專利名稱：一種細小文字的超精細雕刻方法
技術領域：
本發(fā)明涉及雕刻法，特別是涉及一種細小文字的超精細雕刻方法。
背景技術：
現(xiàn)在的電雕機雕刻的文字邊緣有大小不一的小網點存在，使線條及文字發(fā)虛。當 文字線條小到一定程度(小于0. 2mm)時，文字的筆畫將大部分都為非實地網點組成，文字 的印刷效果將很差。若承印物為紙張，將幾乎無法識別出所印刷的文字，產生這種現(xiàn)象的原 因是由于我們所使用的電雕機的工作機理所決定的。通常我們的解決辦法是盡量采用高線 數(shù)工藝來保證文字邊緣效果，但隨之帶來的是文字的含墨量減少，文字筆畫印不實，因此我 們只能在兼顧邊緣效果和筆畫實在程度之間找一個折中方案。

發(fā)明內容
本發(fā)明所要解決的技術問題就是為了克服上述現(xiàn)有技術存在的缺陷而提供一種 細小文字的超精細雕刻方法。本發(fā)明的目的可以通過以下技術方案來實現(xiàn)一種細小文字的超精細雕刻方法， 其特征在于，包括以下步驟1)將電雕機圖案在拼版時作分雕處理；2)調整雕刻機雕刻頭，設定P卡上交流信號；3)退回滑腳，使電流維持在平衡范圍內，進行試雕；4)檢測高光槽的寬度與正常高光值是否相同，且電流維持在平衡范圍內，若是，則 進行雕刻；5)雕刻完成后，退回至試雕位再試雕一次，測量高光槽寬度是否變化，若否，則雕 刻完成。與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明使用原有雕刻電流的直流控制信號來進行雕刻，它在銅 層上所雕刻圖形是由長短不同的槽組成，而不是以往的網點，邊緣整齊(尤其是斜豎線 條)，原有網墻的空間也被雕刻為含墨槽，所以相同文字的含墨量為原有的兩倍，同時耐印 率也可以達到正常雕刻的近二倍，含墨量是正常的兩倍，并且文字印刷效果清晰、實在。


圖1為現(xiàn)有雕刻法的雕刻圖形與本發(fā)明方法雕刻圖形的對比圖一；圖2為現(xiàn)有雕刻法的雕刻圖形與本發(fā)明方法雕刻圖形的對比圖二 ；圖3為現(xiàn)有雕刻法的雕刻圖形與本發(fā)明方法雕刻圖形的對比圖三；圖4為現(xiàn)有雕刻法的雕刻圖形與本發(fā)明方法雕刻圖形的對比圖四；圖5為現(xiàn)有雕刻法的雕刻圖形與本發(fā)明方法雕刻圖形的對比圖五；圖6為現(xiàn)有雕刻法的雕刻圖形與本發(fā)明方法雕刻圖形的對比圖六；圖7為現(xiàn)有雕刻法與本發(fā)明方法的實際印樣效果對比圖。
其中圖7的左側為本發(fā)明實際印樣效果，右側為現(xiàn)有雕刻法實際印樣效果。
具體實施例方式下面對本發(fā)明作進一步說明。1)將電雕機圖案在拼版時作分雕處理，所采用工藝與正常文字線條工藝相同。2)調整雕刻機雕刻頭，設定P卡上交流信號；3)因精細雕刻時雕刻針無固定頻率的振蕩，所以雕刻針振動幅度會減小，需適當 退回滑腳，使電流維持在平衡范圍內，進行試雕；4)檢測高光槽的寬度與正常高光值是否相同，且電流維持在平衡范圍內，若是，則 進行雕刻；5)雕刻完成后，退回至試雕位再試雕一次，測量高光槽寬度是否變化，若否，則雕 刻完成。6)若采用正常雕刻方式時，重新調整P卡上交流信號，可進行正常試雕。
權利要求
一種細小文字的超精細雕刻方法，其特征在于，包括以下步驟1)將電雕機圖案在拼版時作分雕處理；2)調整雕刻機雕刻頭，設定P卡上交流信號；3)退回滑腳，使電流維持在平衡范圍內，進行試雕；4)檢測高光槽的寬度與正常高光值是否相同，且電流維持在平衡范圍內，若是，則進行雕刻；5)雕刻完成后，退回至試雕位再試雕一次，測量高光槽寬度是否變化，若否，則雕刻完成。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種細小文字的超精細雕刻方法，包括將電雕機圖案在拼版時作分雕處理；調整雕刻機雕刻頭，設定P卡上交流信號；退回滑腳，使電流維持在平衡范圍內，進行試雕；檢測高光槽的寬度與正常高光值是否相同，且電流維持在平衡范圍內，若是，則進行雕刻；雕刻完成后，退回至試雕位再試雕一次，測量高光槽寬度是否變化，若否，則雕刻完成。本發(fā)明使用原有雕刻電流的直流控制信號來進行雕刻，它在銅層上所雕刻圖形是由長短不同的槽組成，而不是以往的網點，邊緣整齊，原有網墻的空間也被雕刻為含墨槽，所以相同文字的含墨量為原有的兩倍，同時耐印率也可以達到正常雕刻的近二倍，含墨量是正常的兩倍，并且文字印刷效果清晰、實在。
文檔編號B41C1/045GK101987528SQ2009100561
公開日2011年3月23日 申請日期2009年8月7日 優(yōu)先權日2009年8月7日
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