專利名稱：用于紅外敏感組合物的雜取代的芳基乙酸共引發(fā)劑的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及引發(fā)劑體系和含有它們的紅外敏感的組合物，所述組合物尤其特別適于制備可采用紅外輻射成影像地曝光的印刷板前體。尤其適用于高性能印刷板前體的輻射敏感組合物必須滿足高的要求。
背景技術：
在印刷板前體領域的最新進展涉及可借助激光或激光二極管成影像地曝光的輻射敏感組合物。這類曝光不要求膜作為中間信息載體，因為可通過計算機控制激光。
在可商購的圖像定位器中使用的高性能激光或激光二極管分別發(fā)射介于800-850nm和介于1060至1120nm的波長范圍內的光。因此，印刷板前體，或者借助這種圖像定位器成影像地曝光的包含在其內的引發(fā)劑體系，必須在近紅外范圍內敏感。這種印刷板前體然后可基本上在白天條件下處理，這顯著有助于其生產和加工。對于這種印刷板來說，存在生產輻射敏感組合物的兩種不同的可能性。
對于負性工作的印刷板來說，使用輻射敏感的組合物，其中在成影像地曝光之后固化曝光區(qū)域。在顯影步驟中，僅僅未曝光的區(qū)域從基板上除去。對于正性工作的印刷板來說，使用其中在給定的顯影劑中，曝光區(qū)域比未曝光區(qū)域更快速溶解的輻射敏感的組合物，該過程被稱為光致增溶。
然而，對在正性體系中的輻射敏感的組合物來說，存在某種困境，因為對于大量的復制品來說，需要交聯的聚合物。然而，這種聚合物不溶于適于板涂布的溶劑或溶劑混合物中，結果需要未交聯或僅輕度交聯的起始產物。然后可通過預熱步驟實現必須的交聯，其中所述預熱步驟可在板的加工的各階段中進行。印刷板、印刷電路板和干膜抗蝕劑前體組合物通常包含至少一種紅外吸收化合物，至少一種能產生自由基的化合物，至少一種共引發(fā)劑化合物和選自具有烯鍵式不飽和度的不飽和自由基可聚合單體、低聚物和聚合物的至少一種可聚合的組分。僅僅依賴于三嗪或N-烷氧基吡啶鎓鹽作為用于聚合不飽和單體的自由基引發(fā)劑的紅外敏感的成像組合物不切實際地慢，從而需要使用共引發(fā)劑。
根據Hauck等的美國專利6309792(其全部公開內容在此通過參考引入)已知，添加一些多羧酸化合物作為共引發(fā)劑到這種紅外敏感的成像組合物中顯著改進其光反應速度。需要確定可充當共引發(fā)劑的其它材料以改進這種紅外敏感的成像組合物的反應速度。
在美國專利4366228和Wzyszczynski等的Macromolecules2000，33，1577-1582中還已知在紫外敏感的成像組合物中摻入一些單羧酸衍生物如苯氧基乙酸和硫代苯氧基乙酸和N-甲基吲哚-3-乙酸作為共引發(fā)劑。然而，這種組合物沒有紅外敏感性。在美國專利4366228中，在不存在任何三嗪或N-烷氧基吡啶鎓鹽共引發(fā)劑的情況下，將單羧酸用作唯一的引發(fā)劑。還公開了單羧酸組合物比含N-苯基甘氨酸(NPG)的組合物要慢。在Macromolecules的參考組合物內的引發(fā)生色團是4-羧基二苯酮。
還已知在紫外可固化的鹵化銀照相乳液組合物中摻入不同的雜芳基乙酸化合物，和可參考美國專利6054260。
當在印刷板前體的制備中使用時，既顯示出高度的輻射敏感性又顯示出充分長的儲藏期限的輻射敏感的組合物目前僅僅已知與紫外吸收染料有關(EP-A-0730201)。然而，必須在暗室條件下制備和加工使用這種組合物的印刷板前體，和不可能借助以上提及的激光或激光二極管成影像地曝光。尤其是它們不可能在白天加工的事實限制了它們的可能應用。
發(fā)明概述本發(fā)明的目的是提供新型的紅外敏感的成像組合物，其類似于美國專利6309792中的那些，但含有除多羧酸化合物以外的共引發(fā)劑化合物。
