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多光束多面鏡掃描系統(tǒng)的制作方法

文檔序號(hào):2506488閱讀:315來源:國知局
專利名稱:多光束多面鏡掃描系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及多面鏡光學(xué)掃描系統(tǒng)。本發(fā)明特別適合用于激光印刷、印刷電路板檢查、晶片檢查、掩模版檢查、和光刻技術(shù)。
背景技術(shù)
在常規(guī)的多面鏡掃描系統(tǒng)中,引導(dǎo)一束光,例如來自激光光源或燈的光,照射旋轉(zhuǎn)的多面鏡反射側(cè)面的一點(diǎn),一般多面鏡有許多這樣的反射側(cè)面。從側(cè)面反射的光束,通常通過用于放大和/或會(huì)聚的光學(xué)系統(tǒng),然后照射在物體表面上,例如涂敷光刻膠的半導(dǎo)體晶片表面上,或激光打印機(jī)的打印鼓表面上。隨著多面鏡的旋轉(zhuǎn),被反射的光束在該物體表面掃描。
用常規(guī)多面鏡掃描系統(tǒng)能達(dá)到的數(shù)據(jù)速率,除了別的因素外,依賴于多面鏡的旋轉(zhuǎn)速度、多面鏡的側(cè)面數(shù)、和多面鏡的“占空因數(shù)”。占空因數(shù)可以定義為每一側(cè)面用于掃描的面積部分。常規(guī)系統(tǒng)的占空因數(shù)通常小于“1”,因?yàn)樽鳛槎嗝骁R旋轉(zhuǎn)的結(jié)果,當(dāng)入射光束從照射第一個(gè)側(cè)面過渡到照射相鄰的第二個(gè)側(cè)面時(shí),不能實(shí)施掃描。在該過渡當(dāng)中,光束的一部分被(第一側(cè)面)偏轉(zhuǎn)至一個(gè)方向,同時(shí)光束的另一部分被(第二側(cè)面)偏轉(zhuǎn)至另一個(gè)方向,從而妨礙基片表面被光束掃描。
另一種影響多面鏡掃描系統(tǒng)數(shù)據(jù)速率的因數(shù),是沿掃描線的可保留的點(diǎn)(亦稱“像素”)數(shù),可保留點(diǎn)數(shù)可以表示為“掃描角”θsl,或側(cè)面反射的光束的總角度,除以因光束的有限直徑產(chǎn)生的衍射角θd(1)掃描線上的點(diǎn)數(shù)=θsl/θd,這里(2)θsl=4∏/側(cè)面數(shù),和(3)θd=光束的波長/光束直徑。
如上述方程式1-3指出,在現(xiàn)有技術(shù)的多面鏡掃描系統(tǒng)中,存在兩個(gè)沖突的條件。為增加點(diǎn)數(shù)以改進(jìn)系統(tǒng)性能,必須增加光束直徑(從而減少衍射)。但是,增加光束直徑將降低占空因數(shù),因?yàn)楫?dāng)光束從一個(gè)側(cè)面過渡到另一個(gè)側(cè)面時(shí),有更大的側(cè)面面積重疊,從而降低效率。這種本性上的矛盾,限制了常規(guī)系統(tǒng)能達(dá)到的像素速率。
現(xiàn)有技術(shù)增加像素速率的嘗試,取得有限的成功,且與照明方法有關(guān),如修改光束入射角、和側(cè)面的形狀和/或數(shù)量。例如,增加側(cè)面數(shù),但導(dǎo)致占空因數(shù)的下降?;蛘撸黾庸馐睆?,使光斑覆蓋整個(gè)側(cè)面(亦稱“過滿”),但如果使激光束足夠大,過量充滿側(cè)面,又有合適的強(qiáng)度和均勻性,則它通常有低的效率,浪費(fèi)相當(dāng)大的能量。再者,增大側(cè)面的長度,導(dǎo)致較少的側(cè)面數(shù),每一側(cè)面掃描更大的角范圍。但是,這種θsl的增加只被有限地利用,因?yàn)閺膫?cè)面反射的光,通常被引導(dǎo)通過光學(xué)系統(tǒng)(即透鏡),而該系統(tǒng)沒有大的例如約10度到20度的角度范圍。
因此,對(duì)多面鏡掃描系統(tǒng),存在著增加占空因數(shù)和數(shù)據(jù)速率的需求,以便增加效率和系統(tǒng)的處理量。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個(gè)方面,是一種多面鏡掃描系統(tǒng),它使數(shù)據(jù)速率最大化的同時(shí),增加它的占空因數(shù),從而顯著改進(jìn)系統(tǒng)的效率。
