專利名稱：電極轉(zhuǎn)印膜，利用電極轉(zhuǎn)印膜的電極制造方法及等離子顯示面板的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種電極轉(zhuǎn)印膜，利用電極轉(zhuǎn)印膜的電極制造方法及等離子顯示面板的制造方法。
背景技術(shù)：
一般等離子顯示面板(PDPPlasma Display Panel)指在形成多個電極的兩個基板上注入放電氣體，然后負加放電電壓，在兩個電極間的氣體發(fā)光時，上述放電電壓產(chǎn)生適當?shù)拿}沖電壓，在兩個電極交叉的點尋址，顯示一定的數(shù)字，文字或圖表的平面顯示裝置。
這種等離子顯示面板，制造大型面板的工序簡單，視角寬廣，并且作為自身發(fā)光的類型，其品質(zhì)良好。因其具有上述優(yōu)點，在平面顯示器領(lǐng)域倍受矚目，在戶外廣告板或墻壁式電視機，劇場的顯示儀器等超薄，大型顯示器中應(yīng)用廣泛。一般，等離子顯示面板分為直流型與交流型，其中，交流型等離子顯示面板現(xiàn)已成為主流。
圖1是現(xiàn)有技術(shù)中，交流型等離子顯示面板的實例示意圖。
如圖所示，等離子顯示裝置包含背面基板110；上述背面基板110上形成的定位電極111；在上述定位電極111的背面基板110上形成的電介質(zhì)層112；形成在上述電介質(zhì)層112上，維持放電距離并防止信元(cell)間的光電串擾(cross-talk)的隔層113；與形成上述隔層113的背面基板110相結(jié)合，并形成一定模式的維持電極對114、115，使其與上述定位電極111垂直相交的前面基板116。由上述隔層113劃分的放電空間內(nèi)，至少一面形成熒光體層117，上述前面基板116的下端形成填充電極的電介質(zhì)層118與保護膜119。上述放電空間內(nèi)注入Ne，Xe等的混合放電氣體，Xe的含量占放電空間內(nèi)注入的氣體的4-5％。
上述前面電介質(zhì)層被保護層覆蓋，上述保護層一般由MgO形成，并在放電空間內(nèi)放射2次電子，提高效率，降低電極間負加的放電電壓，同時保護面板內(nèi)部的電介質(zhì)及電極。
形成上述維持電極對及定位電極的方法，現(xiàn)有技術(shù)中使用了絲網(wǎng)印刷術(shù)(screenprinting)，照相蝕刻法(photo etching)等。這并非限定于等離子顯示面板的電極形成工序，亦是其他顯示裝置等的電極形成方法。絲網(wǎng)印刷術(shù)(screen printing)需要印網(wǎng)掩膜(screen mask)，并且由于印網(wǎng)掩膜(screen mask)的限制，精密布線較難，因此主要使用照相蝕刻法(photo etching)。
圖2a至圖2c是利用照相蝕刻法(photo etching)制造電極的順序圖。如圖所示，在基板上方印刷或噴涂感光性電極涂料(paste)或薄層(sheet)并干燥(圖2a)。然后，使用光掩膜(photo mask)，在所需的模式中照射紫外線并曝光(圖2b)。然后，使用堿性水溶液等顯相液祛除未曝光部分，塑造結(jié)構(gòu)件，形成電極(圖2c)。這種照相蝕刻法(photo etching)要使用高價的光掩膜(photo mask)，在曝光后要經(jīng)過顯相，塑像等工序，因此所需費用較高。
因此，需要開發(fā)能夠解決上述問題的電極形成方法，這種要求并非限定于等離子顯示面板的電極形成方法。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，為了解決上述問題，本發(fā)明的目的在于提供一種可以利用激光等光源，以簡單的工序形成電極的電極轉(zhuǎn)印膜，并提供利用電極轉(zhuǎn)印膜的電極制造方法及等離子顯示面板的制造方法。
又，本發(fā)明的目的在于提供一種無須掩膜(mask)，工序簡單，可以減少掩膜(mask)費用的制造方法。
