專利名稱：曝光頭、圖像形成組件、以及圖像形成裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及具有多個(gè)發(fā)光元件的曝光頭、具備該曝光頭的圖像形成
組件(unit)、以及具備該曝光頭的圖像形成裝置。
背景技術(shù)：
有一種將通過對(duì)感光體鼓進(jìn)行曝光而形成在該感光體鼓表面上的 潛像，利用l次轉(zhuǎn)印輥等轉(zhuǎn)印到紙等介質(zhì)上，來形成圖像的方式的圖像 形成裝置。作為在這種圖像形成裝置中使用的曝光頭之一，有使用在基 板上規(guī)則配置的發(fā)光元件和折射率分布型透鏡的類型的曝光頭。通過由 多個(gè)折射率分布型透鏡分別將從1個(gè)發(fā)光元件射出的光重疊成像在感光 體鼓表面的同一位置，在該表面上形成1個(gè)光點(diǎn)(spot)。通過將這樣 的光點(diǎn)集合，形成圖像(潛像)。
該方式的曝光頭中可能產(chǎn)生的問題是，多個(gè)發(fā)光元件之間的光量差 異。由于發(fā)光頻度的差異等，在施加了同一電流或電壓的情況下，從各 個(gè)發(fā)光元件射出的光的強(qiáng)度隨著時(shí)間變化而產(chǎn)生差異，因而成為形成良 好圖像(潛像)時(shí)的障礙。為了抑制這種現(xiàn)象，例如在專利文獻(xiàn)l所記 載的曝光頭中，通過在發(fā)光基板上與發(fā)光元件一同配置光檢測(cè)部件，可 測(cè)定每個(gè)發(fā)光元件的光量。
圖16中作為上述方式，即具有以往的曝光頭的發(fā)光基板，示意地 表示了使用底發(fā)光型有機(jī)EL元件310的發(fā)光基板300。 ( a)是俯視圖， (b)是側(cè)視圖，(c)是B-B，線的剖面圖。如圖所示，在鋸齒狀配置 于透光性基板301上的有機(jī)EL元件310的周邊，配置有由光電二極管 等受光元件構(gòu)成的光檢測(cè)部件320作為光檢測(cè)部件。
從有機(jī)EL元件310射出的光的一部分一邊在透光性基板301的表 面和背面反復(fù)反射， 一邊到達(dá)光檢測(cè)部件320，通過使各個(gè)有機(jī)EL元 件310順序發(fā)光，可測(cè)定光量。然后，通過根據(jù)上述測(cè)定結(jié)果修正向各 個(gè)有機(jī)EL元件310施加的電流(或電壓)值，可形成高精度的圖像(潛
3像)。
[專利文獻(xiàn)l特開2004-66758號(hào)7>才艮
但是，在上述結(jié)構(gòu)的發(fā)光基板中，存在著有機(jī)EL元件310射出的 光中可被光檢測(cè)部件320測(cè)定的光的比例少的問題。即，如圖16(b) 所示，到達(dá)光檢測(cè)部件320的光只限于角度范圍6a范圍內(nèi)的光Ll，該 角度范圍以外的光不到達(dá)光檢測(cè)部件320而直接射出到發(fā)光基板300的 外部。因此，存在下述問題難以正確把握有機(jī)EL元件310的發(fā)光強(qiáng) 度的經(jīng)時(shí)變化，在未使用復(fù)雜的放大電路或降噪電路等的情況下，上述 的修正精度會(huì)下降。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為了解決上述問題的至少一部分而提出的，其能夠以如下 的形態(tài)或應(yīng)用例來實(shí)現(xiàn)。
[應(yīng)用例1
一種曝光頭，具有透光性基板；被配置在上述透光性基板的一個(gè) 面上的多個(gè)發(fā)光元件；和被配置在上述透光性基板上的l個(gè)或多個(gè)光檢 測(cè)部件，其可檢測(cè)出從上述發(fā)光元件射出并在上述透光性基板內(nèi)傳播的 光；該曝光頭將從上述發(fā)光元件射出并透過了上述透光性基板的光，照 射到隔著上述透光性基板與上述發(fā)光元件對(duì)置的像擔(dān)承體上，在上述像 擔(dān)承體上形成規(guī)定的圖形，其特征在于，上述透光性基板內(nèi)形成有使在 該透光性基板內(nèi)傳播的光漫反射的多個(gè)改質(zhì)點(diǎn)。
根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，可增加入射到上述光檢測(cè)部件中的光的量。因此， 可高精度進(jìn)行上述的修正，形成高精度的圖像(潛像)。
[應(yīng)用例2
上述的曝光頭中，在上述透光性基板的表面的除了配置有上述發(fā)光 元件的區(qū)域、與該發(fā)光元件對(duì)置的區(qū)域、和配置有上述光檢測(cè)部件的區(qū) 域以外的區(qū)域的至少一部分上，配置有反射由上述發(fā)光元件射出的光的 反光層。根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，可高效率地增加入射到上述光檢測(cè)部件中的光的 量。因此，可更高精度進(jìn)行上述的修正，形成更高精度的圖像(潛像)。
[應(yīng)用例31
在上述的曝光頭中，上述發(fā)光元件是有機(jī)EL元件。
根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，在上述透光性基板上能夠?qū)⒂蒚FT工序形成的驅(qū) 動(dòng)用晶體管與有機(jī)EL元件組合，從而可降低上述曝光頭的制造成本。
[應(yīng)用例4
在上述的曝光頭中，上述改質(zhì)點(diǎn)是由激光形成的點(diǎn)。
使用激光能夠在上述透光性基板內(nèi)的任意位置形成上述改質(zhì)點(diǎn)。因 此，根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，可有效增加入射到上述光檢測(cè)部件中的光的量， 從而有效地進(jìn)行上述的修正，
[應(yīng)用例5
在上述的曝光頭中，上述改質(zhì)點(diǎn)的形成密度根據(jù)上述透光性基板內(nèi) 的位置而不同。
根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，例如通過在上述光檢測(cè)部件附近以高密度形成上 述改質(zhì)點(diǎn)，可高效率地增加入射到上述光檢測(cè)部件中的光的量。因此， 能夠在降低上述曝光頭的制造成本的同時(shí)，有效地進(jìn)行上述的修正。
[應(yīng)用例6
一種圖像形成組件，其特征在于，具有上述的曝光頭。
根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，由于可在上述像擔(dān)承體上形成高精度的圖像(潛 像)，所以可提高形成在紙等介質(zhì)上的圖像的品質(zhì)。
[應(yīng)用例7
一種圖像形成裝置，其特征在于，具有上述的曝光頭。 根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，由于可在上述像擔(dān)承體上形成高精度的圖像(潛像)，所以可提高形成在紙等介質(zhì)上的圖像的品質(zhì)。


圖l是表示可應(yīng)用第1實(shí)施方式的曝光頭的圖像形成裝置的圖。
圖2是表示第1實(shí)施方式的圖像形成裝置的電路結(jié)構(gòu)的圖。
圖3是表示第1實(shí)施方式的曝光頭的概略結(jié)構(gòu)的立體圖。
圖4是第1實(shí)施方式的曝光頭的寬度方向剖面圖。
圖5是示意表示第1實(shí)施方式的發(fā)光基板的圖。
圖6是表示改質(zhì)點(diǎn)的形成方法的一例的圖。
圖7是示意表示第2實(shí)施方式的發(fā)光基板的圖。
圖8是示意表示第3實(shí)施方式的發(fā)光基板的圖。
圖9是示意表示第4實(shí)施方式的發(fā)光基板的圖。
圖10是示意表示第5實(shí)施方式的發(fā)光基板的圖。
圖11是示意表示第6實(shí)施方式的發(fā)光基板的圖。
圖12是示意表示第7實(shí)施方式的發(fā)光基板的圖。