按照本發(fā)明,前述的及其他的方面,部分地是通過如下多面鏡掃描系統(tǒng)獲得的,該系統(tǒng)包括有反射側(cè)面的多面鏡、用于旋轉(zhuǎn)該多面鏡的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、和光源,該光源用于引導(dǎo)多束光束照射在側(cè)面上,使每一光束以不同的入射角照射在側(cè)面上。當(dāng)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)多面鏡時(shí),每一光束在各自的時(shí)間區(qū)間,被側(cè)面反射,掃描基片表面的特定部分。多束光束的每一束,用側(cè)面表面的各自部分,反射到基片表面,使用于反射該光束的側(cè)面表面各個(gè)部分的和,是總表面面積非常大的百分比。因此,該系統(tǒng)有接近百分之100的占空因數(shù)以及高的數(shù)據(jù)速率。
本發(fā)明的另一個(gè)方面,是一種方法,包括旋轉(zhuǎn)有反射側(cè)面的多面鏡;引導(dǎo)第一光束以第一入射角,照射在側(cè)面上,使當(dāng)多面鏡旋轉(zhuǎn)時(shí),第一光束在第一時(shí)間區(qū)間,被側(cè)面反射,掃描基片表面的第一部分;和引導(dǎo)第二光束以第二入射角,照射在側(cè)面上,使當(dāng)多面鏡旋轉(zhuǎn)時(shí),第二光束在第一時(shí)間區(qū)間隨后的第二時(shí)間區(qū)間,被側(cè)面反射,掃描基片表面的第二部分。
本發(fā)明的另外方面,本領(lǐng)域熟練人員可從下面的詳細(xì)說明和所附的權(quán)利要求書容易看出,說明中只舉出并說明本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例,簡單地表明實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的最佳模式。顯然,本發(fā)明還有其他的和不同的實(shí)施例,且本發(fā)明的若干細(xì)節(jié)可以在各個(gè)顯著方面修改,所有這一切都不偏離本發(fā)明。因此,圖和說明應(yīng)當(dāng)認(rèn)為是示例性的,而不是限制性的。


現(xiàn)在參考附圖,其中,有相同參考數(shù)字標(biāo)記的單元,自始至終表示相同的單元,其中圖1a-1d按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例,示意畫出多面鏡掃描系統(tǒng)。
圖2-4按照本發(fā)明另外的實(shí)施例,示意畫出多面鏡掃描系統(tǒng)。
具體實(shí)施例方式
常規(guī)多面鏡掃描系統(tǒng)的數(shù)據(jù)速率是受限制的,因?yàn)殡S著多面鏡的側(cè)面數(shù)和/或入射光束直徑的增加,占空因數(shù)(即系統(tǒng)的效率)下降。本發(fā)明克服常規(guī)多面鏡掃描系統(tǒng)中,源于占空因數(shù)和數(shù)據(jù)速率之間矛盾的本性的限制。
按照本發(fā)明的方法,兩束或更多的光束以不同的入射角照射多面鏡的側(cè)面,且在多面鏡旋轉(zhuǎn)時(shí),相繼地用于掃描基片表面。本發(fā)明的每一側(cè)面多光束技術(shù),能通過增加側(cè)面數(shù)來增加整個(gè)數(shù)據(jù)速率(像素/秒),同時(shí)補(bǔ)償導(dǎo)致的占空因數(shù)降低。按照本發(fā)明的一種優(yōu)化的系統(tǒng),是如下的一種系統(tǒng),其中入射光束數(shù)m乘每一光束的占空因數(shù)μ幾乎為1,于是總的掃描時(shí)間幾乎為100%。