本發(fā)明另一目的是提供紅外敏感組合物，所述組合物允許制備負性工作的印刷板前體，所述印刷板前體具有長的儲藏期限、提供連續(xù)的大量復制品和高度抗顯影化學品，和該組合物的特征另外在于，高的紅外敏感度和溶解能力以及在白天的可加工性，和提供這種紅外敏感組合物在制備負性工作的印刷板前體中的用途。
通過紅外敏感組合物來實現這些目的，其中所述組合物除了包含聚合物粘合劑以外，還包含由選自不飽和自由基可聚合單體、可自由基聚合的低聚物和在主鏈內和/或在側鏈基團內含C＝C鍵的聚合物中的至少一種組分，和引發(fā)劑體系組成的自由基可聚合體系，其中引發(fā)劑體系包括下述組分(a)至少一種能吸收紅外輻射的物質(b)至少一種能產生自由基的化合物(c)至少一種用下述通式結構表示的雜取代的芳基乙酸共引發(fā)劑化合物Ar-X-CH2CO2H 和 其中X是氮、氧或者硫，Ar是任何取代或未取代的芳環(huán)和R是任何取代基。
優(yōu)選實施方案的詳細說明有用的紅外吸收物質典型地在大于750nm的電磁光譜的近紅外區(qū)域內具有最大吸收波長；更特別地，其最大吸收波長在約800-約1200nm范圍內。
優(yōu)選至少一種化合物(a)選自三芳基胺染料、噻唑鎓染料、吲哚鎓染料、噁唑鎓染料、菁染料、聚苯胺染料、聚吡咯染料、聚噻吩染料和酞菁顏料。更優(yōu)選組分(a)是分子式(A)的菁染料
其中各X獨立地表示S、O、NR或C(烷基)2；各R1獨立地為烷基、烷基磺酸根或烷基銨基；R2表示氫、鹵素、SR、SO2R、OR或NR2；各R3獨立地表示氫原子、烷基、COOR、OR、SR、NR2、鹵原子或任選取代的苯并稠環(huán)；A-表示陰離子；---表示任選的碳環(huán)5或6元環(huán)；各R獨立地表示氫、烷基或芳基；各n獨立地為0、1、2或3。
若R1是烷基磺酸根，則A-可不存在(形成內鹽)；否則需要堿金屬陽離子作為抗衡離子。若R1是烷基銨基，則需要第二陰離子作為抗衡離子；這一第二陰離子可以是與A-相同或者是不同的一種。
化合物(b)優(yōu)選選自多鹵代烷基取代的化合物和吖嗪鎓化合物。
在本發(fā)明的自由基聚合體系中，組分(a)、(b)和(c)所有這三種相互反應生成引發(fā)自由基，即在組分(a)與組分(b)與雜芳基乙酸之間形成的自由基。為了實現高度的輻射敏感度，所有這三種組分的存在是必不可少的。發(fā)現當組分(b)省去時，獲得完全輻射不敏感的組合物。需要雜芳基乙酸以獲得所要求的熱穩(wěn)定性。若雜芳基乙酸例如被具有巰基的化合物或者被硼酸銨替代，則輻射敏感度可能略微下降和這種組合物的熱穩(wěn)定性可能不足。
本領域已知的基本上所有聚合物或聚合物混合物可用作聚合物粘合劑，例如丙烯酸共聚物和甲基丙烯酸共聚物。優(yōu)選地，聚合物的重均分子量范圍為10000-1000000(借助GPC測定)。鑒于在印刷工藝過程中與油墨接收度有關的可能的問題，優(yōu)選所使用的聚合物的酸值為＞70mg KOH/g，或者當使用聚合物混合物時，單獨的酸值的數學平均應當＞70mg KOH/g。優(yōu)選酸值＞110mg KOH/g的聚合物或聚合物混合物；特別優(yōu)選酸值介于140至160mg KOH/g?；诩t外敏感的組合物中總固體含量，在紅外敏感的組合物內的聚合物粘合劑的含量優(yōu)選占30-60wt％，更優(yōu)選35-45wt％。