圖13是表示變形例所涉及的作為電子設(shè)備的個(gè)人計(jì)算機(jī)的圖。
圖14是表示變形例的有機(jī)EL裝置的顯示區(qū)域中的像素配置等的圖。
圖15是變形例的有機(jī)EL裝置所具有的發(fā)光基板中的像素的示意 剖面圖。
圖16是示意表示以往的曝光頭所具有的發(fā)光基板的圖。
圖中1-圖像形成裝置主體；3-外殼(housing)主體；4 -排紙 托盤；5-電氣設(shè)備盒；7-圖像形成組件；8-轉(zhuǎn)印帶組件；11 -給紙 組件；12-2次轉(zhuǎn)印組件；13-定影組件；15-片材引導(dǎo)部件；21-作為像擔(dān)承體的感光體鼓；23-帶電部；25-顯像部；27-感光體清潔部 件；29-曝光頭；51-圖像處理部；52 -主機(jī)側(cè)通信模塊；53 -頭側(cè)通 信模塊；54-頭控制模塊；71-清潔部；77-給紙盒；79-拾取輥；80 -套準(zhǔn)調(diào)節(jié)輥對(duì)(resist roller pair); 81-轉(zhuǎn)印帶；82 -驅(qū)動(dòng)輥；83-從動(dòng)輥；85-l次轉(zhuǎn)印輥；86-下游導(dǎo)輥；121-2次轉(zhuǎn)印輥；131-加 熱輥；132-加壓部；251-顯l象輥；291 -殼體(case); 294-密封部件； 299-透鏡陣列；300 -發(fā)光基板；301 -透光性基板；302-對(duì)置基板； 310-作為發(fā)光元件的有機(jī)EL元件；315-反光層；320-光檢測(cè)部件； 321-作為光檢測(cè)部件的傳感器TFT; 330-改質(zhì)點(diǎn)；350 -聚光透鏡； 355-激光；602-溝道區(qū)域；604-源極區(qū)域；606-漏極區(qū)域；608-柵極絕緣膜；610-半導(dǎo)體層；612-柵電極；620-驅(qū)動(dòng)用TFT; 632 一第1層間絕緣膜；634 -第2層間絕緣膜；641 -第1接觸孔；642 — 源電極；643-第2接觸孔；644-漏電極；645 -第3接觸孔；650 -像 素電極；652B-藍(lán)色功能層；652G-綠色功能層；652R-紅色功能層； 654—陰極；656 —粘接層；711-清潔葉片(cleaner blade); 713 —廢調(diào) 色劑盒；1200-個(gè)人計(jì)算機(jī)；1202-鍵盤；1204-主體部；1206-有機(jī) EL裝置；1208-顯示區(qū)域；1321 -輥；1322 -輥；1323 -加壓帶；2911 -定位銷；2912-螺釘插入孔；2913-后蓋；2914-固定器具；B-藍(lán) 像素；G-綠像素；R-紅像素。
具體實(shí)施例方式
下面，參照附圖，對(duì)將本發(fā)明具體化的作為電光裝置的液晶裝置的 實(shí)施方式進(jìn)行說明。另外，在以下的各圖中，由于采用了在圖面上可清 楚查看各個(gè)構(gòu)成要素的程度的尺寸，所以相對(duì)實(shí)際尺寸適宜改變了該各 構(gòu)成要素的尺寸和比例。
(第1實(shí)施方式)
圖1~圖4表示本實(shí)施方式的曝光頭、具備了該曝光頭的圖像形成組 件、以及具備了該圖像形成組件的圖像形成裝置l。
圖1是表示可應(yīng)用第1實(shí)施方式涉及的曝光頭29的圖像形成裝置1 的圖。另外，圖2是表示圖l所示的圖像形成裝置l的電路結(jié)構(gòu)的圖。 該裝置是可選擇性地執(zhí)行彩色模式和黑白模式的圖像形成裝置1，在彩色模式下，重合黑(K)、青(C)、洋紅(M)、黃(Y) 4色調(diào)色劑， 形成彩色圖像，在黑白模式下，只使用黑(K)調(diào)色劑形成黑白圖像。
另外，圖l是與彩色模式執(zhí)行時(shí)對(duì)應(yīng)的圖。在該圖像形成裝置l中， 當(dāng)從主機(jī)等外部裝置向具有CPU和存儲(chǔ)器等的主控制器MC提供了圖 像形成指令時(shí)，該主控制器MC向引擎控制器EC提供控制信號(hào)等，同 時(shí)向頭控制器HC提供與圖像形成指令對(duì)應(yīng)的視頻數(shù)據(jù)VD。另外，該 頭控制器HC根據(jù)來自主控制器MC的視頻數(shù)據(jù)VD和來自引擎控制器 EC的垂直同步信號(hào)Vsync及參數(shù)值，控制各色的曝光頭29。由此，引 擎部EG執(zhí)行規(guī)定的圖像形成動(dòng)作，在復(fù)印紙、轉(zhuǎn)印紙、用紙以及OHP 用透明板等片材上形成與圖像形成指令對(duì)應(yīng)的圖像。
在該實(shí)施方式的圖像形成裝置所具有的外殼主體3內(nèi)，設(shè)有內(nèi)置了 電源電路基板、主控制器MC、引擎控制器EC以及頭控制器HC的電 氣設(shè)備盒5。而且，在外殼主體3內(nèi)還設(shè)有圖像形成組件7、轉(zhuǎn)印帶組 件、以及給紙組件11。并且，圖1中在外殼主體3內(nèi)的右側(cè)，設(shè)有2 次轉(zhuǎn)印組件12、定影組件13、片材引導(dǎo)部件15。另外，給紙組件11 構(gòu)成為相對(duì)圖像形成裝置l主體拆裝自如。而且，該給紙組件和轉(zhuǎn)印帶 組件8構(gòu)成為能夠分別被取出進(jìn)行修理或更換。
圖像形成組件7具有形成多種不同顏色圖像的4個(gè)圖像形成工作 站Y (黃色用)、M (洋紅色用)、C (青色用)、K (黑色用)。而且， 各個(gè)圖像形成工作站Y、 M、 C、 K設(shè)有在主掃描方向MD (參照?qǐng)D3) 上具有規(guī)定長度的表面的圓筒形感光體鼓21。并且，各個(gè)圖像形成工作 站Y、 M、 C、 K分別將對(duì)應(yīng)顏色的調(diào)色劑像形成在感光體鼓21的表面。 感光體鼓21被配置成軸方向與主掃描方向MD大致平行。另外，各個(gè) 感光體鼓21分別與專用的驅(qū)動(dòng)馬達(dá)連接，以規(guī)定的速度向旋轉(zhuǎn)方向D21 (圖1所示的箭頭方向)的方向旋轉(zhuǎn)。由此，感光體鼓21的表面被向 與主掃描方向MD大致正交的副掃描方向SD (參照?qǐng)D4)搬送。此夕卜， 在感光體鼓21的周圍，沿著旋轉(zhuǎn)方向配置有帶電部23、曝光頭29、顯 像部25、和感光體清潔部件27。而且，由這些功能部執(zhí)行帶電動(dòng)作、 潛像形成動(dòng)作和調(diào)色劑顯像動(dòng)作。因此，在執(zhí)行彩色模式時(shí)，將所有由 圖像形成工作站Y、 M、 C、 K形成的調(diào)色劑像重合在轉(zhuǎn)印帶組件8所 具有轉(zhuǎn)印帶81上，形成彩色圖像，而在執(zhí)行黑白模式時(shí)，只使用由圖像形成工作站K形成的調(diào)色劑像，形成黑白圖像。另外，在圖1中，由 于圖像形成組件7的各個(gè)圖像形成工作站的結(jié)構(gòu)相同，所以，在圖中為 了方便起見，只對(duì)一部分圖像形成工作站標(biāo)記了符號(hào)，對(duì)其他的圖像形 成工作站省略了符號(hào)標(biāo)記。
帶電部23具有表面由彈性橡膠構(gòu)成的帶電輥。該帶電輥構(gòu)成為， 在帶電位置與感光體鼓21的表面抵接，進(jìn)行從動(dòng)旋轉(zhuǎn)，隨著感光體鼓 21的旋轉(zhuǎn)動(dòng)作，相對(duì)感光體鼓21以圓周速度向從動(dòng)方向從動(dòng)旋轉(zhuǎn)。而 且，該帶電輥與帶電偏壓發(fā)生部(未圖示)連接，接受來自帶電偏壓發(fā) 生部的帶電偏壓，在帶電部23與感光體鼓21抵接的帶電位置，使感光 體鼓21的表面帶電。