現(xiàn)在參照?qǐng)D1a-1d,說明本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例。如圖1a所示,按照本發(fā)明該實(shí)施例的多面鏡掃描系統(tǒng),包括有多個(gè)側(cè)面的常規(guī)多面鏡100,其中包括側(cè)面100a。多面鏡100由常規(guī)的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)110沿箭頭A的方向旋轉(zhuǎn)。光源120、130分別產(chǎn)生光束LB1和LB2,且光源的排列可使光束LB1、LB2分別以兩個(gè)不同的入射角α1、α2,例如15°和22°,照射多面鏡100的側(cè)面100a。為方便起見,光束LB2以虛線畫出。光源120、130可以是激光光源,各提供相同波長的光,也可以各提供不同波長的光。另外,光源120、130可以是燈。
包括一個(gè)或多個(gè)透鏡的常規(guī)的光學(xué)系統(tǒng)140,會(huì)聚并引導(dǎo)光束LB1和LB2掃描基片150的表面。角θs1是光束LB1掃描的全角范圍,而角θs2是光束LB2掃描的全角范圍。不過,只當(dāng)每一光束在角度范圍θa時(shí),才用該光束掃描基片150,角度范圍θa通常稱為光學(xué)系統(tǒng)140的接收角。常規(guī)的可移動(dòng)臺(tái)160提供對(duì)基片150的支承,并相對(duì)于多面鏡100移動(dòng)基片150。
本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的工作原理,畫在圖1a-1d?,F(xiàn)在參照?qǐng)D1b,在開始時(shí)刻t0,被反射的光束LB1進(jìn)入光學(xué)系統(tǒng)140,并隨著多面鏡100沿箭頭A的方向旋轉(zhuǎn),掃描基片150表面的第一部分。在時(shí)刻t1,如圖1c所示,光束LB1已經(jīng)越過接收角θa,并結(jié)束它有用的掃描范圍。從t0到t1,被反射的光束LB2尚不在接收范圍,因而與掃描操作不相干。但是,在時(shí)刻t1,隨著被反射的光束LB1離開光學(xué)系統(tǒng)140,被反射的光束LB2進(jìn)入光學(xué)系統(tǒng)140,并如圖1d所示,從t1到t2,隨著多面鏡100繼續(xù)沿箭頭A方向旋轉(zhuǎn),被反射的光束LB2掃描基片150表面的第二部分。從t1到t2,被反射的光束LB1與掃描操作不相干。當(dāng)多面鏡100的下一個(gè)側(cè)面位于對(duì)著光源120、130的位置時(shí),重復(fù)同樣的過程。
在多面鏡100旋轉(zhuǎn)的同時(shí),可以用可移動(dòng)臺(tái)150移動(dòng)基片150,使被LB1掃描的基片150表面的第一部分,不同于被LB2掃描的第二部分。如果基片150不被臺(tái)160相對(duì)于多面鏡100移動(dòng),那么光束LB1、LB2將掃描基片150表面的相同部分。換句話說,基片150表面的第一部分和第二部分是相同的。
在本發(fā)明另外的實(shí)施例中,代替兩個(gè)或更多個(gè)分離的光源,是把單一的入射光束分解,提供必要的光束數(shù),照射在多面鏡的側(cè)面上。有兩種分解入射光束的方法,可以在該配置中實(shí)施被動(dòng)的和動(dòng)態(tài)的分解。
在圖2和3所示本發(fā)明的實(shí)施例中,用常規(guī)的光束分束器或衍射光柵,實(shí)施被動(dòng)的光束分解?,F(xiàn)在參照?qǐng)D2,如同圖1a-1d的實(shí)施例,提供了有側(cè)面200a的多面鏡200、旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)210、和光學(xué)系統(tǒng)220。光源230,例如鎖模激光器或CW激光器,產(chǎn)生單一的入射光束IB,經(jīng)引導(dǎo)通過光束分束器240。光束分束器240可以是常規(guī)的立方或平板光束分束器,以便把入射光束IB分解,使50%的光通過它,形成光束LB1,而有50%的光形成光束LB2。