作為不飽和的自由基可聚合單體或低聚物，可使用例如具有一個或多個不飽和基團的丙烯酸或甲基丙烯酸衍生物，優(yōu)選單體形式、低聚物或預聚物形式的丙烯酸或甲基丙烯酸的酯。它們可以以固體或液體形式存在，其中優(yōu)選固體和高度粘稠的形式。適合作為單體的化合物包括例如三羥甲基丙烷三丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，季戊四醇三丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，二季戊四醇單羥基五丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，二季戊四醇六丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，季戊四醇四丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯；雙三羥甲基丙烷四丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，二甘醇二丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯；三甘醇二丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯或者四甘醇二丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯。合適的低聚物和/或預聚物是聚氨酯丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，環(huán)氧化丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，聚酯丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，聚醚丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯或不飽和聚酯樹脂。
除了單體和低聚物以外，還可使用在主鏈內和/或在側鏈內具有C＝C鍵的聚合物。
其實例包括馬來酸酐-烯烴共聚物和(甲基)丙烯酸羥烷酯的反應產物，含有烯丙基醇基的聚酯，聚合物多元醇和(甲基)丙烯酸異氰酸酯的反應產物，不飽和聚酯和(甲基)丙烯酸酯封端的聚苯乙烯，聚(甲基)丙烯酸和聚醚。
基于紅外敏感組合物中總固體含量，低聚物中可自由基聚合單體的重量比優(yōu)選為35-60wt％，更優(yōu)選45-55wt％。
本發(fā)明的引發(fā)劑體系包括能吸收紅外輻射的物質作為必要組分。這種紅外吸收劑優(yōu)選選自三芳基胺染料、噻唑鎓染料、吲哚鎓染料、惡唑鎓染料、菁染料、聚苯胺染料、聚吡咯染料、聚噻吩染料和酞菁顏料。更優(yōu)選是分子式(A)的紅外染料
其中X優(yōu)選C(烷基)2基；R1優(yōu)選具有1-4個碳原子的烷基；R2優(yōu)選SR；R3優(yōu)選氫原子；R優(yōu)選烷基或芳基；特別優(yōu)選苯基；虛線優(yōu)選表示具有5或6個碳原子的環(huán)的其余部分。
抗衡離子A-優(yōu)選是氯離子或甲苯磺酸根陰離子或銨離子；特別優(yōu)選具有對稱的分子式(A)的紅外染料。這種特別優(yōu)選的染料的實例包括2-[2-[2-苯磺?；?3-[2-(1，3-二氫-1，3，3-三甲基-2H-亞吲哚-2-基)-亞乙基]-1-環(huán)己烯-1-基]-乙烯基]-1，3，3-三甲基-3H-吲哚鎓氯化物，2-[2-[2-苯硫基-3-[2-(1，3-二氫-1，3，3-三甲基-2H-亞吲哚-2-基)-亞乙基]-1-環(huán)己烯-1-基]-乙烯基]-1，3，3-三甲基-3H-吲哚鎓氯化物，2-[2-[2-苯硫基-3-[2-(1，3-二氫-1，3，3-三甲基-2H-亞吲哚-2-基)-亞乙基]-1-環(huán)戊烯-1-基]-乙烯基]-1，3，3-三甲基-3H-吲哚鎓甲苯磺酸鹽，2-[2-[2-氯-3-[2-乙基-(3H-亞苯并噻唑-2-基)-亞乙基]-1-環(huán)己烯-1-基]-乙烯基]-3-乙基-苯并噻唑鎓甲苯磺酸鹽，和2-[2-[2-氯-3-[2-(1，3-二氫-1，3，3-三甲基-2H-亞吲哚-2-基)-亞乙基]-1-環(huán)己烯-1-基]-乙烯基]-1，3，3-三甲基-3H-吲哚鎓甲苯磺酸鹽。