曝光頭29相對(duì)感光體鼓21被配置成，其長度方向與主掃描方向 MD對(duì)應(yīng)，并且其寬度方向與副掃描方向SD對(duì)應(yīng)。因此，曝光頭29的 長度方向與主掃描方向MD大致平行。而且，曝光頭29具有在長度方 向排列配置的多個(gè)發(fā)光元件，并且與感光體鼓21分離配置。而且，從 這些發(fā)光元件向通過帶電部23而帶電的感光體鼓21的表面照射光(即， 曝光)，在該表面上形成潛像。另外，在本實(shí)施方式中，為了控制各色 的曝光頭29而設(shè)有頭控制器HC，其根據(jù)來自主控制器MC的視頻數(shù) 據(jù)VD、和來自引擎控制器EC的信號(hào)，控制各個(gè)曝光頭29。即，在本 實(shí)施方式中，圖像形成指令中包含的圖像數(shù)據(jù)被輸入到主控制器MC的 圖像處理部51中。然后，對(duì)該圖像數(shù)據(jù)實(shí)施各種圖像處理，生成各色 的視頻數(shù)據(jù)VD，并且該視頻數(shù)據(jù)VD通過主機(jī)側(cè)通信模塊52被提供給 頭控制器HC。另外，在頭控制器HC中，視頻數(shù)據(jù)VD通過頭側(cè)通信 模塊53被提供給頭控制模塊54。從引擎控制器EC如上述那樣向該頭 控制模塊54提供表示與潛像形成相關(guān)的參數(shù)值的信號(hào)、和垂直同步信 號(hào)Vsync。然后，頭控制器HC根據(jù)這些信號(hào)和視頻數(shù)據(jù)VD等，生成 用于對(duì)各色曝光頭29進(jìn)行元件驅(qū)動(dòng)控制的信號(hào)，并輸出給各個(gè)曝光頭 29。這樣，在各個(gè)曝光頭29中，發(fā)光元件的動(dòng)作被恰當(dāng)?shù)乜刂?，形?與圖像形成指令對(duì)應(yīng)的潛像。
而且，在本實(shí)施方式中，將各個(gè)圖像形成工作站Y、 M、 C、 K的 感光體鼓21、帶電部23、顯像部25和感光體清潔部件27單元化，構(gòu) 成感光體盒。另外，在各個(gè)感光體盒中，分別設(shè)有用于保存與該感光體盒相關(guān)的信息的非易失性存儲(chǔ)器。而且，在引擎控制器EC與各個(gè)感光 體盒之間進(jìn)行無線通信。這樣，與各個(gè)感光體盒相關(guān)的信息被傳遞到引 擎控制器EC，并且可更新保存各個(gè)存儲(chǔ)器內(nèi)的信息。
顯像部25具有在表面擔(dān)承調(diào)色劑的顯像輥251。而且，基于從與顯 像輥251電連接的顯像偏壓發(fā)生部(未圖示)向顯像輥251施加的顯像 偏壓，在顯像輥251與感光體鼓21抵接的顯像位置，帶電調(diào)色劑從顯 像輥251移動(dòng)到感光體鼓21，使得由曝光頭29形成的靜電潛像顯化。
這樣在上述顯像位置被顯化的調(diào)色劑像，在被向感光體鼓21的旋 轉(zhuǎn)方向D21搬送后，在后述的轉(zhuǎn)印帶81與各個(gè)感光體鼓21抵接的1 次轉(zhuǎn)印位置TR1被1次轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印帶81上。
另外，本實(shí)施方式中，在感光體鼓21的旋轉(zhuǎn)方向D21的1次轉(zhuǎn)印 位置TR1的下游側(cè)、且?guī)щ姴?3的上游側(cè)，設(shè)有與感光體鼓21的表 面抵接的感光體清潔部件27。該感光體清潔部件27通過與感光體鼓的 表面抵接，而清除1次轉(zhuǎn)印后殘留在感光體鼓21表面上的調(diào)色劑。
轉(zhuǎn)印帶組件8具有驅(qū)動(dòng)輥82、圖1中被配置在驅(qū)動(dòng)輥82左側(cè)的 從動(dòng)輥83 (葉片對(duì)置輥)、和掛設(shè)在這些輥上并被向圖示箭頭D81的方 向(搬送方向)循環(huán)驅(qū)動(dòng)的轉(zhuǎn)印帶81。而且，轉(zhuǎn)印帶組件8在轉(zhuǎn)印帶 81的內(nèi)側(cè)具有4個(gè)1次轉(zhuǎn)印輥85Y、 85M、 85C、 85K,這些1次轉(zhuǎn)印 輥被配置成在安裝了感光體盒時(shí)與各個(gè)圖像形成工作站Y、 M、 C、 K 所具有的感光體鼓21分別一對(duì)一對(duì)置。這些1次轉(zhuǎn)印輥85分別與1次 轉(zhuǎn)印偏壓發(fā)生部(未圖示)電連接。而且，如后述那樣，在彩色模式執(zhí) 行時(shí)，通過如圖1所示那樣將全部的1次轉(zhuǎn)印輥85Y、 85M、 85C、 85K 定位在圖像形成工作站Y、 M、 C、 K側(cè)，可將轉(zhuǎn)印帶81壓靠在圖像形 成工作站Y、 M、 C、 K各自具有的感光體鼓21上，在各個(gè)感光體鼓 21與轉(zhuǎn)印帶81之間形成1次轉(zhuǎn)印位置TR1。然后，通過在適當(dāng)?shù)臅r(shí)刻 從上述1次轉(zhuǎn)印偏壓發(fā)生部向1次轉(zhuǎn)印輥85施加1次轉(zhuǎn)印偏壓，將形 成在各個(gè)感光體鼓21表面上的調(diào)色劑像，在與各自對(duì)應(yīng)的1次轉(zhuǎn)印位 置TRl,轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印帶81的表面上，形成彩色圖像。
另一方面，在黑白模式執(zhí)行時(shí)，通過將4個(gè)1次轉(zhuǎn)印輥85中的彩 色1次轉(zhuǎn)印輥85Y、 85M、 85C與各自對(duì)置的圖像形成工作站Y、 M、C分離，并且只將黑白1次轉(zhuǎn)印輥85K與圖像形成工作站K抵接，從 而只使黑白圖像形成工作站K與轉(zhuǎn)印帶81接觸。結(jié)果，只在黑白l次 轉(zhuǎn)印輥85K與圖像形成工作站K之間形成1次轉(zhuǎn)印位置TR1。然后， 通過在適當(dāng)?shù)臅r(shí)刻從上述l次轉(zhuǎn)印偏壓發(fā)生部向黑白1次轉(zhuǎn)印輥85K施 加1次轉(zhuǎn)印偏壓，將形成在各個(gè)感光體鼓21表面上的調(diào)色劑像，在1 次轉(zhuǎn)印位置TR1處，轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印帶81的表面上，形成黑白圖像。
并且，轉(zhuǎn)印帶組件8具有下游導(dǎo)輥86，其被配置在黑白l次轉(zhuǎn)印輥 85K下游側(cè)的驅(qū)動(dòng)輥82的上游側(cè)。另外，該下游導(dǎo)輥86構(gòu)成為，在黑 白1次轉(zhuǎn)印輥85K與圖像形成工作站K的感光體鼓21抵接而形成的1 次轉(zhuǎn)印位置TR1處的1次轉(zhuǎn)印輥85K與感光體鼓21的公共內(nèi)切線上， 與轉(zhuǎn)印帶81抵接。
驅(qū)動(dòng)輥82用于對(duì)轉(zhuǎn)印帶81向圖示箭頭D81的方向循環(huán)驅(qū)動(dòng)，同時(shí) 還用作2次轉(zhuǎn)印輥121的支撐輥。在驅(qū)動(dòng)輥82的周面，形成有厚度為 3mm左右、體積電阻率為1000 kQ.cm以下的橡膠層，其通過金屬制的 軸接地，由此構(gòu)成從未圖示的2次轉(zhuǎn)印偏壓發(fā)生部經(jīng)由2次轉(zhuǎn)印輥121 而供給的2次轉(zhuǎn)印偏壓的導(dǎo)電路徑。通過這樣在驅(qū)動(dòng)輥82上設(shè)置高摩 擦且具有沖擊吸收性的橡膠層，可使片材進(jìn)入到驅(qū)動(dòng)輥82與2次轉(zhuǎn)印 輥121的抵接部分(2次轉(zhuǎn)印位置TR2)時(shí)的沖擊不容易傳遞到轉(zhuǎn)印帶 81，從而可防止圖4象質(zhì)量的劣化。
給紙組件11具有給紙部，該給紙部具有可層疊保持片材的給紙盒 77、和從給紙盒77將片材逐一供給的拾取輥79。由拾取輥79從給紙部 送出的片材在套準(zhǔn)調(diào)節(jié)輥對(duì)80中被調(diào)整了給紙時(shí)間后，沿著片材引導(dǎo) 部件15被送到2次轉(zhuǎn)印位置TR2。