光束LB1以入射角α1直接照射在側(cè)面200a上,而光束LB2被常規(guī)的反射鏡250反射,以入射角α2照射在側(cè)面200a上。另外,可以使用按相等強(qiáng)度衍射適當(dāng)級(jí)數(shù)的常規(guī)衍射光柵(如Damman光柵),作為光束分束器240。該種光柵緊湊和便宜。圖2的設(shè)備有助于基片260表面的掃描,該基片260由可移動(dòng)臺(tái)270支承并在掃描時(shí)按需要由可移動(dòng)臺(tái)270相對(duì)于多面鏡200移動(dòng),圖2的設(shè)備按照上面參照?qǐng)D1a-1d說明的方式,掃描基片260表面的相繼部分。
現(xiàn)在參照?qǐng)D3,在本發(fā)明的又一個(gè)實(shí)施例中,如圖1a-1d的實(shí)施例一樣,提供了有側(cè)面300a的常規(guī)多面鏡300、旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)310、和光學(xué)系統(tǒng)320。光源330,例如鎖模激光器或CW激光器,產(chǎn)生單一的入射光束IB,經(jīng)引導(dǎo)通過第一光束分束器340。光束分束器340可以是常規(guī)的立方或平板光束分束器,以便把入射光束IB分解,使33%的光通過它,形成光束LB1,而有66%的光(作為中間光束ILB畫出)傳送至第二光束分束器350,光束分束器350也是常規(guī)的立方或平板光束分束器。第二光束分束器350接收中間光束ILB,并把接收的光束分解,使ILB的50%形成光束LB2,而ILB的50%形成光束LB3。光束LB1和LB2分別以入射角α1、α2照射在側(cè)面300a上,而光束LB3被常規(guī)的反射鏡360反射,以入射角α3照射在側(cè)面300a上。另外,可以使用按相等強(qiáng)度衍射適當(dāng)級(jí)數(shù)的常規(guī)衍射光柵(如Damman光柵),作為光束分束器340、350。該種光柵緊湊和便宜。圖3的設(shè)備有助于基片370表面的掃描,該基片370由可移動(dòng)臺(tái)380支承并在需要時(shí)由可移動(dòng)臺(tái)380相對(duì)于多面鏡300移動(dòng),圖3的設(shè)備按照上面參照?qǐng)D1a-1d說明的方式,掃描基片370表面的相繼部分。
在圖4所示本發(fā)明的實(shí)施例中,用常規(guī)的聲光偏轉(zhuǎn)器(“AOD”)作為光束偏轉(zhuǎn)器,實(shí)施主動(dòng)的光束分解。在典型的AOD中,有壓電諧振腔,用于調(diào)制對(duì)晶體的壓力,在晶體內(nèi)產(chǎn)生聲波。誘發(fā)的聲波在晶體內(nèi)傳播,產(chǎn)生有特定折射率的光柵。當(dāng)光,例如從本發(fā)明掃描系統(tǒng)的光源產(chǎn)生的激光,被引導(dǎo)通過該晶體時(shí),光按照光柵的周期被偏轉(zhuǎn)。在本發(fā)明的本實(shí)施例中,向AOD相繼地提供不同調(diào)制的信號(hào),如不同頻率的正弦射頻(RF)信號(hào),以便在不同的相繼的時(shí)間周期(如上面討論的時(shí)間區(qū)間t0到t1和t1到t2)產(chǎn)生不同的光柵。這種技術(shù)是實(shí)用的,因?yàn)锳OD改變光束的偏轉(zhuǎn)所必需的時(shí)間,在實(shí)施本發(fā)明時(shí)是可以忽略的。例如,聲波在AOD中的速度,通常約6000m/sec,實(shí)施本發(fā)明使用的光束直徑,一般是1mm。因此,在1mm/(6000m/sec),或0.166微秒的周期中,可以完成光束偏轉(zhuǎn)的變化。此外,還可以通過控制AOD的RF功率,用AOD來補(bǔ)償側(cè)面到側(cè)面間反射率的差異。