同樣可用于本發(fā)明組合物的紅外吸收劑是下述化合物


基于紅外敏感組合物中總的固體含量，紅外吸收劑(a)優(yōu)選以0.05-20wt％的用量存在于紅外敏感組合物中；特別優(yōu)選0.58wt％的用量。引發(fā)劑體系的另一必要組分是能產生自由基的化合物(b)。優(yōu)選地，該化合物選自多鹵代烷基取代的化合物和吖嗪鎓化合物。特別優(yōu)選多鹵代烷基取代的化合物；這些是包括一個多鹵化或者幾個單鹵化的烷基取代基的化合物。鹵化烷基優(yōu)選具有1-3個碳原子；特別優(yōu)選鹵化甲基。
多鹵代烷基取代的化合物的吸收性能基本上決定了紅外敏感組合物的日光穩(wěn)定性。具有＞330nm的UV/VIS吸收最大值的化合物導致在印刷板于日光中保持6-8分鐘，然后預熱之后不可能再完全顯影的組合物。作為原則，這種組合物可不僅用紅外輻射，而且可用紫外輻射而成影像地曝光。若希望高度的白天穩(wěn)定性，優(yōu)選不具有＞330nm的UV/VIS吸收最大值的多鹵代烷基取代的化合物。
吖嗪鎓化合物包括吖嗪鎓核，如單吖嗪鎓或二吖嗪鎓核。在GB2083832中公開了合適的這種化合物，其公開內容在此通過參考引入?？赏ㄟ^碳環(huán)芳核稠合吖嗪鎓核，即，可苯并或萘并縮合。換句話說，吖嗪鎓核包括喹啉鎓、異喹啉鎓、苯并二嗪鎓和萘并二嗪鎓核，后兩種是苯并稠合的二嗪鎓化合物。為了實現每單位重量最高可獲得的活化效率，優(yōu)選使用單環(huán)吖嗪鎓核，如吡啶鎓核。在自由基產生化合物(b)內的氮原子的季化取代基，如吖嗪鎓環(huán)，一旦從光敏劑中電子轉移到化合物(b)如吖嗪鎓化合物上，則能作為自由基釋放。在一個優(yōu)選的形式中，季化取代基是氧取代基。季化吖嗪鎓核的環(huán)氮原子的氧取代基(-O-R)可選自各種合成的常規(guī)氧取代基。R部分可例如是烷基，其中烷基可被取代；可以考慮例如芳烷基和磺烷基。最優(yōu)選的氧取代基(-O-R)含有1或2個碳原子。
用于本發(fā)明組合物的特別合適的化合物(b)的實例包括N-甲氧基-4-苯基-吡啶鎓四氟硼酸鹽、三溴甲基苯砜、1，2，3，4-四溴-正丁烷、2-(4-甲氧基苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-氯苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-苯基-4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2，4，6-三(三氯甲基)-s-三嗪、2，4，6-三(三溴甲基)-s-三嗪、2-羥基十四烷氧基苯基苯基碘鎓六氟銻酸鹽和2-甲氧基-4-苯基氨基苯重氮鎓六氟磷酸鹽。
此外，在本發(fā)明的組合物中，下述化合物用作引發(fā)劑(b) 基于紅外敏感組合物的總的固體含量，化合物(b)優(yōu)選以2-15wt％的用量存在于紅外敏感組合物中；特別優(yōu)選4-7wt％的用量。
本發(fā)明的紅外吸收成像組合物中的新型的共引發(fā)劑化合物(c)是具有下述之一表示的結構的雜取代的芳基乙酸
Ar-X-CH2CO2H， 和 其中X是氮、氧或者硫，Ar是任何取代或未取代的芳環(huán)和R是任何取代基。
優(yōu)選的單乙酸包括苯氧基乙酸、(苯硫基)乙酸、N-甲基吲哚-3-乙酸、(2-甲氧基苯氧基)乙酸、(3，4-二甲氧基苯硫基)乙酸和4-(二甲基氨基)苯乙酸。