2次轉(zhuǎn)印輥121被設(shè)置成與轉(zhuǎn)印帶81分離抵接自如，并通過2次轉(zhuǎn) 印輥驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(未圖示)進(jìn)行分離抵接驅(qū)動(dòng)。定影組件13具有內(nèi)置了 鹵素加熱器等發(fā)熱體且旋轉(zhuǎn)自如的加熱輥131、和對(duì)該加熱輥131施加 按壓的加壓部132。而且，表面上被2次轉(zhuǎn)印了圖像的片材，由片材引 導(dǎo)部件15引導(dǎo)到由加熱輥131和加壓部132的加壓帶1323形成的夾合 (nip)部，在該夾合部中，圖像以規(guī)定的溫度被熱定影。加壓部132 由2個(gè)輥1321、 1322、和掛i殳在這些輥上的加壓帶1323構(gòu)成。而且， 通過將加壓帶1323表面中的被2個(gè)輥1321、 1322張開的帶張面按壓在加熱輥131的周面上，可擴(kuò)展由加熱輥131和加壓帶1323形成的夾合 部。另外，這樣進(jìn)行了定影處理的片材被搬送到設(shè)在外殼主體3的上面 部的排紙托盤4中。
另外，在該裝置中，與從動(dòng)輥83對(duì)置地設(shè)置有清潔部71。清潔部 71具有清潔葉片711和廢調(diào)色劑盒713。清潔葉片711通過使其前端部 借助轉(zhuǎn)印帶81與從動(dòng)輥83接觸，來除去2次轉(zhuǎn)印后殘留在轉(zhuǎn)印帶上的 調(diào)色劑和紙粉等異物。而且，這樣除去的異物被回收到廢調(diào)色劑盒713 中。另外，清潔葉片711和廢調(diào)色劑盒713與從動(dòng)輥83構(gòu)成一體。因 此，如下面說明那樣，在從動(dòng)輥83移動(dòng)的情況下，清潔葉片711和廢 調(diào)色劑盒713也與從動(dòng)輥83 —起移動(dòng)。
圖3是表示本實(shí)施方式的曝光頭的概略結(jié)構(gòu)的立體圖。而圖4是圖 3所示的曝光頭的寬度方向剖面圖。如上所述，曝光頭29相對(duì)感光體鼓 21被配置成其長度方向LGD與主掃描方向MD對(duì)應(yīng)，且其寬度方向 LTD與副掃描方向SD對(duì)應(yīng)。其中，長度方向LGD與寬度方向LTD相 互大致正交。本實(shí)施方式中的曝光頭29具有殼體291，并且在該殼體 291的長度方向LGD的兩端i殳有定位銷2911和螺釘插入孔2912。而且， 通過將該定位銷2911嵌入到貫通設(shè)置在覆蓋感光體鼓21并且被相對(duì)感 光體鼓21定位的感光體蓋(未圖示)上的定位孔(未圖示)中，將曝 光頭29相對(duì)感光體鼓21定位。并且，通過將固定螺釘通過螺釘插入孔 2912固定在感光體蓋的螺孔(未圖示)內(nèi)，將曝光頭29相對(duì)感光體鼓 21定位固定。
殼體291在與感光體鼓21的表面對(duì)置的位置保持透鏡陣列299,并 且在內(nèi)部與該透鏡陣列對(duì)置地設(shè)有發(fā)光基板300。透鏡陣列299通過鋸 齒狀配置多個(gè)折射率分布型透鏡而構(gòu)成，其將從后述的有機(jī)EL元件310 射出的光成像在感光體鼓21上。
發(fā)光基板300由采用玻璃等透光性材料構(gòu)成的透光性基板301 (參 照?qǐng)D5)、和(在長度方向上)以鋸齒狀配置在該透光性基板的背面(與 透鏡陣列299對(duì)置的面相反側(cè)的面)的多個(gè)作為發(fā)光元件的有機(jī)EL元 件310等構(gòu)成。通過被配置在上述背面的未圖示的驅(qū)動(dòng)電路進(jìn)行驅(qū)動(dòng)， 向透鏡陣列299的方向射出光。而且，該光通過透鏡陣列299在感光體 鼓21的表面上成像為光點(diǎn)。
12另外，透鏡陣列299通過將多個(gè)同一形狀的折射率分布型透鏡層疊 為兩段而構(gòu)成。是與后述的發(fā)光基板300上的有機(jī)EL元件310的配置 對(duì)應(yīng)的結(jié)構(gòu)，與光軸垂直的截面成為鋸齒狀排列了2列圓形截面的狀態(tài)。
如圖4 (寬度方向剖面圖)所示，利用固定器具2914使后蓋2913 借助發(fā)光基板300被按壓在殼體291上。即，固定器具2914具有將后 蓋2913向殼體291側(cè)按壓的彈性力，并且通過利用該彈性力按壓后蓋， 將殼體291的內(nèi)部不透光地(即，使光不從殼體291內(nèi)部漏出、及光不 從殼體291的外部進(jìn)入)密封。另外，在殼體291的長度方向(LGD) 上的多個(gè)部位設(shè)有固定器具2914。而且，有機(jī)EL元件310被密封部件 294覆蓋。
圖5是示意表示本實(shí)施方式的發(fā)光基板300的圖。圖5(a)是從上 述的背面方向觀察的俯視圖，圖5 (b)是側(cè)視圖。而圖5 (c)是放大 表示圖5 (a)的A-A，線的剖面的圖，圖5 (d)是放大表示形成有后 述的改質(zhì)點(diǎn)330的部分的圖。
如圖5 (a)和圖5 (b)所示，發(fā)光基板300由透光性基板301、以 鋸齒狀配置在該透光性基板的背面上的多個(gè)有機(jī)EL元件310、和配置 在該有機(jī)EL元件周圍的多個(gè)(由光電二極管等受光元件構(gòu)成的)光檢 測(cè)部件320等構(gòu)成。另外，在上述圖5 (a) ~圖5 (d)、以及下面記載 的圖7至圖12中，對(duì)于有機(jī)EL元件310只圖示了其一部分。
在透光性基板301的配置有光檢測(cè)部件320的區(qū)域的厚度方向上， 形成有妨礙光的直進(jìn)性的多個(gè)改質(zhì)點(diǎn)330。該改質(zhì)點(diǎn)330是形成在透光 性基板301的形成材料、即玻璃等中的氣泡、裂紋、組織缺陷等，可妨 礙照射來的光的直進(jìn)性。因此，如圖5(c)所示，通過使角度范圍6a 范圍外的光L2,即在以往的發(fā)光基板中未入射到光檢測(cè)部件320的光 反射等，可改變行進(jìn)方向。上述的反射等不只發(fā)生一次，而是連續(xù)發(fā)生 的。因此，照射到配置有上述光檢測(cè)部件320的區(qū)域的光不會(huì)直進(jìn)，而 反復(fù)進(jìn)行漫反射。
圖5 (d)是表示該漫反射的狀態(tài)的圖。由于密集形成多個(gè)改質(zhì)點(diǎn) 330,所以入射到上述區(qū)域的光L2會(huì)入射到光檢測(cè)部件320而被吸收， 或者繼續(xù)進(jìn)行漫反射，直到到達(dá)上述區(qū)域外為止。因此，通過形成改質(zhì)點(diǎn)330，可以使以往的發(fā)光基板中不能入射到光檢測(cè)部件320的光的至 少一部分入射到光檢測(cè)部件320中，從而可增加從有機(jī)EL元件310射 出的光中入射到光檢測(cè)部件320中的比例。
如上所述，在使用被配置于長度方向LCD (參照?qǐng)D3)的有機(jī)EL 元件310，在感光體鼓21上形成潛像的發(fā)光基板300中，基于每個(gè)有機(jī) EL元件310的發(fā)光頻度，以經(jīng)時(shí)劣化的程度產(chǎn)生差異。因此，為了形 成高精度的圖像，需要定期對(duì)每個(gè)有機(jī)EL元件310測(cè)定發(fā)光強(qiáng)度并進(jìn) 行修正。使用本實(shí)施方式的發(fā)光基板300的圖像形成組件7、以及圖像 形成裝置1,在有機(jī)EL元件310以及光檢測(cè)部件320等的配置狀態(tài)與 以往的發(fā)光基板等相同的情況下，可增加入射到光檢測(cè)部件中的光量。 因此，不需要使用復(fù)雜的放大電路或降噪電路等，就可進(jìn)一步正確地把 握和進(jìn)一步正確修正(向各個(gè)有機(jī)EL元件施加的電流量等)有機(jī)EL 元件310的發(fā)光強(qiáng)度的經(jīng)時(shí)變化，從而能夠與該經(jīng)時(shí)變化無關(guān)地形成更 正確的圖像。
另外，如圖所示，光檢測(cè)部件320在1個(gè)發(fā)光基板300上配置有多 個(gè)。而且，由1個(gè)有機(jī)EL元件射出的光入射到該多個(gè)光檢測(cè)部件320 的全部中(入射的光量根據(jù)各個(gè)光檢測(cè)部件320的位置而不同)。因此， 基于光檢測(cè)部件320的測(cè)定值(后述的Phn)是全部的光檢測(cè)部件320 的測(cè)定值的合計(jì)量。
