率。但是，如果在光反射層中使用Ag，將會帶來成本高的問題，并由此在批量生產(chǎn)所述光盤時將成為一個大問題。另外根據(jù)形成條件，會帶來由Ag構(gòu)成的光反射層的耐腐蝕性降低的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于，通過使用由鋁或鋁合金構(gòu)成的光反射層，提供一種成本下降的同時具有優(yōu)異記錄特性的光信息記錄介質(zhì)。
所述目的是通過如下所示的本發(fā)明而完成的。即，本發(fā)明是在形成磁道間距為200～400nm、槽深為10～150nm的槽的襯底上依次設(shè)置光反射層、記錄層和保護層，并且通過從所述保護層側(cè)，照射波長小于500nm的激光而進行記錄和再生的光信息記錄介質(zhì)，其特征在于，所述光反射層是由鋁或鋁合金構(gòu)成。
另外，本發(fā)明的光信息記錄介質(zhì)的光反射層的厚度在20～200nm范圍是理想的，而光反射層的成膜速度在6至95nm/s的范圍是理想的。
具體實施例方式
本發(fā)明是在形成磁道間距為200～400nm、深度為10～150nm的槽的襯底上依次設(shè)置光反射層、記錄層和保護層，并且通過從所述保護層側(cè)，照射波長小于500nm的激光而進行記錄和再生的光信息記錄介質(zhì)，其特征在于，所述光反射層是由鋁或鋁合金構(gòu)成。
下面，詳細說明本發(fā)明的光信息記錄介質(zhì)。[光反射層]光反射層是為了在信息再生時提高反射率而設(shè)置的。本發(fā)明的光反射層需要由比銀(Ag)或金(Au)便宜的鋁或鋁合金構(gòu)成。由鋁或鋁合金構(gòu)成的光反射層，對激光的反射率大于70％是理想的，更為理想的是大于75％，特別理想的是大于80％。
用于光反射層中的鋁或鋁合金可以例舉為，作為工業(yè)用鋁而使用的純度大于99.0％的純鋁和以鋁作為主要成分并含有微量異元素的合金，但從反射率的角度考慮，理想的是純鋁。
作為在鋁合金中含有的微量異元素，理想的是含有0.1至10質(zhì)量％的選自元素周期表中的1種以上元素。在鋁合金中含有的異元素的代表例是硅(Si)、鐵(Fe)、銅(Cu)、錳(Mn)、鎂(Mg)、鉻(Cr)、鋅(Zn)、鋯(Zr)、鈦(Ti)、釩(V)、鎳(Ni)、鉍(Bi)、銀(Ag)、金(Au)、鉑(Pt)等。
其中，作為在鋁合金中含有的異元素，理想的是不會使反射率降低的小于1質(zhì)量％的Si或Mg、以及Ag、Au、Pt、Cu等。
可以通過蒸鍍、濺射或者離子鍍敷(ion plating)所述鋁和鋁合金，而在襯底上形成光反射層。其中，通過濺射形成光反射層是理想的。
下面，詳細說明通過濺射形成的本發(fā)明光信息記錄介質(zhì)的光反射層的形成方法。
作為用于濺射的放電用氣體，理想的是使用Ar。另外，理想的濺射條件是Ar流量1至50sccm、功率0.5至10kw、成膜時間0.1至30秒，更理想的條件是Ar流量3至20sccm、功率1至7kw、成膜時間0.5至15秒，特別理想的條件是Ar流量4至10sccm、功率2至6kw、成膜時間1至5秒。
另外，理想的濺射條件是Ar流量、功率以及成膜時間中的任意一個在所述范圍之內(nèi)，更為理想的條件是其中的2個以上在所述范圍之內(nèi)，特別理想的是條件是全部均在所述范圍之內(nèi)。
通過在所述這些濺射條件下形成光反射層，能夠得到反射率提高或耐蝕性進一步得到提高，且具有優(yōu)異的記錄特性的光信息記錄介質(zhì)。
光反射層的厚度在20至200nm范圍內(nèi)是理想的，更理想的是30至180nm的范圍，特別理想的是35至160nm的范圍。如果層厚小于20nm，則出現(xiàn)無法得到所期望的反射率或保存時反射率下降的問題，而且有時還出現(xiàn)不能得到足夠的記錄振幅的問題。但如果層厚大于200nm，則有時出現(xiàn)表面形狀粗糙，反射率下降的問題。