又，本發(fā)明的目的在于提供一種適合大型化及大量的生產(chǎn)的電極制造方法及等離子顯示面板的制造方法。
又，本發(fā)明的目的在于提供一種無需顯相工序，因此解決了電極材料浪費的問題的電極制造方法及等離子顯示面板的制造方法。
為了解決上述問題，本發(fā)明中的電極轉(zhuǎn)印膜，包含帶基薄膜(base film)，上述帶基薄膜(base film)下端形成的光熱轉(zhuǎn)換層，及上述光熱轉(zhuǎn)換層下端形成的電極材料層。上述電極材料層可以包含銀(Ag)。又，上述電極材料層可以包含銦錫氧化物(ITO)。上述光熱轉(zhuǎn)換層由含有激光吸收物質(zhì)的有機膜，金屬，金屬氧化物，金屬硫化物或其混合物組成。又，上述光熱轉(zhuǎn)換層與上述電極材料層間包含放射層。
又，本發(fā)明中提供的利用電極轉(zhuǎn)印膜的電極制造方法，包含在基板上方累積第1項至第5項中任意一項的電極轉(zhuǎn)印膜的階段；照射光，轉(zhuǎn)印電極的階段；及分離上述電極轉(zhuǎn)印膜的階段。
又，本發(fā)明中提供的等離子顯示面板的前面基板制造方法，包含在前面基板上端累積第1項中的電極轉(zhuǎn)印膜的階段；用激光照射上述電極轉(zhuǎn)印膜，轉(zhuǎn)印維持電極，然后分離上述電極轉(zhuǎn)印膜，在上述前面基板上端形成維持電極對的階段；形成封住上述維持電極的前面電介質(zhì)層的階段；及在上述電介質(zhì)層上端形成保護膜層的階段。
又，本發(fā)明中，包含位于前面基板下端部分范圍內(nèi)，以一定的模式相隔形成的維持電極對；具備封住上述維持電極對的前面電介質(zhì)層及上述前面電介質(zhì)層下端形成的保護膜層的前面基板；具備位于后面基板上端，并與上述維持電極對垂直的定位電極的后面基板；及為了劃分放電空間，而在上述后面基板上端形成的隔層；而組成的等離子顯示面板的制造方法中，上述維持電極對或定位電極將第1項中記載的電極轉(zhuǎn)印膜累積在上述前面基板的下端或后面基板的上端上，然后照射激光，分離上述電極轉(zhuǎn)印膜。
現(xiàn)有技術(shù)中的電極制造方法要使用高價的光掩膜(photo mask)，在曝光后還要經(jīng)過顯相，塑造等工序，其制造費用較高。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明中的電極轉(zhuǎn)印膜，電極制造方法及利用此的等離子顯示面板的制造方法，可以利用激光等光源，以簡單的工序形成電極。無須掩膜(mask)，因此工序簡單，可以減少掩膜(mask)費用，適合大型化及大量的生產(chǎn)，并且無需顯相工序，因此解決了電極材料浪費的問題，同時可以減少費用。
四

圖1是現(xiàn)有技術(shù)中，等離子顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2a至圖2c是利用現(xiàn)有技術(shù)中的照相蝕刻法(photo etching)制造電極的順序圖(剖面圖)。
圖3是本發(fā)明實施例中，電極轉(zhuǎn)印膜的剖面圖。
圖4a至圖4d是利用本發(fā)明的另一個實施例制造電極的順序圖。
圖5是利用本發(fā)明的另一個實施例中的，等離子顯示面板的制造方法制造的離子體顯示面板的剖面圖。
附圖中主要部分的符號說明10基板 11電極20電極轉(zhuǎn)印膜 21帶基薄膜(base film)22光熱轉(zhuǎn)換層 23電極材料層30前面基板 31維持電極對32匯流電極對 33前面電介質(zhì)層34保護膜層 40后面基板41定位電極 42后面電介質(zhì)層50隔層 51熒光體五具體實施方式

下面，舉較佳實施例，并配合附圖對本發(fā)明中的等離子顯示面板詳細說明如下。
圖3是本發(fā)明實施例中，電極轉(zhuǎn)印膜20的剖面圖。如圖所示，包含帶基薄膜(base film)21，上述帶基薄膜(base film)21下端形成的光熱轉(zhuǎn)換層22，及上述光熱轉(zhuǎn)換層22下端形成的電極材料層23。雖未圖示，但上述光熱轉(zhuǎn)換層22與電極材料層23間可以包含放射層。