按照以下的方式實(shí)施上述的修正。首先，在形成曝光頭29的階段 (組裝到圖像形成裝置內(nèi)之前的階段)，從有機(jī)EL元件310射出光， 對(duì)各個(gè)有機(jī)EL元件310測(cè)定在與感光體鼓21的表面相當(dāng)?shù)奈恢眯纬?的光點(diǎn)的光量。具體而言，將啄光頭29安裝到檢查裝置中。在檢查裝 置中配置有光量檢測(cè)器，其在與感光體鼓21的表面對(duì)應(yīng)的像面位置檢 測(cè)從曝光頭29的各個(gè)有機(jī)EL元件310射出的光的光量。該光量檢測(cè) 器可以是使1個(gè)檢測(cè)器一邊移動(dòng)一邊檢測(cè)從各個(gè)有機(jī)EL元件310射出 的光的光量的形式，也可以是對(duì)每個(gè)有機(jī)EL元件配置了檢測(cè)器的形式。 然后，使各個(gè)有機(jī)EL元件310順序發(fā)光，取得由檢查裝置的光量檢測(cè) 器檢測(cè)出的值Pgn、和由曝光頭29的光檢測(cè)部件320檢測(cè)出的值Phn (n表示第n個(gè)發(fā)光元件)，并且對(duì)各個(gè)有機(jī)EL元件310計(jì)算出修正系 數(shù)Pgn/Phn。將這樣求出的修正系數(shù)Pgn/Phn保存在例如圖2所示的引
14擎控制器EC中。然后，如以下說明那樣，根據(jù)修正系數(shù)Pgn/Phn,實(shí) 施圖像形成裝置的修正。
作為圖像形成裝置1的修正，首先檢測(cè)出有機(jī)EL元件310的光量 差異。該光量差異的檢測(cè)在圖像形成裝置l的電源投入時(shí)、圖像形成動(dòng) 作開始前等未執(zhí)行通常的圖像形成動(dòng)作的期間進(jìn)行。具體而言， 一邊使 各個(gè)有機(jī)EL元件310順序發(fā)光， 一邊測(cè)定光檢測(cè)部件320的檢測(cè)值。 然后，通過對(duì)光檢測(cè)部件320的測(cè)定值乘以修正系數(shù)Pgn/Phn，計(jì)算出 由各個(gè)有機(jī)EL元件310在感光體鼓21的表面形成的光點(diǎn)的光量。在 計(jì)算出的光量存在差異，不能實(shí)現(xiàn)所希望的光量的情況下，控制有機(jī) EL元件310的驅(qū)動(dòng)，以便獲得所希望的光量。即，將所希望的光量與 計(jì)算出的光量進(jìn)行比較，調(diào)整流過有機(jī)EL元件310的電流等，以使計(jì) 算出的光量成為所希望的光量。然后，通過對(duì)全部有機(jī)EL元件310執(zhí) 行這樣的調(diào)整動(dòng)作，來抑制多個(gè)有機(jī)EL元件310之間的光量差異。結(jié) 果，可實(shí)現(xiàn)良好的曝光。另外，關(guān)于所希望的光量的信息、和執(zhí)行驅(qū)動(dòng) 控制動(dòng)作的程序等，也可以預(yù)先保存在引擎控制器EC中。
下面，說明改質(zhì)點(diǎn)330的形成方法。圖6是表示改質(zhì)點(diǎn)330的形成 方法的一例的圖，表示了使用激光355在透光性基板301中形成改質(zhì)點(diǎn) 的狀態(tài)。如圖6(a)所示，通過將從未圖示的光源射出的具有規(guī)定直徑 的激光355，由聚光透鏡350聚光到透光性基板301內(nèi)的一點(diǎn)，對(duì)周圍 的性質(zhì)(透光性等)不產(chǎn)生影響地在該一點(diǎn)上形成氣泡、裂紋等，可作 為改質(zhì)點(diǎn)330。然后，通過使具有未圖示的光源和聚光透鏡350的組件、 與透光性基板301相對(duì)移動(dòng)，可在透光性基板301內(nèi)部的任意部分形成 多個(gè)改質(zhì)點(diǎn)330。
圖6 (b)是表示使用2組具有上述的光源和聚光透鏡350的組件， 形成改質(zhì)點(diǎn)330的狀態(tài)的圖。通過將2組激光355聚光在同一點(diǎn)，可將 更多的能量集中在一點(diǎn)上，從而可進(jìn)一步對(duì)周圍性質(zhì)不產(chǎn)生影響地、而 且短時(shí)間地將透光性基板內(nèi)的一點(diǎn)改質(zhì)。另外，也可以使用3組以上的 上述組件。此外，關(guān)于改質(zhì)點(diǎn)330的形成，可以在透光性基板301上形 成有機(jī)EL元件之前、或之后的任意時(shí)刻進(jìn)行。
激光355優(yōu)選使用YAG激光器的第2高次諧波(波長-532nm)或 YAG激光器的第3高次諧波(波長-355nm)。由于具有長脈沖寬度，所以形成的改質(zhì)點(diǎn)330為裂紋狀，可高效率反射從有機(jī)EL元件射出的 光。另外，也可以使用鈦藍(lán)寶石固體亳微微(femto)秒激光(波長 =800誰)。
(第2實(shí)施方式)
接下來說明第2實(shí)施方式。笫2實(shí)施方式的發(fā)光基板300和后述的 第3~第7實(shí)施方式的發(fā)光基板300與第1實(shí)施方式的發(fā)光基板300同樣， 通過與透鏡陣列299等組合而成為曝光頭29，并且，成為圖像形成組件 7、及圖像形成裝置1的構(gòu)成要素。而且，上述情況下的透鏡陣列299 等的構(gòu)成要素，除了發(fā)光基板300以外是相同的。因此，對(duì)于本實(shí)施方 式和第3 第7實(shí)施方式，只說明發(fā)光基板300。
圖7是表示第2實(shí)施方式的發(fā)光基板300的圖。圖7(a)是俯視圖、 圖7 (b)是側(cè)視圖。發(fā)光基板300的結(jié)構(gòu)除了后述的反光層的有無以 外，與第1實(shí)施方式的發(fā)光基板300相同。即，發(fā)光基板300由以鋸齒 狀配置在透光性基板301上的作為發(fā)光元件的有機(jī)EL元件310、和配 置在該有機(jī)EL元件周圍的光檢測(cè)部件320等構(gòu)成。而且，在透光性基 板301的配置有光檢測(cè)部件320的區(qū)域的厚度方向上，形成有妨礙光的 直進(jìn)性的改質(zhì)點(diǎn)330。并且，在透光性基板301的下面的與光檢測(cè)部件 320對(duì)置的區(qū)域，配置有反光層315。反光層315由鋁等高反射性金屬 形成。關(guān)于形成方法，可以采用濺射法等成膜，也可以粘貼金屬板。
根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠?qū)⒂筛馁|(zhì)點(diǎn)330反射后射向透光性基板301的外 部的光，再次返回到形成有改質(zhì)點(diǎn)330的區(qū)域并使其漫反射。因此，不 需要改變光檢測(cè)部件320的尺寸等，即可增加入射到該光檢測(cè)部件中的 光的比例。從而，可更進(jìn)一步掌握有機(jī)EL元件310的經(jīng)時(shí)劣化程度， 并實(shí)施更正確的修正(調(diào)整)，由此可形成更高品質(zhì)的圖像。另外，反 光層315可以是鏡面反射層，也可以是漫反射層。
在圖7中，反光層315的形狀(俯視下的形狀)被圖示為與光檢測(cè) 部件320的形狀大致一致，但反光層315的形狀不限于該形狀。而且， 反光層315的配置位置不限于透光性基板301的下面(與形成有機(jī)EL 元件310的面對(duì)置的面)。也可以配置在除了形成有機(jī)EL元件310的 區(qū)域、和與從有機(jī)EL元件310射出并入射到透鏡陣列299的光路重疊的區(qū)域以外的全區(qū)域。因此，還可以配置在透光性基板301的側(cè)面(上 面及下面以外的面)上。
(第3實(shí)施方式)