此外，紅外敏感組合物可包括改進圖像對比度的染料。合適的染料是在用于涂布的溶劑或溶劑混合物中充分溶解或者以顏料的分散形式容易引入的那些。合適的對比顏料特別包括羅丹明染料、三芳基甲烷染料、蒽醌顏料和酞菁染料和/或顏料。染料優(yōu)選以1-15wt％的用量，特別優(yōu)選2-7wt％的用量存在于紅外敏感組合物中。
此外，本發(fā)明的紅外敏感組合物可包括增塑劑。合適的增塑劑尤其包括鄰苯二甲酸二丁酯、磷酸三芳酯和鄰苯二甲酸二辛酯。若使用增塑劑，則優(yōu)選以0.25-2wt％范圍內的用量存在。
本發(fā)明的紅外敏感組合物可優(yōu)選用于制備印刷板前體。然而，另外它們可在記錄材料中用于在合適的載體和接收片材上生成圖像，用于生成浮雕，所述浮雕可充當印刷板、屏幕和類似物，充當可輻射固化的清漆用于表面保護和用于配制可輻射固化的印刷油墨。
對于膠印印刷板前體的制備來說，可使用常規(guī)的載體；特別優(yōu)選使用鋁載體。當使用鋁載體時，優(yōu)選首先通過在干燥狀態(tài)下刷擦、用磨蝕劑懸浮液或例如在鹽酸電解質中電化學刷擦，使之糙化；在處理之后，然后使任選地在硫酸或磷酸中陽極氧化的糙化板經歷親水化，優(yōu)選在聚乙烯基膦酸或磷酸的水溶液中經歷親水化。以上所述的基板預處理的細節(jié)是熟練本領域的技術人員公知的。
然后用來自有機溶劑或溶劑混合物中的本發(fā)明的紅外敏感組合物涂布干燥板，以便獲得優(yōu)選0.5-4g/m2，更優(yōu)選0.8-3g/m2的干層重量。
在紅外敏感層之上施加氧氣不可滲透的層，這是本領域公知的，例如氧氣很少或沒有滲透的層，如聚乙烯醇、聚乙烯醇/聚乙酸乙烯酯共聚物、聚乙烯基吡咯烷酮、聚乙烯基吡咯烷酮/聚乙酸乙烯酯共聚物、聚乙烯基甲醚、聚丙烯酸和明膠的層。氧氣不可滲透的層的干層重量優(yōu)選0.1-4g/m2，更優(yōu)選0.3-2g/m2。這一罩面涂層不僅用作氧阻擋層，而且保護板以避免在曝光于紅外輻射過程中的燒蝕。
采用在800-1100nm范圍內發(fā)射的半導體激光或者激光二極管曝光如此獲得的印刷板前體?？赏ㄟ^計算機數控這種激光束，即它可開啟或關閉，以便可通過在計算機內儲存的數字化信息進行板的成影像地曝光。因此，本發(fā)明的紅外敏感組合物適于生成所謂的計算機印版(ctp)的印刷板。
在印刷板前體成影像地曝光之后，任選地簡單加熱它到85-135℃的溫度，為的是進行曝光區(qū)域的完全固化。取決于所施加的溫度，這僅僅花費20-100秒。
然后使板顯影，這是熟練本領域的技術人員公知的。顯影板通常用防腐劑處理(“涂膠”)。防腐劑是親水聚合物、潤濕劑和其它添加劑的水溶液。
下述實施例用于提供本發(fā)明的更詳細的描述。
實施例1-5如表1詳述制備5種涂料配方。將溶液施加到電化學糙化和陽極化處理的鋁基板上，并干燥，得到2g/m2的涂布重量。
表1.實施例1-5的組合物(以重量份計的配方)

1Joncryl 683是獲自SC Johnson & Son，Inc.的丙烯酸共聚物。
2Jagotex MA 2814是獲自Ernst Jaeger GmbH & Co.的丙烯酸共聚物。
3Sartomer 355是獲自Sartomer Co.，Inc.的多官能團丙烯酸單體。
4紅外染料是2-[2-[2-苯硫基-3-[(1，3-二氫-1，3，3-三甲基-2H-亞吲哚-2-基)亞乙基]-1-環(huán)己烯-1-基]乙烯基]-1，3，3-三甲基-3H-吲哚鎓氯化物5Byk 307是獲自Byk Chemie的改性聚硅氧烷。
6Desmodur N100是獲自Bayer Corporation，Milford，CT的基于亞己基二異氰酸酯的脂族聚異氰酸酯樹脂。
然后用5.26份聚乙烯醇和0.93份聚乙烯基咪唑在3.94份異丙醇和89.97份水內的溶液罩面涂布每一所得涂層，并干燥至最終涂層重量為2g/m2。