現(xiàn)在參照?qǐng)D4,如圖1a-1d的實(shí)施例一樣,提供了有側(cè)面400a的常規(guī)多面鏡400、旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)410、和光學(xué)系統(tǒng)420。光源430,例如鎖模激光器或CW激光器,產(chǎn)生單一的入射光束IB,經(jīng)引導(dǎo)通過AOD440。AOD 440偏轉(zhuǎn)入射光束IB,使光束IB分別在上述時(shí)間區(qū)間t0到t1和t1到t2形成光束LB1和LB2。光束LB1以入射角α1照射在側(cè)面400a上,而光束LB2以入射角α2照射在側(cè)面400a上。圖4的設(shè)備有助于掃描基片450表面,該基片450由可移動(dòng)臺(tái)460支承并在需要時(shí)由可移動(dòng)臺(tái)460移動(dòng),圖4的設(shè)備按照上面參照?qǐng)D1a-1d說明的方式,掃描基片450表面的相繼部分。
本領(lǐng)域熟練人員顯然清楚,常規(guī)的光束分解和/或AOD光束偏轉(zhuǎn)技術(shù),可以用于從單一光束產(chǎn)生多于上述參照?qǐng)D3和4說明的兩束或三束光束,以便實(shí)施本發(fā)明。原始的光束,能夠衍射或偏轉(zhuǎn)為N束光束,以N個(gè)入射角照射在多面鏡側(cè)面300a、400a上,使當(dāng)多面鏡300、400旋轉(zhuǎn)時(shí),第N束光束在第N個(gè)時(shí)間區(qū)間,被側(cè)面反射,掃描基片370、450表面的第N部分。當(dāng)然,可移動(dòng)臺(tái)380、460可以相對(duì)于多面鏡300、400移動(dòng)基片370、450,使基片370、450表面的N個(gè)部分彼此不同。
現(xiàn)在給出本發(fā)明多面鏡掃描系統(tǒng)的具體例子,以表明本發(fā)明系統(tǒng)的性能,并把它們與單光束的現(xiàn)有技術(shù)系統(tǒng)比較。在舉例前,簡要列出多面鏡掃描系統(tǒng)熟知的性能參數(shù)。
定義ns-多面鏡側(cè)面數(shù)D-光束光斑直徑(1/e2)R-多面鏡半徑(中心到側(cè)面)LL-側(cè)面長度ε-總側(cè)面邊緣L=LL-ε-有效側(cè)面長度α-入射角RPM-多面鏡每分鐘轉(zhuǎn)數(shù)NL-每線有效像素?cái)?shù) -有效占空因數(shù)μ-名義占空因數(shù)θd-衍射角θsl-名義掃描線的角度 -有效掃描角θo-進(jìn)入光學(xué)系統(tǒng)的可接收入射角PR-總有效像素速率(像素/秒)由于有限光束直徑的衍射角,表示為θd=2KλD]]>這里K是截?cái)嘞禂?shù)。
名義掃描角是
θsl=22πns,]]>和有效掃描角是θ~sl=22πnsμ~.]]>該掃描角還進(jìn)一步受進(jìn)入光學(xué)系統(tǒng)的接收角限制,在大多數(shù)情形下,接收角比掃描角小。因此,有效占空因數(shù)可以定義為μ~=θoθsl.]]>有效側(cè)面長度是幾何側(cè)面長度減去ε,因此L=2Tan[πns]r-ϵ]]>名義占空因數(shù)μ是能用于掃描的側(cè)面相對(duì)有效面積μ=L-D/2cos(α+θ~sl/4)-D/2cos(α-θ~sl/4)L+ϵ]]>對(duì)相對(duì)小的掃描角θsl,我們可以近似為μ≈L-D/cos(α)L+ϵ]]>通常為了使用光學(xué)系統(tǒng)全部孔徑,取μ≥μ~.]]>每線的像素?cái)?shù)是NL≈kθoθd=kθslθdμ~]]>平均像素速率PR是 本發(fā)明兩種多光束多面鏡掃描系統(tǒng),與現(xiàn)有技術(shù)單光束系統(tǒng)的系統(tǒng)參數(shù)例子,總結(jié)成下表。計(jì)算這些參數(shù)時(shí),是使光束直徑優(yōu)化,以獲得最大的平均點(diǎn)速率。計(jì)算是假定入射光束波長為500nm進(jìn)行的。