另外，反射層的成膜速度在6至95nm/s范圍內(nèi)是理想的，更理想的是在7至90nm/s的范圍，特別理想的是8至80nm/s的范圍。如果成膜速度小于6nm/s，則在濺射過程中容易進入氧，并由氧化有時會導(dǎo)致反射率下降或光反射層的耐腐蝕性下降。如果成膜速度大于95nm/s，則溫度上升得高，有時在襯底上出現(xiàn)翹曲。[襯底]作為襯底，可以例舉玻璃；聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸樹脂；聚氯乙烯、氯乙烯共聚物等氯乙烯系樹脂；環(huán)氧樹脂；無定形聚烯烴；聚酯；鋁等金屬；根據(jù)需要，也可以組合使用。所述材料中，從耐濕性、尺寸穩(wěn)定性以及價格等角度出發(fā)，理想的是聚碳酸酯或無定型聚烯烴，特別理想的是聚碳酸酯。
另外，襯底厚度在1.1±0.3mm范圍是理想的。
在襯底10的表面上形成有引導(dǎo)用的槽或者是表達地址信號等信息的凹凸(預(yù)刻槽)。所述預(yù)刻槽是以注射成形或擠出成形聚碳酸酯等樹脂材料時，直接在襯底上形成為理想。
另外，也可以通過設(shè)置預(yù)刻槽層的方法來形成預(yù)刻槽。作為預(yù)刻槽層的材料，可以使用丙烯酸的單酯、二酯、三酯以及四酯中的至少一種單體(或低聚物)和光聚合引發(fā)劑的混合物。預(yù)刻槽層的形成方法例如是，首先在精密制作的母型(stamper)上涂布由所述丙烯酸酯和聚合引發(fā)劑組成的混合液，然后在該涂布液層上載置襯底，接著通過襯底或母型照射紫外線，固化涂布層以粘合襯底和涂布層。最后從母型剝離襯底，得到預(yù)刻槽層。預(yù)刻槽層的層厚通常在0.01至100μm的范圍，理想的范圍是在0.05至50μm的范圍。
為了達到更高的記錄密度，使用形成有比CD-R或DVD-R更窄的磁道間距的預(yù)刻槽的襯底是理想的。在本發(fā)明中，襯底的預(yù)刻槽的磁道間距必須是在200至400nm的范圍，理想的是250至350nm的范圍。
另外，預(yù)刻槽的槽深度在10至150nm范圍，更理想的是在20至100nm的范圍，特別理想的是30至80nm的范圍。另外，其半輻值在50至250nm的范圍是理想的，更理想的是在100至200nm的范圍。
另外，理想的是在設(shè)置所述光反射層的襯底表面上，以改善平面性、提高粘接力為目的，形成底涂層。
作為該底涂層的材料，可以例舉聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸-甲基丙烯酸共聚物、苯乙烯-馬來酸酐共聚物、聚乙烯醇、N-羥甲基丙烯酰胺、苯乙烯-乙烯基甲苯共聚物、氯磺?；垡蚁?、硝酸纖維素、聚氯乙烯、氯化聚烯烴、聚酯、聚亞胺、醋酸乙烯-氯乙烯共聚物、乙烯-醋酸乙烯共聚物、聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯等高分子物質(zhì)；有機硅烷偶合劑等表面改性劑等。
底涂層可以通過，將所述材料溶解或分散到適當?shù)娜軇┲兄苽渫坎家褐螅眯D(zhuǎn)涂層法、浸漬涂層法、擠出涂層法等涂布法，在襯底表面上涂布而形成。底涂層的厚度通常為0.005至20μm，理想的是0.01至10μm的范圍。[記錄層]為了在500nm波長的激光下進行記錄和再生，在記錄層中含有在激光波長區(qū)域內(nèi)有極大吸收的色素是理想的。所使用的色素可以例舉花青苷色素、氧雜菁色素、金屬配位化合物系色素、偶氮色素、酞菁色素等。
具體地可以例舉，在特開平4-74690號公報、特開平8-127174號公報、特開平11-53758號公報、特開平11-334204號公報、特開平11-334205號公報、特開平11-334206號公報、特開平11-334207號公報、特開2000-43423號公報、特開2000-108513號公報以及特開2000-158818號公報等中所記載的色素或者是三唑、三嗪、花菁苷、份菁、氨基丁二烯、酞菁、肉桂酸、氧化還原色素、偶氮、氧雜菁苯并噁唑、苯并三唑等色素，其中理想的是花菁苷、氨基丁二烯、苯并三唑、酞菁。