本發(fā)明實施例中的電極轉(zhuǎn)印膜20，在與電極形成線路對應(yīng)的部分照射激光等能量源，照射的能量源由光熱轉(zhuǎn)換層轉(zhuǎn)換為熱量，選擇性地轉(zhuǎn)印電極材料層。本發(fā)明中，光熱轉(zhuǎn)換層吸收的能量源包含激光，氙(Xe)燈及閃光燈(flash lamp)等。其中，激光具有最好的轉(zhuǎn)印效果。此時，激光可以使用固體，氣體，半導(dǎo)體，染料等所有范圍內(nèi)的激光。
上述帶基薄膜(base film)21雖不設(shè)限，但高分子比較適合，這種高分子可以使用聚乙烯，對苯二酸鹽(酯)等聚酯，聚丙烯，聚乙烯環(huán)氧化物，聚乙烯，聚苯乙烯等。其中主要使用聚乙烯對苯二酸鹽(酯)薄膜(film)。帶基薄膜的厚度應(yīng)為10至500μm。
上述光熱轉(zhuǎn)換層22由可吸收上述光能的光吸收性物質(zhì)形成。含有激光吸收物質(zhì)的有機膜，金屬及其復(fù)合層較適合。具有上述特性的薄膜有金屬，上述金屬的氧化物及硫化物，及炭黑(carbon black)，添加鉛或染料的高分子形成的有機膜。
此時，上述金屬，金屬的氧化物及硫化物有鋁(Al)，銀(Ag)，鉻(Cr)，錫(Sn)，鎳(Ni)，鈦(Ti)，鈷(Co)，鋅(Zn)，金(Au)，銅(Cu)，鎢(W)，鉬(Mo)及鉛(Pb)等金屬，及其氧化物及混合物，其中鋁(Al)或銀(Ag)及其氧化物最適合。
又，由含有上述炭黑(carbon black)，鉛或紅外線染料的高分子形成的有機膜是顏料，染料等著色劑，分散劑等分散在高分子結(jié)合樹脂中的有機物。形成上述高分子結(jié)合樹脂的物質(zhì)單獨使用丙烯酸(甲)聚丙烯酸酯塑料低聚物，酯(甲)聚丙烯酸酯塑料低聚物，環(huán)氧(甲)聚丙烯酸酯塑料低聚物，氨甲酸乙酯(甲)聚丙烯酸酯塑料低聚物等(甲)聚丙烯酸酯塑料低聚物。又，在上述低聚物中混合(甲)聚丙烯酸酯塑料單體而使用，或單獨使用(甲)聚丙烯酸酯塑料單體。又，上述炭黑(carbon black)或鉛應(yīng)使用粒子半徑為0.5μm以下的，此時的光學(xué)濃度應(yīng)為0.1至4。
上述光熱轉(zhuǎn)換層22為了更有效地轉(zhuǎn)印電極材料層，可以含有增加轉(zhuǎn)印的物質(zhì)。即，可以含有提供放射曝光范圍所需的壓力的物質(zhì)。雖未設(shè)限，但使用分解溫度(低于約350℃，一般低于約325℃，更一般的則低于約280℃)較低的聚合物較適合。具有一個以上分解溫度的聚合物，其第1分解溫度應(yīng)低于350℃。放射層投射激光而發(fā)生熱轉(zhuǎn)印時，放射層應(yīng)該能夠投射激光的照射，并且不應(yīng)被這種照射所妨礙。
組成放射層的聚合物的適當?shù)睦樱?a)具有低分解溫度(Td)的聚碳酸酯，例如聚丙烯碳酸酯；(b)具有低分解溫度的，置換的苯乙烯聚合物，例如聚(α-甲基苯乙烯)；(c)聚丙烯酰胺及聚甲聚丙烯酸酯塑料酯，例如聚甲基甲聚丙烯酸酯塑料及聚丁基甲聚丙烯酸酯塑料；(d)具有低分解溫度(Td)的纖維素物質(zhì)，例如纖維素醋酸-丁酸人造絲及硝化纖維；及(e)其他聚合物，例如聚氯乙烯；聚(氯乙烯基)聚縮醛；聚偏二乙烯氯化物；聚有低Td的聚亞安酯；聚酯，聚原酸酯；丙烯腈及置換的丙烯腈聚合物；順丁烯二酸樹脂；及其共聚物。聚合物的混合物也可以使用。
又，可以包含吸收光或熱即發(fā)生分解反應(yīng)，放射氮氣或氫氣等的物質(zhì)。例如，季戊四醇四硝酸酯(PETN)，三硝基甲苯(TNT)等。
上述電極材料層23雖未設(shè)限，但可以使用含有電極材料的涂料狀材料。電極材料在本發(fā)明的技術(shù)領(lǐng)域中可以使用任意的電極材料，可以選擇使用含有銀(Ag)或銦錫氧化物(ITO)等的電極材料。