圖8是表示第3實(shí)施方式的發(fā)光基板300的圖。圖8(a)是俯視圖、 圖8 (b)是側(cè)視圖。構(gòu)成發(fā)光基板300的要素與第2實(shí)施方式的發(fā)光 基板300大致相同。即，發(fā)光基板300由透光性基板301、以鋸齒狀配 置在透光性基板301上的作為發(fā)光元件的有機(jī)EL元件310、配置在該 有機(jī)EL元件周圍的光檢測(cè)部件320、形成在透光性基板301的配置有 光檢測(cè)部件320的區(qū)域的妨礙光的直進(jìn)性的多個(gè)改質(zhì)點(diǎn)330、和反光層 315等構(gòu)成。
與第2實(shí)施方式的發(fā)光基板的不同點(diǎn)是，光檢測(cè)部件320及反光層 315的位置。光檢測(cè)部件320被配置在透光性基板301的下面，即配置 有有機(jī)EL元件310的面(上面)的相反側(cè)的面上，反光層315被配置 在上面。
根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠使光檢測(cè)部件320接收從有機(jī)EL元件310射出、 未遇到改質(zhì)點(diǎn)330而直接到達(dá)下面的光中的一部分。而且，能夠使基于 改質(zhì)點(diǎn)330而漫反射后朝向上面的光，被反光層315反射，再次朝向改 質(zhì)點(diǎn)330密集的部分再一次進(jìn)行漫反射。并且，能夠使再次漫反射的光 的一部分入射到光檢測(cè)部件320。因此，不需要改變光檢測(cè)部件320的 尺寸等，即可增加入射到該光檢測(cè)部件中的光的比例。從而，可更進(jìn)一 步掌握有機(jī)EL元件310的經(jīng)時(shí)劣化程度，并實(shí)施更正確的修正(調(diào)整)， 由此可形成更高品質(zhì)的圖像。
(第4實(shí)施方式)
圖9是表示第4實(shí)施方式的發(fā)光基板300的圖。圖9(a)是俯視圖、 圖9 (b)是側(cè)視圖。構(gòu)成本實(shí)施方式的發(fā)光基板300的要素與第2實(shí) 施方式及第3實(shí)施方式的發(fā)光基板300大致相同。即，發(fā)光基板300由 透光性基板301、以鋸齒狀配置在透光性基板301上的作為發(fā)光元件的 有機(jī)EL元件310、配置在該有機(jī)EL元件周圍的光檢測(cè)部件320、形成 在透光性基板301的配置有光檢測(cè)部件320的區(qū)域的妨礙光的直進(jìn)性的多個(gè)改質(zhì)點(diǎn)330、和反光層315構(gòu)成。并且，配置光檢測(cè)部件320的位 置與第1實(shí)施方式的發(fā)光基板300不同。
本實(shí)施方式的發(fā)光基板300中，在第1實(shí)施方式的發(fā)光基板300中 配置有光檢測(cè)部件320的區(qū)域、和與該區(qū)域?qū)χ玫膮^(qū)域配置有反光層 315。而且，在上述雙方的反光層315之間(被雙方反光層315夾持的 區(qū)域)形成有多個(gè)改質(zhì)點(diǎn)330。并且，光檢測(cè)部件320被配置在透光性 基板301的形成有該改質(zhì)點(diǎn)330的部分的側(cè)面。
由于在對(duì)置的反光層之間密集形成了改質(zhì)點(diǎn)330，所以，在遇到改 質(zhì)點(diǎn)330發(fā)生漫反射后、朝向透光性基板301的上面或下面的光，被任 意一方的反光層315反射，再次朝向改質(zhì)點(diǎn)330。而且，在遇到改質(zhì)點(diǎn) 330發(fā)生漫反射后、朝向透光性基板301的側(cè)面的光，入射到光檢測(cè)部 件320。因此，可進(jìn)一步增加入射到該光檢測(cè)部件320中的光的比例。 結(jié)果，可實(shí)施更正確的修正(調(diào)整)，從而可形成更高品質(zhì)的圖像。
(第5實(shí)施方式)
圖IO是表示第5實(shí)施方式的發(fā)光基板300的圖。本實(shí)施方式的發(fā) 光基板300的結(jié)構(gòu)與第2實(shí)施方式的發(fā)光基板300的結(jié)構(gòu)大致相同。即， 發(fā)光基板300由透光性基板301、以鋸齒狀配置在透光性基板301上的 作為發(fā)光元件的有機(jī)EL元件310、配置在該有機(jī)EL元件周圍的光檢 測(cè)部件320、形成在透光性基板301的配置有光檢測(cè)部件320的區(qū)域的 妨礙光的直進(jìn)性的多個(gè)改質(zhì)點(diǎn)330、和反光層315構(gòu)成，光檢測(cè)部件320 被配置在透光性基板301的上面。
本實(shí)施方式的發(fā)光基板300的特征是，改質(zhì)點(diǎn)330在(透光性基板 301中的)厚度方向上的配置方式。因此，省略俯視圖而只表示側(cè)視圖。 本實(shí)施方式的發(fā)光基板300的特征在于，改質(zhì)點(diǎn)330形成為在上述的厚 度方向上不重疊。由于抑制了被改質(zhì)點(diǎn)330反射而朝向光檢測(cè)部件320 方向的光，遇到其他改質(zhì)點(diǎn)330又被反射的情況，所以，可增加入射到 光檢測(cè)部件320中的光的比例。結(jié)果，可實(shí)施更正確的修正(調(diào)整)， 從而可形成更高品質(zhì)的圖像。
(第6實(shí)施方式)
18圖ll是表示第6實(shí)施方式的發(fā)光基板300的圖。本實(shí)施方式的發(fā) 光基板300的結(jié)構(gòu)與第2實(shí)施方式的發(fā)光基板300的結(jié)構(gòu)大致相同。即， 發(fā)光基板300由透光性基板301、以鋸齒狀配置在透光性基板301上的 作為發(fā)光元件的有機(jī)EL元件310、配置在該有機(jī)EL元件周圍的光檢 測(cè)部件320、形成在透光性基板301的配置有光檢測(cè)部件320的區(qū)域的 妨礙光的直進(jìn)性的多個(gè)改質(zhì)點(diǎn)330、和反光層315構(gòu)成，光檢測(cè)部件320 被配置在透光性基板301的上面。
本實(shí)施方式的發(fā)光基板300與第5實(shí)施方式的發(fā)光基板300同樣， 其特征是改質(zhì)點(diǎn)330在(透光性基板301的)厚度方向上的配置方式。 因此，省略俯視圖而只表示側(cè)視圖。
本實(shí)施方式的發(fā)光基板300的特征在于，改質(zhì)點(diǎn)330形成為在上述 厚度方向上形成密度差。即，改質(zhì)點(diǎn)330形成為越接近上面，密度越高。 根據(jù)該結(jié)構(gòu)，由于在接近光檢測(cè)部件320的區(qū)域高頻度發(fā)生漫反射，所 以能夠以高比例使從有機(jī)EL元件310射出并在光檢測(cè)部件320附近透 過的光入射到光檢測(cè)部件320中。而且，由于可抑制形成效果差的改質(zhì) 點(diǎn)330，所以可降低制造成本。
(第7實(shí)施方式)
圖12是表示第7實(shí)施方式的發(fā)光基板300的圖。圖12 ( a)是俯視 圖、圖12(b)是側(cè)視圖。構(gòu)成本實(shí)施方式的發(fā)光基板300的要素與第 2實(shí)施方式等的發(fā)光基板300大致相同。即，發(fā)光基板300由透光性基 板301、以鋸齒狀配置在透光性基板301上的作為發(fā)光元件的有機(jī)EL 元件310、配置在該有機(jī)EL元件周圍的光檢測(cè)部件320、形成在透光 性基板301的配置有光檢測(cè)部件320的區(qū)域的妨礙光的直進(jìn)性的多個(gè)改 質(zhì)點(diǎn)330、和反光層315構(gòu)成。另外，與第2實(shí)施方式的發(fā)光基板300 等不同點(diǎn)是，增加了光檢測(cè)部件320等的數(shù)量。
在本實(shí)施方式的發(fā)光基板300中，按照包圍透光性基板301的中央 部的、以鋸齒狀配置有機(jī)EL元件310的區(qū)域的周邊的方式配置光檢測(cè) 部件320。而且，在透光性基板301下面的俯視下與光檢測(cè)部件320重 疊的區(qū)域配置反光層315，在該反光層與光檢測(cè)部件320之間形成改質(zhì) 點(diǎn)330。