記錄層是通過，將所述色素和根據(jù)需要而加的粘合劑一同溶解于適當?shù)娜軇┲卸苽渫坎家汉?，將該涂布液涂布在所述光反射層的表面上，形成涂膜，最后進行干燥而形成。根據(jù)需要，還可以在涂布液中加入防氧化劑、紫外線吸收劑、增塑劑以及潤滑劑等各種添加劑。
另外，作為溶解處理色素或粘合劑的方法，可以使用超聲波處理、均化器處理、分散處理、混砂機處理、攪拌器攪拌處理等方法。
用于制備記錄層涂布液的溶劑，可以例舉乙酸丁酯、乙酸溶纖劑等酯；甲乙酮、環(huán)己酮、甲基異丁酮等酮；二氯甲烷、1，2-二氯乙烷、三氯甲烷等的氯代烴；N，N-二甲基甲酰胺等酰胺、環(huán)己烷等烴；四氫呋喃、乙醚、二噁烷等醚；乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、二丙酮醇等醇；2，2，3，3-四氟丙醇等氟系溶劑；乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚等醇醚類等?？紤]所使用的色素及粘合劑的溶解性，所述溶劑可以單獨或者是適當組合2種以上使用。
作為粘合劑，可以例舉明膠、纖維素衍生物、葡萄糖、松脂、橡膠等天然有機高分子物質(zhì)；聚氨酯、聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚異丁烯等烴系樹脂；聚氯乙烯、聚偏氯乙烯、聚氯乙烯-聚醋酸乙烯酯聚合物等乙烯系樹脂；聚丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸樹脂；聚乙烯醇、氯代聚乙烯、環(huán)氧樹脂、丁縮醛樹脂、橡膠衍生物、苯酚-木質(zhì)素-甲醛樹脂等熱固化性樹脂的初期縮合物等合成有機高分子等。將粘合劑作為記錄層材料一同使用時，粘合劑的使用量理想的是相對色素的0.01倍量至50倍量(質(zhì)量比)，更理想的是0.1至5倍量。通過在記錄層中包含粘合劑，能夠改善記錄層的保存穩(wěn)定性。
按所述制備的涂布液中的色素濃度通常是0.01至10質(zhì)量％范圍，理想的是0.1至5質(zhì)量％范圍。
作為涂布方法，可以例舉噴涂法、旋轉(zhuǎn)涂層法、浸漬法、輥涂法、刮板涂層法、括刀輥法、網(wǎng)板印刷法等。記錄層可以是單層，也可以是多層。另外，記錄層的厚度通常在20至500nm的范圍，理想的是50至300nm的范圍。
另外，作為涂布溫度，如果在23至50℃的范圍之內(nèi)就不會有很大的問題，理想的是24至40℃，更理想的是25至37℃。
為了提高所述記錄層的耐光性，可以在記錄層中含有各種防退色劑。作為防退色劑，通常使用是單態(tài)氧猝滅劑。作為單態(tài)氧猝滅劑，可以使用記載于已經(jīng)公知的專利說明書等刊物的物質(zhì)。
其具體例，可以例舉在特開昭58-175693號公報、特開昭59-81194號公報、特開昭60-18387號公報、特開昭60-19586號公報、特開昭60-19587號公報、特開昭60-35054號公報、特開昭60-36190號公報、特開昭60-36191號公報、特開昭60-44554號公報、特開昭60-44555號公報、特開昭60-44389號公報、特開昭60-44390號公報、特開昭60-54892號公報、特開昭60-47069號公報、特開昭63-209995號公報、特開平4-25492號公報、特開平1-38680號公報以及特開平6-26028號公報等公報、德國專利350399號說明書及日本化學會志1992年10月號第1141頁中所記載的。
所述單態(tài)氧猝滅劑等防退色劑的含量，通常是記錄層總固形物的0.1至50質(zhì)量％范圍，理想的是0.5至45質(zhì)量％范圍，更理想的是3至40質(zhì)量％范圍，特別理想的是5至25質(zhì)量％范圍。