實施例1-3的涂層樣品在Creo 3230 Trendsetter上，在2W的功率設定值下，在20-120mJ/cm2的曝光劑量下成像。實施例4在CreoTrendsetter 3244x上在4W下在25-154mJ/cm2下成像。實施例5在CreoTrendsetter 3244x上在5W下在52-500mJ/cm2下成像。然后用980顯影劑(獲自Kodak Polychrome Graphics)，通過Technigraph處理機(其配有使板表面溫度到125℃的預顯影加熱單元)，沖洗處理實施例1-5的板。表2比較了相對于獲得所觀察結果所要求的曝光劑量，5塊板的最大處理的光學密度。
表2光敏性比較

表2概述的結果表明了本發(fā)明的處理涂層的最大光學密度和達到最大處理密度所需的最小曝光劑量。
在如上所述使每一塊板的樣品成像和沖洗處理之前，還在38℃和80％相對濕度的5天的加速老化條件下使之保溫。然后測量在實現最大處理密度所需的最小曝光劑量下每一塊板的反射密度，并與相應的新鮮板的密度比較，以確定涂層密度的損失百分數。表3概述的結果表明，一旦老化，本發(fā)明的涂層就涂層密度損失而言具有良好的儲藏期穩(wěn)定性。
表3加速老化的影響

實施例6如實施例1所述制備實施例6的基礎涂料配方，所不同的是用4-(二甲基氨基)苯乙酸替代苯氧基乙酸。如實施例1所述，施加基礎涂料和制備并施加罩面涂層。如實施例1所述使板成像和沖洗處理它。在～130mJ/cm2的最小曝光能量下獲得0.55的最大處理密度(對于該涂層來說，未處理的密度為0.83，同時對于實施例1-5來說，未處理的密度為約1.0)。
對比例7如實施例1詳述制備對比例7的涂料配方，所不同的是省去苯氧基乙酸。施加溶液到電化學糙化和陽極化處理的鋁基板上并干燥，得到2g/m2的涂布重量。
然后用5.26份聚乙烯醇和0.93份聚乙烯基咪唑在3.94份異丙醇和89.97份水內的溶液罩面涂布所得涂層，并干燥到2g/m2的最終涂布重量。
在Creo 3230 Trendsetter上，在10W的功率設定值下，在100-800mJ/cm2下使涂層樣品成像。然后用980顯影劑(獲自KodakPolychrome Graphics)，通過Technigraph處理機(其配有使板表面溫度到125℃的預顯影加熱單元)，沖洗處理該板。實現最大處理密度所需的最小曝光能量為～300mJ/cm2，且處理密度為0.78。該實施例表明，本發(fā)明的雜取代的芳基乙酸共引發(fā)劑顯著改進照相速度，與它們不存在時獲得的相比。
應當理解，前述說明僅僅是本發(fā)明的例舉。熟練本領域的技術人員可在沒有脫離本發(fā)明的情況下，修正各種替代和改性。因此，本發(fā)明擬包括落在所附權利要求范圍內的所有的這種替代、改性和改變。
權利要求
1.一種紅外敏感組合物，它包括含下述組分的引發(fā)劑體系(a)至少一種能吸收紅外輻射的物質；(b)至少一種能產生自由基的化合物；和(c)至少一種選自下述通式結構的雜取代的芳基乙酸共引發(fā)劑化合物Ar-X-CH2CO2H， 和 其中X是氮、氧或者硫，Ar是任何取代或未取代的芳環(huán)和R是任何取代基。
2.權利要求1的組合物，其中雜取代的芳基乙酸共引發(fā)劑選自苯氧基乙酸、(苯硫基)乙酸、N-甲基吲哚-3-乙酸、(2-甲氧基苯氧基)乙酸、(3，4-二甲氧基苯硫基)乙酸和4-(二甲基氨基)苯乙酸。
3.權利要求1的組合物，其中能吸收紅外輻射的材料選自三芳基胺染料、噻唑鎓染料、吲哚鎓染料、噁唑鎓染料、菁染料、聚苯胺染料、聚吡咯染料、聚噻吩染料和酞菁顏料。