19由于有機(jī)EL元件310的周圍，俯視下被光檢測(cè)部件320、改質(zhì)點(diǎn) 330和反光層315包圍，所以，從有機(jī)EL元件310射出的光能夠以高 的概率入射到任意的光檢測(cè)部件320中。因此，可進(jìn)一步增加入射到光 檢測(cè)部件320中的光的比例，可實(shí)施更正確的修正(調(diào)整)，從而可形 成更高品質(zhì)的圖像。
另外，反光層315也可以形成為完全連續(xù)的環(huán)狀。此外，光檢測(cè)部 件320也可以通過在透光性基板301上嵌入TFT(薄膜晶體管)或TFD (薄膜二極管)等，配置成環(huán)狀。
(變形例)
下面，作為變形例，對(duì)具有發(fā)光基板300的有機(jī)EL裝置以及具有 該有機(jī)EL裝置的電子設(shè)備進(jìn)行說明，其中，所述發(fā)光基板300具有形 成在透光性基板301上的作為發(fā)光元件的有機(jī)EL元件310、配置在該 有機(jī)EL元件附近的光檢測(cè)部件320、和形成在該光檢測(cè)部件附近的改 質(zhì)點(diǎn)330。
圖13是表示具有上述有機(jī)EL裝置的作為電子設(shè)備的個(gè)人計(jì)算機(jī)的 圖。個(gè)人計(jì)算機(jī)1200包括具有鍵盤1202的主體部1204、和具有發(fā)光 基板并且在顯示區(qū)域1208能夠顯示圖^^的有機(jī)EL裝置1206，該發(fā)光 基板具有光檢測(cè)部件、和形成在該光檢測(cè)部件附近的改質(zhì)點(diǎn)。
圖14是表示變形例涉及的有機(jī)EL裝置1206的顯示區(qū)域1208中的 像素配置等的圖。圖14(a)表示像素P的配置，圖14(b)和圖14(c) 表示像素P內(nèi)的子像素及光檢測(cè)部件的配置的一例。有機(jī)EL裝置1206 可以進(jìn)行彩色顯示，在有機(jī)EL裝置1206的顯示區(qū)域1208中，如圖14 (a)所示那樣規(guī)則配置有像素P。通過各個(gè)像素射出(發(fā)光的)強(qiáng)度 及色彩等被獨(dú)立控制的光，能夠在顯示區(qū)域1208中顯示彩色圖像。另 外，在上述圖中，像素P被以陣列狀配置，但也可以進(jìn)行鋸齒狀等其他 形狀的配置。
各個(gè)像素P分別具有一個(gè)作為子像素的射出紅色光的紅像素R、射 出綠色光的綠像素G、和射出藍(lán)色光的藍(lán)像素B、以及至少l個(gè)作為光 檢測(cè)部件的傳感器TFT321。各個(gè)子像素具有有機(jī)EL元件310、和后述的驅(qū)動(dòng)用TFT620 (參照?qǐng)D15)。上述子像素等的配置可以如圖14 (b) 所示那樣排列配置成一列，也可以如圖14 (c)所示那樣，按照傳感器 TFT321與各個(gè)子《象素相鄰的方式配置。
本實(shí)施方式的有機(jī)EL裝置1206與上述的圖像形成裝置1同樣，在 電源接通時(shí)等通過使配置在顯示區(qū)域的全部子像素順序發(fā)光，可由傳感 器TFT321測(cè)定出各個(gè)像素的光量。然后，通過將該測(cè)定值與在有機(jī) EL裝置1206的制造時(shí)采用同一方法測(cè)定出的值進(jìn)行比較，計(jì)算出各個(gè) 子像素的經(jīng)時(shí)劣化程度，由此在顯示圖像時(shí)能夠進(jìn)行修正。即，能夠修 正流過各個(gè)有機(jī)EL元件310的電流等，從而獲得理想的光量。
而且，如后述那樣，由于在形成有作為光檢測(cè)部件的傳感器TFT321 的區(qū)域中形成了多個(gè)改質(zhì)點(diǎn)330 (參照?qǐng)D15),所以可增加從有機(jī)EL 元件310射出的光中的入射到傳感器TFT321中的光的比例。結(jié)果，能 夠以更高的精度實(shí)施上述修正，從而可顯示更高品質(zhì)的圖像。
另外，有機(jī)EL裝置1206在顯示圖像時(shí)，向各個(gè)像素供給各自不同 值的電流等，獲得了任意的光量，但在上述光量測(cè)定時(shí)，對(duì)全部像素(子 像素)所具有的有機(jī)EL元件供給相同的電流量等。因此，上述測(cè)定值 是向各個(gè)有機(jī)EL元件310供給同一電流時(shí)的各個(gè)有機(jī)EL元件310射 出的光量的測(cè)定值。以下，對(duì)本變形例的有機(jī)EL裝置1206的結(jié)構(gòu)進(jìn) 行說明。
圖15是本變形例的有機(jī)EL裝置1206所具有的發(fā)光基板300中的 構(gòu)成1個(gè)像素P的區(qū)域的模式剖面圖。發(fā)光基板300由透光性基板301、 形成在該透光性基板上的驅(qū)動(dòng)用TFT620、以及有機(jī)EL元件310等構(gòu) 成。而且，通過將發(fā)光基板300如后述那樣，利用粘合層656與對(duì)置基 板302粘合而成為有機(jī)EL裝置1206。如圖所示，像素P由形成在透光 性基板301與對(duì)置基板302之間的有機(jī)EL元件310等構(gòu)成。如上所述， 像素P由3種子像素和作為光檢測(cè)部件的傳感器TFT321構(gòu)成。如上述 那樣，各個(gè)子像素由有機(jī)EL元件310、驅(qū)動(dòng)該有機(jī)EL元件的驅(qū)動(dòng)用 TFT620、和未圖示的保持電容等構(gòu)成。
如圖所示，在透光性基板301上，按照與驅(qū)動(dòng)用TFT620相鄰的方 式形成有傳感器TFT321。傳感器TFT321可接收有機(jī)EL元件310射出的光的一部分，測(cè)定各個(gè)有機(jī)EL元件310的發(fā)光強(qiáng)度。通過根據(jù)該 測(cè)定結(jié)果，修正(調(diào)整)向各個(gè)有機(jī)EL元件310供給的電流量，可顯 示(形成)高品質(zhì)的圖像。
而且，在本實(shí)施方式的有機(jī)EL裝置1206所具有的發(fā)光基板300的、 形成有傳感器TFT321的區(qū)域的透光性基板301內(nèi)，密集形成有多個(gè)改 質(zhì)點(diǎn)330。與上述的曝光頭29同樣，本實(shí)施方式的有機(jī)EL裝置1206 的傳感器TFT321能夠通過改質(zhì)點(diǎn)330以高的比例接收有機(jī)EL元件射 出的光，從而可更有效地實(shí)施上述的^"正。有機(jī)EL元件310和驅(qū)動(dòng)用 TFT620的結(jié)構(gòu)如下所述。
在透光性基板301上，按順序形成有將多結(jié)晶硅層以島狀構(gòu)圖而形 成的半導(dǎo)體層610、由Si02等絕緣材料構(gòu)成的柵極絕緣膜608、和由鉻 等高融點(diǎn)金屬構(gòu)成的柵電極612。半導(dǎo)體層610俯視下與柵電極612重 疊的區(qū)域是溝道區(qū)域602,該區(qū)域的兩側(cè)被導(dǎo)入P (磷)等雜質(zhì)而成為 源極區(qū)域604和漏極區(qū)域606。由上述的要素構(gòu)成了驅(qū)動(dòng)用TFT620。 另外，在透光性基板301與半導(dǎo)體層610之間，也可以形成由SK)2等 構(gòu)成的緩沖層。