電極材料層中可以含有結(jié)合劑，結(jié)合劑可以使用分解溫度超過約250℃，尤其是超過約350℃的聚合物材料。結(jié)合劑可以使用感光性樹脂。結(jié)合劑應(yīng)使用可以形成薄膜(film)，并且可以用溶液或分散液壓膜的薄膜(film)。一般是熔點低于約250℃的結(jié)合劑或玻璃化溫度低于約70℃的可塑型結(jié)合劑。但，較易液化或可熱-融解的結(jié)合劑，例如，低-熔融蠟可以作為共結(jié)合劑用于降低電極材料層的熔點，但這種結(jié)合劑的流動性或耐久性產(chǎn)生不良，則應(yīng)避免作為結(jié)合劑單獨使用。
將結(jié)合劑與其他電極材料一同轉(zhuǎn)印時，結(jié)合劑的聚合物一般不會在激光放射時達到的溫度上自身-氧化，分解或變質(zhì)。如上選擇，可以不損傷含有電極材料及結(jié)合劑的電極材料層的曝光范圍而進行轉(zhuǎn)印，改善其耐久性。
適合的結(jié)合劑有苯乙烯及(甲)聚丙烯酸酯的共聚物，例如，苯乙烯/甲基-甲聚丙烯酸酯；苯乙烯及石蠟單體的共聚物，例如，苯乙烯/乙烯/丁烯；苯乙烯及丙烯腈的共聚物；氟代聚合物；(甲)聚丙烯酸酯與乙烯及一氧化碳的共聚物；聚有適當?shù)姆纸鉁囟鹊木厶妓狨ィ?甲)聚丙烯酸的單獨的聚合物及共聚物；聚砜；聚亞安酯；聚酯。上述聚合物中的單體可以是置換的，亦可以是非置換的。置換劑包含鹵素，氧或含有置換劑的氮氣。亦可以使用聚合物的混合物。
上述光熱轉(zhuǎn)換層(22)與電極材料層(23)間可以添加放射層。上述放射層中可以含有增加轉(zhuǎn)印力，使其更有效地轉(zhuǎn)印電極材料層的物質(zhì)。即，可以含有提供放射曝光范圍所需的壓力的物質(zhì)。雖未設(shè)限，但使用分解溫度(低于約350℃，一般低于約325℃，更一般的則低于約280℃)較低的聚合物較適合。具有一個以上分解溫度的聚合物，其第1分解溫度應(yīng)低于350℃。放射層投射激光而發(fā)生熱轉(zhuǎn)印時，放射層應(yīng)該能夠投射激光的照射，并且不應(yīng)被這種照射所妨礙。
組成放射層的聚合物的適當?shù)睦?，?a)具有低分解溫度(Td)的聚碳酸酯，例如聚丙烯碳酸酯；(b)具有低分解溫度的，置換的苯乙烯聚合物，例如聚(α-甲基苯乙烯)；(c)聚丙烯酰胺及聚甲聚丙烯酸酯塑料酯，例如聚甲基甲聚丙烯酸酯塑料及聚丁基甲聚丙烯酸酯塑料；(d)具有低分解溫度(Td)的纖維素物質(zhì)，例如纖維素醋酸-丁酸人造絲及硝化纖維；及(e)其他聚合物，例如聚氯乙烯；聚(氯乙烯基)聚縮醛；聚偏二乙烯氯化物；聚有低Td的聚亞安酯；聚酯，聚原酸酯；丙烯腈及置換的丙烯腈聚合物；順丁烯二酸樹脂；及其共聚物。聚合物的混合物也可以使用。
又，可以包含吸收光或熱即發(fā)生分解反應(yīng)，放射氮氣或氫氣等的物質(zhì)。例如，季戊四醇四硝酸酯(PETN)，三硝基甲苯(TNT)等。
一方面，本發(fā)明中提供的電極制造方法，包含在基板10上方累積電極轉(zhuǎn)印膜20的階段；照射光，轉(zhuǎn)印電極11的階段；及分離上述電極轉(zhuǎn)印膜20的階段。
本發(fā)明中的電極制造方法，無需光掩膜(photo mask)，可以選擇性地照射激光，并且不需要現(xiàn)有技術(shù)中的顯相工序。本發(fā)明中不排除另行添加顯相工序。
圖4a至圖4d是本發(fā)明中的另一個實施例，是利用上述電極轉(zhuǎn)印膜20制造電極11的順序圖。
首先，在基板10上方累積上述電極轉(zhuǎn)印膜20(圖4a)。電極轉(zhuǎn)印膜已經(jīng)作了詳細介紹，在此略而不談。
上述基板10指電極所處的位置，只要有電極就不設(shè)限。上述基板可以是玻璃基板或塑料基板，亦可以是透明電極。
然后，在與電極形成線路對應(yīng)的部分照射光(圖4b)?？梢栽陔姌O轉(zhuǎn)印膜方向照射，亦可以在基板方向照射。在特定部分照射光，尤其是激光，是本發(fā)明的技術(shù)領(lǐng)域中眾所周知的事項，在此省略詳細的說明。