4.權利要求2的組合物，其中能吸收紅外輻射的材料是通式(A)的菁染料 其中各X獨立地表示S、O、NR或C(烷基)2；各R1獨立地為烷基、烷基磺酸根或烷基銨基；R2表示氫、鹵素、SR、SO2R、OR或NR2；各R3獨立地表示氫原子、烷基、COOR、OR、SR、NR2、鹵原子或任選取代的苯并稠環(huán)；A-表示陰離子；---表示任選的碳環(huán)5或6元環(huán)；各R獨立地表示氫、烷基或芳基；和各n獨立地為0、1、2或3。
5.權利要求1的組合物，其中能產生自由基的化合物選自多鹵代烷基取代的化合物和吖嗪鎓化合物。
6.權利要求1的組合物，其中能吸收紅外輻射的材料選自2-[2-[2-苯硫基-3-[2-(1，3-二氫-1，3，3-三甲基-2H-亞吲哚-2-基)-亞乙基]-1-環(huán)戊烯-1-基]-乙烯基]-1，3，3-三甲基-3H-吲哚鎓甲苯磺酸鹽，2-[2-[2-苯磺?；?3-[2-(1，3-二氫-1，3，3-三甲基-2H-亞吲哚-2-基)-亞乙基]-1-環(huán)己烯-1-基]-乙烯基]-1，3，3-三甲基-3H-吲哚鎓氯化物，2-[2-[2-苯硫基-3-[2-(1，3-二氫-1，3，3-三甲基-2H-亞吲哚-2-基)-亞乙基]-1-環(huán)己烯-1-基]-乙烯基]-1，3，3-三甲基-3H-吲哚鎓氯化物，2-[2-[2-氯-3-[2-(1，3-二氫-1，3，3-三甲基-2H-亞吲哚-2-基)-亞乙基]-1-環(huán)己烯-1-基]-乙烯基]-1，3，3-三甲基-3H-吲哚鎓甲苯磺酸鹽，和2-[2-[2-氯-3-[2-乙基-(3H-亞苯并噻唑-2-基)-亞乙基]-1-環(huán)己烯-1-基]-乙烯基]-3-乙基-苯并噻唑鎓甲苯磺酸鹽。
7.權利要求1的組合物，其中能產生自由基的化合物選自N-甲氧基-4-苯基吡啶鎓四氟硼酸鹽、2-羥基十四烷氧基苯基苯基碘鎓六氟銻酸鹽、2-甲氧基-4-苯基氨基苯二嗪鎓六氟磷酸鹽、2-苯基-4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-甲氧基苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、三溴甲基苯砜、2，4，6-三(三氯甲基)-s-三嗪和1，2，3，4-四溴-正丁烷。
8.權利要求1的紅外敏感組合物，進一步包括聚合物粘合劑，和選自不飽和自由基可聚合單體、自由基可聚合的低聚物和在主鏈內和/或在側鏈基團內具有C＝C鍵的聚合物的至少一種組分。
9.權利要求8的組合物，另外包括增加圖像對比度的至少一種染料。
10.印刷板前體，其包括含權利要求8的組合物的涂層和氧氣不可滲透的罩面涂層。
11.一種提供圖像的方法，該方法包括(a)用權利要求8的紅外敏感的組合物涂布任選地預處理的基板，和隨后用氧氣不可滲透的末道涂層涂布；(b)將步驟(a)中獲得的印刷板前體成影像地曝光于紅外輻射下；(c)使步驟(b)的處理前體任選地經歷加熱步驟；和(d)隨后用含水顯影劑使前體顯影，獲得可印刷的平版印刷板。
全文摘要
紅外敏感組合物除了包括聚合物粘合劑以外，還包括可自由基聚合的體系和引發(fā)劑體系，所述可自由基聚合的體系由選自不飽和自由基可聚合單體、自由基可聚合的低聚物和在主鏈內和/或在側鏈基團內含C－C鍵的聚合物中的至少一種成分組成，其中引發(fā)劑體系包括下述組分(a)至少一種能吸收紅外輻射的物質；(b)至少一種能產生自由基的化合物；和(c)至少一種用下述通式結構表示的雜取代的芳基乙酸共引發(fā)劑化合物，其中X是氮、氧或者硫，Ar是任何取代或未取代的芳環(huán)和R是任何取代基。Ar－X－CH
文檔編號B41M5/36GK1708409SQ200380102351
公開日2005年12月14日 申請日期2003年10月23日 優(yōu)先權日2002年10月30日
發(fā)明者H·M·蒙奈利, P·R·維斯特, H-J·蒂姆普, U·穆勒, 黃建兵 申請人:柯達保麗光印藝有限責任公司