在所生成的記錄層的表面上可以形成屏障層，以便于提高與保護層之間的粘接性和色素的保存性。屏障層是由Zn、Si、Ti、Te、Sm、Mo、Ge等的任意一種元素以上的氧化物、氮化物、碳化物以及硫化物等材料所構(gòu)成的層，另外，屏障層可以是類似于ZnS-SiO2的混合物。屏障層可以通過濺射、離子鍍敷等方法形成，其理想的厚度是1至100nm。
保護層是使用粘接劑或粘合劑(通過粘接層或粘合層)，形成于記錄層側(cè)的表面上。
保護層對用于記錄和再生的激光的透光率大于80％是理想的，更理想的是大于90％。另外，理想的是，保護層為表面粗糙度Ra小于5nm的樹脂薄膜。作為所述樹脂薄膜，可以例舉聚碳酸酯(帝人社制bjuaeise、帝人化成社制panlaito)、三乙酸纖維素(富士薄膜社制fujitaku)、PET(東麗社制rumila)，其中更理想的是聚碳酸酯和三乙酸纖維素。另外，保護層的表面粗糙度Ra取決于樹脂種類、制膜方法、是否含有填料等。保護層的表面粗糙度Ra是例如通過WYKO社制HD2000測定。
保護層的厚度是根據(jù)為了記錄和再生而照射的激光的波長或NA而規(guī)定為適當值，理想的是0.03至0.15mm的范圍，更理想的是0.05至0.12mm的范圍。另外，保護層、粘接層或粘合層的總厚度在0.09至0.11mm是理想的，更理想的是在0.095至0.105mm的范圍。
作為使用的粘接劑，理想的是UV固化樹脂、EB固化樹脂、熱固化樹脂等。特別理想的是使用UV固化樹脂。
理想的是，例如在疊層體的貼合(記錄層等)面上涂布一定量粘接劑，貼合保護層薄膜之后，通過旋轉(zhuǎn)涂層法把粘接劑均勻地鋪在疊層體和保護層之間進行固化。
調(diào)整涂布的粘接劑的量，使最終形成的粘接層的厚度在0.1至100μm的范圍，理想的是在0.5至50μm的范圍，更理想的是在10至30μm的范圍。
使用UV固化樹脂作為粘接劑時，可以直接使用該UV固化樹脂，或者是把UV固化樹脂溶解于甲基乙基甲酮、乙酸乙酯等適當溶劑中，制備涂布液之后，從配合器供給疊層體表面。另外，為了防止所制作的光信息記錄介質(zhì)的翹曲，構(gòu)成粘接層的UV固化樹脂的固化收縮率小為理想。作為這樣的UV固化樹脂，可以例舉日本油墨化學工業(yè)(株)社制的[SD-640]等的UV固化樹脂。
另外，作為用于固化這些UV固化樹脂的UV照射機，可以使用任意一種，但理想的是使用脈沖型UV照射機。這里，作為UV照射條件，理想的是脈沖間隔在msec以下，更理想的是在μsec以下。另外，對1脈沖的照射功率沒有特別的限定，但理想的是3kw/cm2以下，更理想的是2kw/cm2以下。并且，照射次數(shù)沒有特別的限定，理想的是20次以下，更理想的是10次以下。
另外，作為粘附劑，可以使用丙烯酸系、橡膠系、硅酮系的粘接劑，但從透明性、耐久性的觀點考慮，理想的是丙烯酸系粘接劑。作為相關(guān)的丙烯酸系粘接劑，理想的是使用以2-乙基丙烯酸己酯、丙烯酸正丁酯等作為主要成分，并共聚合用于提高凝聚力的短鏈丙烯酸烷基酯或甲基丙烯酸酯例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯和可以作為交聯(lián)劑交聯(lián)點的丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酰胺衍生物、馬來酸、丙烯酸羥乙基酯、縮水甘油丙烯酸酯等后的共聚物。通過適當?shù)卣{(diào)節(jié)主要成分、短鏈成分以及賦予交聯(lián)點的組分的混合比例、種類，可以改變玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(Tg)或交聯(lián)密度。