本發(fā)明中使用的能量源包含激光，氙(Xe)燈及閃光燈(flash lamp)等。其中，激光具有最好的轉(zhuǎn)印效果。此時，激光可以使用固體，氣體，半導(dǎo)體，染料等所有范圍內(nèi)的激光，激光束的模樣可以是圓形光束或其他形狀的光束。
上述光經(jīng)過轉(zhuǎn)印裝置激活光熱轉(zhuǎn)換層22，由熱分解反應(yīng)放射熱量。由于這樣放射的熱量，在光熱轉(zhuǎn)換層或放射層中發(fā)生分解反應(yīng)并膨脹，上述電極材料層23從電極轉(zhuǎn)印膜中分離轉(zhuǎn)印電極11所需的線路。
然后，分離上述電極轉(zhuǎn)印膜20(圖4c)。未照射光的部分附著在電極轉(zhuǎn)印膜上，因此，在分離電極轉(zhuǎn)印膜時自動被去除，并且選擇性地照射光，因此，僅在轉(zhuǎn)印的部分具有電極11。
然后，塑造轉(zhuǎn)印的電極，完成電極11的制造(圖4d)。塑造工序是本發(fā)明的技術(shù)領(lǐng)域中眾所周知的事項，在此省略詳細的說明。
一方面，上述的電極制造方法中，若是已布線的電極，則不受使用電極的領(lǐng)域的任何限制。尤其，可以應(yīng)用于等離子顯示面板的電極制造方法中。
圖5是利用本發(fā)明的另一個實施例中的，等離子顯示面板的制造方法制造的離子體顯示面板的剖面圖。如圖所示，等離子顯示面板包含位于前面基板30下端部分范圍內(nèi)，以一定的模式相隔形成的維持電極對31；具備封住上述維持電極對的前面電介質(zhì)層33及上述前面電介質(zhì)層下端形成的保護膜層34的前面基板；具備位于后面基板40上端，并與上述維持電極對垂直的定位電極41的后面基板；及為了劃分放電空間，而在上述后面基板上端形成的隔層50。圖示的匯流電極對32可以省略。隔層與后面基板上方可以噴涂熒光體51。還可以包含后面電介質(zhì)層42。然其并非用以限定本發(fā)明，本發(fā)明技術(shù)領(lǐng)域中的更動，附加，省略均屬于本發(fā)明的保護范圍。
上述等離子顯示面板的維持電極對31，匯流電極對32或定位電極41可以利用上述電極轉(zhuǎn)印膜20制造，并可以徹底改善電極制造工序。
首先，對等離子顯示面板的前面基板的制造方法進行說明。
本發(fā)明中提供，利用上述電極制造方法的，等離子顯示面板前面基板的制造方法。即，本發(fā)明中的等離子顯示面板的前面基板制造方法，包含在前面基板30上端累積上述電極轉(zhuǎn)印膜20的階段；用激光照射上述電極轉(zhuǎn)印膜20，轉(zhuǎn)印維持電極，然后分離上述電極轉(zhuǎn)印膜，在上述前面基板上端形成維持電極對31的階段；形成封住上述維持電極的前面電介質(zhì)層33的階段；及在上述電介質(zhì)層上端形成保護膜層34的階段。
首先，在前面基板上端累積上述電極轉(zhuǎn)印膜20，如上所述，選擇性地照射激光，轉(zhuǎn)印維持電極，然后分離電極轉(zhuǎn)印膜，形成維持電極對31。維持電極對應(yīng)并列地以條(stripe)型組成。維持電極對的材料應(yīng)使用透明電極材料，因此，電極轉(zhuǎn)印膜的電極材料層最好含有透明電極材料。尤其應(yīng)含有銦錫氧化物(ITO)。利用電極轉(zhuǎn)印膜的電極制造方法，在前面已經(jīng)作了詳細說明，在此略而不談。上述前面基板30可以選擇玻璃基板，為了使其具有較均衡的平面，利用漂浮法(Float Method)制造。
然后，具備匯流電極對32時，在上述維持電極對上方部分領(lǐng)域中，以一定模式形成匯流電極對。應(yīng)與維持電極對并排形成。本發(fā)明的技術(shù)領(lǐng)域中，電極的形成方法不受限制，可以隨意選擇使用。即，可以使用絲網(wǎng)印刷術(shù)，亦可以在電鍍后，用影印石版術(shù)形成線路并形成匯流電極對。
更適合的方法有，利用電極轉(zhuǎn)印膜制造的方法。即，累積包含在封住維持電極上端的匯流電極材料的電極材料層中的電極轉(zhuǎn)印膜，向上述電極轉(zhuǎn)印膜照射激光，轉(zhuǎn)印匯流電極，分離上述電極轉(zhuǎn)印膜。其中可以利用上述方法，在此略而不談。匯流電極材料應(yīng)含有銀(Ag)。