對(duì)本表底部一行的現(xiàn)有技術(shù)單光束掃描系統(tǒng),可以看到,雖然光束直徑非常大,可得大的瞬時(shí)點(diǎn)速率和每線點(diǎn)數(shù),但占空因數(shù)只有50%,導(dǎo)致相對(duì)低的平均點(diǎn)速率。這一點(diǎn)表明本性上限制現(xiàn)有技術(shù)系統(tǒng)的矛盾。相反,本發(fā)明的系統(tǒng)的占空因數(shù),非常接近于1(3×0.32=0.96;2×0.48=0.96),使本發(fā)明的系統(tǒng)在用更多側(cè)面的多面鏡上占有優(yōu)勢,可以產(chǎn)生比現(xiàn)有技術(shù)系統(tǒng)顯著更高的平均點(diǎn)速率。本發(fā)明的系統(tǒng)在各方面都更有效,結(jié)果呈現(xiàn)增強(qiáng)的性能。
本發(fā)明的多面鏡掃描系統(tǒng),能用于許多掃描系統(tǒng)。例如,它可以用作采用激光點(diǎn)掃描表面的檢查工具,如半導(dǎo)體晶片表面、光刻技術(shù)中的掩模版表面、印刷電路板表面等缺陷的檢查。本發(fā)明還能用于寫入系統(tǒng),如在紙上印刷的激光打印機(jī)、光刻技術(shù)的曝光系統(tǒng)、印刷電路板和掩模版等等的寫入工具。
本發(fā)明能采用常規(guī)的材料、方法、和設(shè)備實(shí)施。因此,這些材料、設(shè)備、和方法的細(xì)節(jié),本文沒有詳細(xì)說明。在前面的說明中,為了提供對(duì)本發(fā)明的完整的了解,說明了許多特定的細(xì)節(jié),如特定的材料、結(jié)構(gòu)、化學(xué)、過程,等等。但是,應(yīng)當(dāng)看到,本發(fā)明的實(shí)施可以不依靠特別說明的細(xì)節(jié)。在其他的例子中,為了避免不必要的妨礙本發(fā)明的說明,沒有詳細(xì)說明熟知的處理結(jié)構(gòu)。
在本發(fā)明公開的內(nèi)容中,只出示和說明本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例及其通用性的少數(shù)例子。顯而易見,本發(fā)明能用于各種其他的組合和環(huán)境,還能在本文闡明的創(chuàng)造性觀念范圍內(nèi)改變和修改。
權(quán)利要求
1.一種多面鏡掃描系統(tǒng),包括有反射側(cè)面的多面鏡;用于旋轉(zhuǎn)多面鏡的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu);第一光源,用于引導(dǎo)第一光束以第一入射角照射在該側(cè)面上,使當(dāng)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)多面鏡時(shí),該第一光束在第一時(shí)間區(qū)間,被該側(cè)面反射,掃描基片表面的第一部分;和第二光源,用于引導(dǎo)第二光束以第二入射角照射在該側(cè)面上,使當(dāng)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)多面鏡時(shí),該第二光束在第一時(shí)間區(qū)間隨后的第二時(shí)間區(qū)間,被該側(cè)面反射,掃描基片表面的第二部分。
2.按照權(quán)利要求1的系統(tǒng),其中的第一和第二光源,包括用于產(chǎn)生原始光束的單一的光束發(fā)生器,和用于把原始光束分解為第一和第二光束的第一光束分束器。
3.按照權(quán)利要求2的系統(tǒng),包括用于引導(dǎo)第二光束照射在該側(cè)面上的反射鏡。
4.按照權(quán)利要求2的系統(tǒng),包括第二光束分束器,用于把原始光束分解為第三光束,以第三入射角照射在該側(cè)面上,使當(dāng)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)多面鏡時(shí),該第三光束在第二時(shí)間區(qū)間隨后的第三時(shí)間區(qū)間,被該側(cè)面反射,掃描基片表面的第三部分。
5.按照權(quán)利要求4的系統(tǒng),包括用于引導(dǎo)第三光束照射在該側(cè)面上的反射鏡。
6.按照權(quán)利要求1的系統(tǒng),其中的第一和第二光源,包括用于產(chǎn)生原始光束的單一的光束發(fā)生器,和用于把原始光束衍射為第一和第二光束的衍射光柵。