與所述粘附劑并用的交聯(lián)劑可以例舉異氰酸酯系交聯(lián)劑。相關(guān)的異氰酸酯系交聯(lián)劑可以使用甲苯撐二異氰酸酯、二苯甲烷-4-4’-二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、1，5-二異氰酸萘酯、o-甲苯胺異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、三苯甲烷三異氰酸酯等異氰酸酯類，或者所述異氰酸酯類和多元醇的生成物，或者通過異氰酸酯類的縮合而生成的聚異氰酸酯類。所述異氰酸酯類的市售商品可以例舉日本聚氨酯社制的colonato L、colonato HL、colonato2030、colonato2031、milionato MR、milionato HTL、武田藥品社制的takenatoD-102、takenato D-110N、takenato D-200、takenato D-202、住友baieil社制的deismogjul L、deismogjul IL、deismogjul N、deismogjul HL等。[其它層]在本發(fā)明的光信息記錄介質(zhì)中，除了所述任意層之外，還可設(shè)有各種中間層。例如在光反射層和記錄層之間可設(shè)置用于提高反射率和粘接性的中間層。
本發(fā)明光信息記錄介質(zhì)的激光入射側(cè)的表面粗糙度是根據(jù)所使用的保護層的表面粗糙度、襯底的表面粗糙度、光反射層的制作條件、記錄層的種類、制膜條件、粘接層的種類、涂布條件、保護層的種類和涂布條件等而適當選擇。
本發(fā)明的光信息記錄介質(zhì)例如按照以下方法進行信息的記錄、再生。首先，以一定的線速度(0.5至10m/秒)或者以一定的角速度旋轉(zhuǎn)光信息記錄介質(zhì)，同時從保護層側(cè)，通過物鏡照射藍紫色激光(例如波長為405nm)等記錄用的光。通過所述光的照射，記錄層將吸收所述光，使其局部溫度上升，例如通過生成槽，改變其光學特性而記錄信息。對按照所述記錄的信息的再生，可以是通過以一定的線速度旋轉(zhuǎn)光信息記錄介質(zhì)，同時從保護層側(cè)照射藍紫色激光，而檢出所述反射光的方法來進行。
作為振動波長低于500nm的激光光源，可以例舉具有390至415nm范圍振動波長的藍紫色半導(dǎo)體激光、中心振動波長為425nm的藍紫色SHG激光等。
另外，為了提高記錄密度，用于拾音器的物鏡的NA大于0.7是理想的，大于0.85將更為理想。
下面，詳細說明本發(fā)明的實施例，但本發(fā)明并不限于這些實施例。
(實施例1)在由注射成形聚碳酸酯樹脂構(gòu)成的襯底的具有厚度為1.1mm、外徑為120mm、內(nèi)徑為15mm的螺旋狀槽(槽深30nm、槽寬150nm、磁道間距340nm)的面上，在Ar氣氛下，通過DC濺射，形成由鋁(Al純度99.9質(zhì)量％以上)構(gòu)成的光反射層。在表1中記載濺射的詳細條件。
然后，把用下述化學式表示的色素2g加入到2，2，3，3-四氟丙醇100ml中，進行溶解，制備色素涂布液。用旋轉(zhuǎn)涂層法，邊將轉(zhuǎn)速從300rpm變化至4000rpm，邊在23℃、50％RH的條件下，在光反射層上涂敷所述色素涂敷液。然后在23℃、50％RH下保存1小時，形成記錄層(內(nèi)槽(ingroove)厚度100nm、上槽(on groove)厚度70nm)。化1
形成記錄層之后，在干凈的烤箱中進行退火處理。即在垂直的疊桿(stack pole)上相隔一定距離用墊片支撐襯底，在40℃下保持1小時而進行退火處理。
然后通過RF濺射，在記錄層上形成由ZnS-SiO2(ZnS∶SiO2＝8∶2(質(zhì)量比))構(gòu)成的屏障層(厚度為50nm)，而制成了疊層體。屏障層的形成條件如下。