然后，為了封住上述維持電極對及匯流電極對，噴涂前面電介質(zhì)層33。其方法不設(shè)限，適合的方法有，利用電介質(zhì)涂料印刷方法均勻地噴涂后塑造完成。
然后，在上述前面電介質(zhì)層上方形成保護膜層34，完成等離子顯示面板的前面基板。上述保護膜層防止填充導(dǎo)致的前面電介質(zhì)層損傷，增加PDP的壽命，并且可以提高2次電子的放射效率。保護膜層的材料可以使用氧化鎂(MgO)，氧化鋯(ZrO)，氧化鉿(HfO)，氧化鈰(CeO2)，氧化釷(ThO2)或氧化鑭(La2O3)等，其中最適合的是，2次電子放射系數(shù)與內(nèi)部等離子體浸蝕特性優(yōu)良的氧化鎂(MgO)。氧化鎂(MgO)可以利用與普通電子束電鍍法相同的真空電鍍法等而形成。
與上述的前面基板不同，另行制造后面基板。
首先，在后面基板40上方形成與上述維持電極對垂直的定位電極41?？梢岳帽景l(fā)明的技術(shù)領(lǐng)域中眾所周知的方法形成定位電極，亦可以利用電極材料層中含有定位電極材料的電極轉(zhuǎn)印膜制造定位電極。其方法與上述的維持電極對或匯流電極對的制造方法類似，在此略而不談。
然后，形成封住上述定位電極的后面電介質(zhì)層42(可以省略)。其制造方法與上述的前面電介質(zhì)層的形成方法類似，因此可以使用本發(fā)明技術(shù)領(lǐng)域中的后面電介質(zhì)層形成方法。
然后，在上述后面電介質(zhì)層上端形成隔層50。上述隔層可以不受任何限制地使用本發(fā)明技術(shù)領(lǐng)域中的隔層材料及結(jié)構(gòu)，例如，可以使用條(stripe)型隔層，封閉型隔層或三角型隔層。
然后，在后面電介質(zhì)層及隔層上噴涂熒光體51，并與前面基板相結(jié)合，這樣既可完成等離子顯示面板的制造。
上述實施例是為了易于理解而詳細說明的，然其并非用以限定本發(fā)明。因此，一般變更的前面基板，其制造方法及等離子顯示面板均屬于本發(fā)明的保護范圍。
與現(xiàn)有技術(shù)中的電極制造方法不同，本發(fā)明可以利用激光等光源，以簡單的工序形成電極。無須掩膜(mask)，因此工序簡單，可以減少掩膜(mask)費用，適合大型化及大量的生產(chǎn)，并且無需顯相工序，因此解決了電極材料浪費的問題，同時可以減少費用。
權(quán)利要求
1.一種電極轉(zhuǎn)印膜，其特征在于它包含帶基薄膜，上述帶基薄膜下端形成的光熱轉(zhuǎn)換層，及上述光熱轉(zhuǎn)換層下端形成的電極材料層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電極轉(zhuǎn)印膜，其特征在于上述電極材料層含有銀(Ag)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電極轉(zhuǎn)印膜，其特征在于上述電極材料層含有銦錫氧化物(ITO)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電極轉(zhuǎn)印膜，其特征在于上述光熱轉(zhuǎn)換層由含有激光吸收物質(zhì)的有機膜，金屬，金屬氧化物，金屬硫化物或其混合物組成。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電極轉(zhuǎn)印膜，其特征在于上述光熱轉(zhuǎn)換層與上述電極材料層間包含放射層。
6.一種利用電極轉(zhuǎn)印膜的電極制造方法，其特征在于它包含以下階段在基板上方累積第1項至第5項中任意一項的電極轉(zhuǎn)印膜的階段；照射光，轉(zhuǎn)印電極的階段；及分離上述電極轉(zhuǎn)印膜的階段。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的利用電極轉(zhuǎn)印膜的電極制造方法，其特征在于上述基板是玻璃基板或塑料基板。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的利用電極轉(zhuǎn)印膜的電極制造方法，其特征在于上述光是激光。