在柵電極612上，形成有由Si02等構(gòu)成的第l層間絕緣膜632。而 且，在半導(dǎo)體層610的與源極區(qū)域604和漏極區(qū)域606對(duì)應(yīng)的位置，形 成有第1接觸孔641和第2接觸孔643。在上述雙方接觸孔內(nèi)形成有由 鋁等構(gòu)成的源電極642和漏電極644，在該雙方電極上形成有由Si02 等構(gòu)成的第2層間絕緣膜634。并且，在第2層間絕緣膜634的與漏電 極644對(duì)應(yīng)的位置形成有第3接觸孔645，并形成有通過該第3接觸孔 與漏電極644連接的像素電極(陽極)650。像素電極650通過將ITO (氧化銦錫)等透光性導(dǎo)電材料層構(gòu)圖為島狀而形成，其能夠向后述的 功能層通電，并且可透過在功能層內(nèi)產(chǎn)生的光，使其通過透光性基板301 向發(fā)光基板300的外部射出。另外，本實(shí)施方式的有機(jī)EL裝置1206 所具有的有機(jī)EL元件310是向透光性基板301側(cè)射出光的底發(fā)光型。 各個(gè)像素電極650由隔壁636劃分，該隔壁636通過以露出像素電極650 的方式對(duì)聚酰亞胺等絕緣性有機(jī)材料層、或絕緣性無機(jī)材料層進(jìn)行構(gòu)圖 而形成。
在由隔壁636和像素電極650構(gòu)成的凹部中，形成有與各個(gè)子像素所具有的有機(jī)EL元件310射出的光對(duì)應(yīng)的功能層。即，在紅像素R中 形成有與紅色光對(duì)應(yīng)的紅色功能層652R、在綠像素G中形成有與綠色 光對(duì)應(yīng)的綠色功能層652G、在藍(lán)像素B中形成有與藍(lán)色光對(duì)應(yīng)的藍(lán)色 功能層652B。另外，(雖然未圖示)各個(gè)功能層通過疊層空穴注入輸送 層、發(fā)光層、和電子注入輸送層而形成。上述的3要素中在子像素之間 不同的要素只是發(fā)光層，空穴注入輸送層和電子注入輸送層在子像素之 間相同。
上述各功能層和隔壁636上，在發(fā)光基板300上的整個(gè)面形成由鋁、 鎂、銀合金等構(gòu)成的陰極654。由像素電極650、陰極654、及該一對(duì)電 極之間的功能層構(gòu)成有機(jī)EL元件310。通過在像素電極650與陰極654 之間施加電壓，使電流流過功能層(中包含的發(fā)光層)，來使從像素電 極650供給的空穴與從陰極供給的電子在發(fā)光層內(nèi)結(jié)合。然后，基于結(jié) 合的能量被激勵(lì)的發(fā)光層(內(nèi)的發(fā)光材料)在從激勵(lì)狀態(tài)再次返回為基 底狀態(tài)時(shí)產(chǎn)生光。發(fā)光基板300通過將該光從透光性基板301射出而形 成圖像。而且，通過陰極654的形成而完成發(fā)光基板300，并通過將該 發(fā)光基板利用粘合層656與對(duì)置基板302粘合，成為有機(jī)EL裝置1206。
在透光性基板301上與上述子像素并列形成有作為光檢測(cè)部件的傳 感器TFT321。傳感器TFT321的結(jié)構(gòu)(除了尺寸以外)與驅(qū)動(dòng)用TFT620 相同，但用途不同。因此，不需要增加其他工序，可與驅(qū)動(dòng)用TFT620 同時(shí)形成。
在上述電源投入時(shí)等的光量測(cè)定中，傳感器TFT321接收相鄰的子 像素射出的光的一部分，輸出與受光的光強(qiáng)度，即劣化程度對(duì)應(yīng)的電流 或電壓。然后，該電流值或電壓值被送到在配置為陣列狀的像素P周圍 形成的控制電路，并保存。由于傳感器TFT321對(duì)應(yīng)每個(gè)由子像素構(gòu)成 的像素P配置，所以可檢測(cè)出各個(gè)子像素的劣化程度。因此，上述的控 制電路在顯示圖像時(shí)向各個(gè)子像素供給(根據(jù)該各個(gè)子像素的劣化程度 而)不同的電流，可修正因該劣化引起的光量的下降。結(jié)果，本實(shí)施方 式的有機(jī)EL裝置1206能夠與有機(jī)EL元件310的經(jīng)時(shí)劣化無關(guān)地始終 顯示高品質(zhì)的圖像。
這里，上述有機(jī)EL元件射出的光如圖15的箭頭所示，以多的比例 朝向與透光性基板301垂直的方向。但是，如上述第1實(shí)施方式中說明的那樣，以規(guī)定范圍的角度照射到透光性基板301的一部分光(透光性 基板與外部的界面)被該表面反射，朝向透光性基板301，其中的一部 分入射到傳感器TFT321的半導(dǎo)體層610中。
而且，在形成有傳感器TFT321的區(qū)域中密集形成有多個(gè)改質(zhì)點(diǎn) 330。因此，如上述第1實(shí)施方式中所說明那樣，能夠高效率接收入射 到透光性基板301的與傳感器TFT321俯視下重疊的區(qū)域上的光。因此， 可進(jìn)一步正確掌握有機(jī)EL元件310的經(jīng)時(shí)劣化，能夠?qū)嵤└硐氲恼{(diào) 整(修正)。從而，在具有有機(jī)EL裝置1206的作為電子設(shè)備的個(gè)人計(jì) 算機(jī)1200中，可顯示更高品質(zhì)的圖像。
權(quán)利要求
1. 一種曝光頭，具有透光性基板；配置在所述透光性基板的一個(gè)面上的多個(gè)發(fā)光元件；和被配置在所述透光性基板的1個(gè)或多個(gè)光檢測(cè)部件，其可檢測(cè)出從所述發(fā)光元件射出并在所述透光性基板內(nèi)傳播的光；該曝光頭將從所述發(fā)光元件射出并透過了所述透光性基板的光，照射到隔著所述透光性基板與所述發(fā)光元件對(duì)置的像擔(dān)承體上，在所述像擔(dān)承體上形成規(guī)定的圖形，其特征在于，所述透光性基板內(nèi)形成有使在該透光性基板內(nèi)傳播的光漫反射的多個(gè)改質(zhì)點(diǎn)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的曝光頭，其特征在于，在所述透光性基板表面的除了配置有所述發(fā)光元件的區(qū)域、與該發(fā) 光元件對(duì)置的區(qū)域、和配置有所述光檢測(cè)部件的區(qū)域以外的區(qū)域的至少 一部分上，配置有反射由所述發(fā)光元件射出的光的反光層。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的曝光頭，其特征在于， 所述發(fā)光元件是有機(jī)EL元件。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的曝光頭，其特征在于， 所述改質(zhì)點(diǎn)是利用激光形成的點(diǎn)。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1至4中任意一項(xiàng)所述的曝光頭，其特征在于， 所述改質(zhì)點(diǎn)的形成密度根據(jù)所述透光性基板內(nèi)的位置而不同。
6. —種圖像形成組件，其特征在于，具有權(quán)利要求1至5中任意一 項(xiàng)所述的曝光頭。
7. —種圖像形成裝置，其特征在于，具有權(quán)利要求1至5中任意一 項(xiàng)所述的曝光頭。
全文摘要
本發(fā)明提供可正確掌握發(fā)光強(qiáng)度的經(jīng)時(shí)劣化的曝光頭、圖像形成組件及圖像形成裝置。該曝光頭(29)具有發(fā)光基板(300)，該發(fā)光基板具有透光性基板(301)；配置在透光性基板的一個(gè)面上的多個(gè)發(fā)光元件(310)；和被配置在透光性基板(301)上的1個(gè)或多個(gè)光檢測(cè)部件(320)，其可檢測(cè)出從發(fā)光元件(310)射出并在透光性基板內(nèi)傳播的光；該曝光頭將從發(fā)光元件(310)射出并透過了透光性基板(301)的光，照射到隔著透光性基板(301)與發(fā)光元件(310)對(duì)置的像擔(dān)承體(21)上，在像擔(dān)承體(21)上形成規(guī)定的圖形，透光性基板(301)內(nèi)形成有使在該透光性基板內(nèi)傳播的光漫反射的多個(gè)改質(zhì)點(diǎn)(330)。
文檔編號(hào)B41J2/447GK101503030SQ20091000
公開日2009年8月12日 申請(qǐng)日期2009年2月5日 優(yōu)先權(quán)日2008年2月8日
發(fā)明者櫻井和德 申請(qǐng)人:精工愛普生株式會(huì)社