7.按照權(quán)利要求6的系統(tǒng),其中的衍射光柵用于把原始光束衍射為包括第一和第二光束的N束光束,以第N個(gè)入射角照射在該側(cè)面上,使當(dāng)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)多面鏡時(shí),該第N束光束在第N個(gè)時(shí)間區(qū)間,被該側(cè)面反射,掃描基片表面的第N部分。
8.按照權(quán)利要求1的系統(tǒng),其中的第一和第二光源,包括用于產(chǎn)生原始光束的單一的光束發(fā)生器和聲光偏轉(zhuǎn)器,該聲光偏轉(zhuǎn)器使原始光束分別在第一和第二時(shí)間區(qū)間偏轉(zhuǎn),以第一和第二入射角,照射在該側(cè)面上。
9.按照權(quán)利要求8的系統(tǒng),其中的多面鏡包括多個(gè)側(cè)面,且其中的聲光偏轉(zhuǎn)器用于補(bǔ)償多個(gè)側(cè)面間反射率的差異。
10.按照權(quán)利要求1的系統(tǒng),還包括一光學(xué)系統(tǒng),位于側(cè)面與基片之間,用于會(huì)聚第一和第二光束。
11.按照權(quán)利要求1的系統(tǒng),其中的第一和第二光源,提供的是激光。
12.按照權(quán)利要求1的系統(tǒng),其中的原始光源是激光光源。
13.按照權(quán)利要求11的系統(tǒng),其中的第一光源用于提供第一波長的激光,而第二光源用于提供與第一波長不同的第二波長的激光。
14.按照權(quán)利要求1的系統(tǒng),其中的第一和第二光源是燈。
15.一種多面鏡掃描系統(tǒng),包括有反射側(cè)面的多面鏡;用于旋轉(zhuǎn)多面鏡的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu);和用于引導(dǎo)多束光束照射在側(cè)面上的光源,使每一光束以不同于其他光束入射角的入射角,照射在側(cè)面上,且當(dāng)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)多面鏡時(shí),每一光束在各自的時(shí)間區(qū)間,被側(cè)面反射,掃描基片表面各自的部分;其中的側(cè)面有總的表面面積,而多束光束的每一束,用側(cè)面表面的各自部分,反射到基片表面上;其中,用于反射光束的側(cè)面表面的各個(gè)部分之和,大于總表面面積的百分之90。
16.一種方法,包括旋轉(zhuǎn)有反射側(cè)面的多面鏡;引導(dǎo)第一光束以第一入射角,照射在側(cè)面上,使當(dāng)多面鏡旋轉(zhuǎn)時(shí),第一光束在第一時(shí)間區(qū)間,被側(cè)面反射,掃描基片表面的第一部分;和引導(dǎo)第二光束以第二入射角,照射在側(cè)面上,使當(dāng)多面鏡旋轉(zhuǎn)時(shí),第二光束在第一時(shí)間區(qū)間隨后的第二時(shí)間區(qū)間,被側(cè)面反射,掃描基片表面的第二部分。
17.按照權(quán)利要求16的方法,包括產(chǎn)生單一的原始光束并把該原始光束分解為第一和第二光束。
18.按照權(quán)利要求17的方法,包括把原始光束分解為第三光束,以第三入射角照射在側(cè)面上,使當(dāng)多面鏡旋轉(zhuǎn)時(shí),第三光束在第二時(shí)間區(qū)間隨后的第三時(shí)間區(qū)間,被側(cè)面反射,掃描基片表面的第三部分。
19.按照權(quán)利要求16的方法,包括產(chǎn)生單一的原始光束并把該原始光束衍射為第一和第二光束。
20.按照權(quán)利要求19的方法,包括把原始光束衍射為包括第一和第二光束的N束光束,以第N個(gè)入射角照射在該側(cè)面上,使當(dāng)多面鏡旋轉(zhuǎn)時(shí),該第N束光束在第N個(gè)時(shí)間區(qū)間,被該側(cè)面反射,掃描基片表面的第N部分。
21.按照權(quán)利要求16的方法,包括使側(cè)面與基片之間的第一和第二光束會(huì)聚。