功率4kw壓力2×10-2hPa時間10秒接著固定噴嘴，把疊層體略旋轉(zhuǎn)1周，從而在形成的屏障層上環(huán)狀地分散UV固化粘接劑(日本油墨社制ex8204)。然后，中心重合地放置由聚碳酸酯構(gòu)成的保護層(帝人社制bjuaeise、外徑120mm、內(nèi)徑15mm、厚度85μm)，在5000rpm的轉(zhuǎn)速下旋轉(zhuǎn)3秒鐘，從而把粘接劑鋪在整面上，同時振動除去多余的粘接劑。另外，旋轉(zhuǎn)的同時照射紫外線，以固化粘接劑，最后制得實施例1的光信息記錄介質(zhì)。這時，粘接層的厚度為15μm，保護膜和粘接層的總厚度為100μm。另外，能夠使得貼合后粘接層上沒有氣泡。
(對光信息記錄介質(zhì)的記錄特性評價)-C/N(載波對噪聲比)使用載置有405nm的激光、NA0.85拾音器的記錄再生評價機(pulsedake社制DDU1000)，在記錄功率5mW、線速5m/s的條件下，于得到的光信息記錄介質(zhì)上形成600nm的槽，用光譜分析器測定C/N。在表1中表示了其結(jié)果。
表1

對于所制得的光信息記錄介質(zhì)，使用載置405nm的激光、NA0.85拾音器的記錄再生評價機(pulse dake社制DDU1000)，測定其未記錄的RF信號的幅度以及未記錄反射率，并把RF信號的幅度除以未記錄反射率后得到的值作為未記錄噪聲。在表1中表示了其結(jié)果。(實施例2至5)除了如表1所示地改變實施例1的光反射層形成條件以外，與實施例1相同地制作實施例2至5的光信息記錄介質(zhì)。
對得到的光信息記錄介質(zhì)，進行與實施例1相同的試驗，以評價記錄特性。在表1中表示了其結(jié)果。
(實施例6至19)在所述表1所示的條件和Ar氣氛下，通過DC濺射，在由注射成形聚碳酸酯樹脂(帝人社制聚碳酸酯；商品名panlaido AD5503)構(gòu)成的襯底的具有厚度為1.1mm、外徑為120mm、內(nèi)徑為15mm的螺旋狀槽(槽深40nm、槽寬150nm、磁道間距320nm)的面上形成由鋁或鋁合金構(gòu)成的光反射層。另外，在實施例7中，鋁合金(Al-Ti)中的Ti含量是2at％。
然后，將用下述化學式表示的有機物2g與乳酸甲酯100ml混合，超聲波處理2小時進行溶解，制得色素涂布液。用旋轉(zhuǎn)涂層法，邊將轉(zhuǎn)速從300變化至4000rpm，邊在23℃、50％RH的條件下，在光反射層上涂敷所述色素涂敷液。形成的記錄層的內(nèi)槽厚度100nm，上槽厚度70nm。化2
形成記錄層之后，在23℃下退火處理2小時。
然后在記錄層上，通過RF濺射，形成由ZnS-SiO2(ZnS∶SiO2＝8∶2(質(zhì)量比))構(gòu)成的屏障層(厚度為50nm)，制成了疊層體。屏障層的形成條件如下。
功率4kw壓力2×10-2hPa時間10秒接著，通過旋轉(zhuǎn)涂層法，在100至300rpm的轉(zhuǎn)速下在所形成的屏障層上涂布UV固化粘接劑(日本油墨社制SD-661)，并在其之上疊合聚碳酸酯薄膜(帝人社制bjuaeise、膜厚80μm)，然后邊把轉(zhuǎn)速從300變化至4000rpm，邊鋪開粘接劑，最后通過紫外線照射燈照射紫外線，而固化粘接劑，制得實施例6至19的光信息記錄介質(zhì)。這時，粘接層的厚度為20μm，保護膜和粘接層的總厚度為100μm。
(對光信息記錄介質(zhì)的記錄特性評價)對得到的光信息記錄介質(zhì)進行與實施例1相同的試驗，評價其記錄特性。在表1中表示了其結(jié)果。
(實施例20至22)在所述表1中所示的條件和Ar氣氛下，通過DC濺射，在由注射成形聚碳酸酯樹脂(帝人社制聚碳酸酯；商品名panlaidoAD5503)構(gòu)成的襯底的具有厚度為1.1mm、外徑為120mm、內(nèi)徑為15mm的螺旋狀槽(槽深40nm、槽寬150nm、磁道間距340nm)的面上形成由鋁或鋁合金構(gòu)成的光反射層。另外，實施例24和25中，鋁合金(Al-Ta、Al-Cr)中的Ta、Cr含量均為2at％。