9.一種等離子顯示面板的前面基板制造方法，其特征在于它包含以下階段在前面基板上端累積第1項中的電極轉(zhuǎn)印膜的階段；用激光照射上述電極轉(zhuǎn)印膜，轉(zhuǎn)印維持電極，然后分離上述電極轉(zhuǎn)印膜，在上述前面基板上端形成維持電極對的階段；形成封住上述維持電極的前面電介質(zhì)層的階段；及在上述電介質(zhì)層上端形成保護膜層的階段。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的等離子顯示面板的前面基板制造方法，其特征在于上述電極轉(zhuǎn)印膜的電極材料層含有透明電極材料。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的等離子顯示面板的前面基板制造方法，其特征在于上述電極轉(zhuǎn)印膜的電極材料層含有銦錫氧化物。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的等離子顯示面板的前面基板制造方法，其特征在于它還包含在上述維持電極的部分領(lǐng)域中形成，并封住上述前面電介質(zhì)層的匯流電極的階段。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的等離子顯示面板的前面基板制造方法，其特征在于形成上述匯流電極的階段包含為了封住維持電極上端而累積第1項的電極轉(zhuǎn)印膜的階段；在上述電極轉(zhuǎn)印膜上照射激光，轉(zhuǎn)印匯流電極的階段；及分離上述電極轉(zhuǎn)印膜的階段。
14.一種等離子顯示面板的制造方法，包含位于前面基板下端部分范圍內(nèi)，以一定的模式相隔形成的維持電極對；具備封住上述維持電極對的前面電介質(zhì)層及上述前面電介質(zhì)層下端形成的保護膜層的前面基板；具備位于后面基板上端，并與上述維持電極對垂直的定位電極的后面基板；及為了劃分放電空間，而在上述后面基板上端形成的隔層；其特征在于上述維持電極對或定位電極將第1項中記載的電極轉(zhuǎn)印膜累積在上述前面基板的下端或后面基板的上端上，然后照射激光，分離上述電極轉(zhuǎn)印膜。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的等離子顯示面板的制造方法，其特征在于它還包含在上述維持電極的部分領(lǐng)域中形成，并封住上述前面電介質(zhì)層的匯流電極的階段。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的等離子顯示面板的制造方法，其特征在于形成上述匯流電極的階段包含為了封住維持電極上端而累積第1項的電極轉(zhuǎn)印膜的階段；在上述電極轉(zhuǎn)印膜上照射激光，轉(zhuǎn)印匯流電極的階段；及分離上述電極轉(zhuǎn)印膜的階段。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種包含帶基薄膜(basefilm)，上述帶基薄膜(basefilm)下端形成光熱轉(zhuǎn)換層，上述光熱轉(zhuǎn)換層下端形成電極材料層的電極轉(zhuǎn)印膜，利用電極轉(zhuǎn)印膜的電極制造方法及等離子顯示面板的制造方法。本發(fā)明中，可以利用激光等光源，以簡單的工序形成電極。無須掩膜(mask)，因此工序簡單，可以減少掩膜(mask)費用，適合大型化及大量的生產(chǎn)，并且無需顯相工序，因此解決了電極材料浪費的問題，同時可以減少費用。
文檔編號B41J2/00GK1917121SQ2006101533
公開日2007年2月21日 申請日期2006年9月12日 優(yōu)先權(quán)日2005年10月28日
發(fā)明者樸珍旴 申請人:樂金電子(南京)等離子有限公司