22.一種方法,包括旋轉(zhuǎn)有反射側(cè)面的多面鏡;和引導(dǎo)多束光束照射在側(cè)面上,使每一光束以不同于其他光束入射角的入射角,照射在側(cè)面上,且當(dāng)多面鏡旋轉(zhuǎn)時(shí),每一光束在各自的時(shí)間區(qū)間,被該側(cè)面反射,掃描基片表面各自的部分;其中的側(cè)面有總的表面面積,而多束光束的每一束,用側(cè)面表面的各自部分,反射到基片表面上;其中,用于反射光束的側(cè)面表面的各個(gè)部分之和,大于總表面面積的百分之90。
23.按照權(quán)利要求1的系統(tǒng),其中基片表面的第一部分,與基片表面的第二部分相同。
24.按照權(quán)利要求1的系統(tǒng),還包括可移動(dòng)的臺(tái),用于支承基片和相對(duì)于多面鏡移動(dòng)基片。
25.按照權(quán)利要求24的系統(tǒng),其中的臺(tái),用于移動(dòng)基片,使基片表面的第一部分不同于基片表面的第二部分。
26.按照權(quán)利要求4的系統(tǒng),還包括可移動(dòng)的臺(tái),用于支承基片和相對(duì)于多面鏡移動(dòng)基片,使基片表面的第一、第二、和第三部分彼此不同。
27.按照權(quán)利要求7的系統(tǒng),還包括可移動(dòng)的臺(tái),用于支承基片和相對(duì)于多面鏡移動(dòng)基片,使基片表面的N個(gè)部分彼此不同。
28.按照權(quán)利要求15的系統(tǒng),還包括可移動(dòng)的臺(tái),用于支承基片和相對(duì)于多面鏡移動(dòng)基片,使基片表面的各個(gè)部分彼此不同。
29.按照權(quán)利要求16的方法,包括移動(dòng)基片,使基片表面的第一部分不同于基片表面的第二部分。
30.按照權(quán)利要求18的方法,還包括相對(duì)于多面鏡移動(dòng)基片,使基片表面的第一、第二、和第三部分彼此不同。
31.按照權(quán)利要求20的方法,還包括相對(duì)于多面鏡移動(dòng)基片,使基片表面的N個(gè)部分彼此不同。
32.按照權(quán)利要求22的方法,包括相對(duì)于多面鏡移動(dòng)基片,使基片表面的各個(gè)部分彼此不同。
33.按照權(quán)利要求16的方法,包括產(chǎn)生單一的原始光束,并使該原始光束分別在第一和第二時(shí)間區(qū)間偏轉(zhuǎn),以第一和第二入射角,照射在側(cè)面上。
全文摘要
提供一種多面鏡掃描系統(tǒng)和方法,其中,兩束或多束光束以不同入射角,照射多面鏡的側(cè)面,并在多面鏡旋轉(zhuǎn)時(shí),相繼地用于掃描基片的表面。實(shí)施例包括的一種系統(tǒng),包括有反射側(cè)面的多面鏡、用于旋轉(zhuǎn)多面鏡的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)和光源,該光源用于引導(dǎo)多束光束照射在側(cè)面上,使每一光束以不同的入射角照射在側(cè)面上。當(dāng)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)多面鏡時(shí),每一光束在各自的時(shí)間區(qū)間,被側(cè)面反射,掃描基片表面的特定部分。多束光束的每一束,用側(cè)面表面的各自部分,反射到基片表面,使用于反射該光束的側(cè)面表面各個(gè)部分的和,是總表面面積非常大的百分比。因此,該系統(tǒng)有接近百分之100的占空因數(shù)以及高的數(shù)據(jù)速率。
文檔編號(hào)B41J2/435GK1625707SQ03802864
公開日2005年6月8日 申請(qǐng)日期2003年1月14日 優(yōu)先權(quán)日2002年1月14日
發(fā)明者鮑里斯·高德博格, 斯維尤·瑞恩霍恩 申請(qǐng)人:應(yīng)用材料有限公司
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