然后，將歐臘索耳藍-GN(cibafinechemical社制)2g與2，2，3，3-四氟丙醇100ml混合，超聲波處理2小時進行溶解，制備色素涂布液。用旋轉(zhuǎn)涂層法，邊將轉(zhuǎn)速從300變化至4000rpm，邊在23℃、50％RH的條件下，在光反射層上涂敷所述色素涂敷液。形成的記錄層的內(nèi)槽厚度100nm，上槽厚度70nm。
然后在記錄層上，通過RF濺射，形成由ZnS-SiO2(ZnS∶SiO2＝8∶2(質(zhì)量比))構(gòu)成的屏障層(厚度為50nm)，制成疊層體。屏障層的形成條件如下。
功率4kw壓力2×10-2hPa時間10秒接著，通過旋轉(zhuǎn)涂層法，以100至300rpm的轉(zhuǎn)速，在形成的屏障層上涂布UV固化粘接劑(日本油墨社制SD-661)，并在其上疊合聚碳酸酯薄膜(帝人社制bjuaeise、膜厚80μm)，然后，邊把轉(zhuǎn)速從300改變至4000rpm邊鋪開粘接劑，最后通過紫外線照射燈照射紫外線，固化粘接劑，制得實施例20至22的光信息記錄介質(zhì)。這時，粘接層的厚度為20μm，保護膜和粘接層的總厚度為100μm。
(對光信息記錄介質(zhì)的記錄特性評價)對得到的光信息記錄介質(zhì)進行與實施例1相同的試驗，評價其記錄特性。在表1中表示了其結(jié)果。(比較例1)把實施例1中的光反射層由鋁替換成銀(Ag)之外，與實施例1相同地制作比較例1的光信息記錄介質(zhì)。
對得到的光信息記錄介質(zhì)進行與實施例1相同的試驗，評價其記錄特性。在表1中表示了其結(jié)果。(比較例2)把實施例1中的光反射層由鋁替換成金(Au)之外，與實施例1相同地制作比較例1的光信息記錄介質(zhì)。
對得到的光信息記錄介質(zhì)進行與實施例1相同的試驗，評價其記錄特性。在表1中表示了其結(jié)果。
從表1的結(jié)果可以看出，實施例1至22的光信息記錄介質(zhì)因為使用鋁或鋁合金作為光反射層，所以表示記錄特性的C/N或未記錄噪聲的評價結(jié)果均良好。特別是，Ar流量、濺射功率以及成模時間等光反射層的濺射條件均被控制在理想范圍之內(nèi)的光信息記錄介質(zhì)，其未記錄噪聲被控制得非常低，為小于10％，具有優(yōu)異的記錄特性。這大概是因為通過具有本發(fā)明的光反射層，由激光的照射得到的熱能可以被有效地用于槽的形成。
另外，比較例1和比較例2的光信息記錄介質(zhì)與實施例1至22的光信息記錄介質(zhì)相比，C/N或未記錄噪聲的評價結(jié)果差。這大概是因為，由于在反射層中使用了熱傳導(dǎo)率高于鋁或鋁合金的Ag和Au，所以由激光的照射獲得的熱能由高熱電導(dǎo)率，擴散，無法形成良好的槽的緣故。
根據(jù)本發(fā)明，通過使用由鋁或鋁合金構(gòu)成的光反射層，可以提供一種成本降低，同時具有優(yōu)異記錄特性的光信息記錄介質(zhì)。
權(quán)利要求
1.一種光信息記錄介質(zhì)，在形成磁道間距為200～400nm、深度為10～150nm的槽的襯底上，依次設(shè)置光反射層、記錄層和保護層，并從所述保護層側(cè)照射波長小于500nm的激光而進行記錄和再生，其特征在于，所述光反射層是由鋁或鋁合金構(gòu)成。
全文摘要
一種光信息記錄介質(zhì)，在形成磁道間距為200～400nm、深度為10～150nm的槽的襯底上依次設(shè)置光反射層、記錄層和保護層，并且從所述保護層側(cè)照射波長小于500nm的激光而進行記錄和再生，其特征在于，所述光反射層是由鋁或鋁合金構(gòu)成。所述光信息記錄介質(zhì)，通過使用由鋁或鋁合金構(gòu)成的光反射層，降低了成本的同時具有優(yōu)異的記錄特性。
文檔編號B41M5/26GK1445766SQ03107069
公開日2003年10月1日 申請日期2003年3月5日 優(yōu)先權(quán)日2002年3月7日
發(fā)明者石田壽男, 宇佐美由久 申請人:富士膠片株式會社