專利名稱：液體排出頭及其制造方法以及用于其的流路構(gòu)件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于通過例如排出諸如墨的液體在記錄介質(zhì)上進(jìn)行記錄的液體
排出頭以及該液體排出頭的制造方法。特別地，本發(fā)明涉及一種用于進(jìn)行噴墨記錄的液體 排出頭。
背景技術(shù)：
噴墨記錄頭是通常公知的液體排出頭的例子。
參照?qǐng)D8A至圖8C，簡(jiǎn)述噴墨記錄頭的結(jié)構(gòu)。 如圖8A所示，噴墨記錄頭H1001包括墨盒保持單元H1003 ;和用于排出墨的記錄 元件單元H1002。 墨從墨盒(未示出)通過形成在墨盒保持單元H1003中的墨流路被供給到記錄元 件單元H1002。 通過將如圖8B所示的墨盒保持架H1500接合到如圖8C所示的流路板H1600而在 墨盒保持單元H1003中形成墨流路。 將墨盒保持架H1500接合到流路板H1600的已知方法包括超聲波熔接(日本特開 2007-283668號(hào)公報(bào))和激光熔接(日本特開2005-096422號(hào)公報(bào))。
將說明上述兩種方法中的激光熔接。 術(shù)語"激光熔接"通常是指以下方法使對(duì)激光束具有透過性的部件和能夠吸收激
光束的部件彼此接觸，并且利用激光束照射待熔接區(qū)域從而使各部件接合在一起。
與超聲波熔接相比，激光熔接具有以下優(yōu)點(diǎn)在熔接部產(chǎn)生的異物是可以忽略的，
并且被用作形成墨流路的有效手段。 參照?qǐng)D9A至圖9B和圖IOA至圖IOC，圖IOA至圖10C是如圖9A至圖9B中示出的 記錄頭的示意性截面圖，將說明日本特開2005-096422號(hào)公報(bào)中所說明的通過激光熔接將 墨盒保持架H1500接合到流路形成板H1600的方法。 利用壓力夾具510使能夠吸收激光束的墨盒保持架H1500和對(duì)激光束具有透過性 的流路形成板H1600彼此接觸(圖9A和10A)。接著，在墨盒保持架H1500和流路形成板 H1600彼此接觸的狀態(tài)下，利用激光束照射接觸面600 (圖9B和圖10B)，從而形成熔接部 610并由此形成墨流路H1601 (圖10C)。 通常，激光照射方法的例子包括同時(shí)照射法和在日本特開2005-096422號(hào)公報(bào)中 說明的掃描法。 采用掃描法，通過將激光束聚焦到小的光點(diǎn)而以掃描方式沿熔接區(qū)域H1602中的 軌跡用激光束照射所期望的熔接區(qū)域H1602 (圖8B和圖8C)，該激光束是從如圖9B和圖10B 所示的激光束照射裝置500中發(fā)出的激光束。 采用同時(shí)照射法，期望的熔接區(qū)域被激光束一并(in onego)照射。 墨流路具有細(xì)微的結(jié)構(gòu)并且熔接區(qū)域非常小。在這種情況下，掃描法和同時(shí)照射
法具有以下情況。
掃描法具有如下情況需要很長(zhǎng)時(shí)間將激光束聚焦在非常小的熔接區(qū)域中的期望軌跡上，沿軌跡掃描并且熔接該區(qū)域。 例如，如圖8B和8C所示，噴墨記錄頭的期望的熔接區(qū)域H1602和墨流路H1601具有寬度非常小的微細(xì)結(jié)構(gòu)。因此，如圖10B所示，照射除除墨流路H1601以外的區(qū)域是非常耗時(shí)的。因此，掃描法不適合制造大量的噴墨記錄頭。 相反，對(duì)于同時(shí)照射法，能夠減少熔接所需的時(shí)間。然而，當(dāng)熔接區(qū)域具有微細(xì)結(jié)
構(gòu)時(shí)，在與微細(xì)墨流路對(duì)應(yīng)的部分設(shè)置掩模以及用激光束僅照射熔接部是困難的。 參照?qǐng)DIIA至11C，將說明用于熔接墨盒保持架H1500和流路板H1600的同時(shí)照射
法。如圖11B所示，接觸面600與將成為墨流路H1601的區(qū)域同時(shí)被激光束照射。結(jié)果，如
圖11C所示，由于該激光束，可能在墨流路H1601的表面上形成受損部620。 如果在墨流路H1601中產(chǎn)生受損部620，受損部620能夠阻礙墨的流動(dòng)并且能夠削
弱噴墨記錄頭HIOOI的可靠性。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種噴墨記錄頭，在該噴墨記錄頭中，當(dāng)通過利用激光束照射包括墨流路的區(qū)域而將形成墨流路的部件熔接到一起時(shí)，能夠降低由激光束對(duì)墨流路產(chǎn)生的損傷。 根據(jù)本發(fā)明的液體排出頭包括液體排出基板，該液體排出基板包括用于排出液體的排出口 ；以及流路構(gòu)件，該流路構(gòu)件包括對(duì)激光束具有透過性的透過構(gòu)件、能夠吸收激光束的吸收構(gòu)件以及用于將液體供給到液體排出基板的流路，其中，通過透過透過構(gòu)件向吸收構(gòu)件的構(gòu)成流路的壁的一部分的流路部和向流路部的周邊發(fā)出激光束，由此在流路部的周邊將透過構(gòu)件和吸收構(gòu)件相互熔接，而在透過構(gòu)件和吸收構(gòu)件之間形成流路，并且流路部包括相對(duì)于已經(jīng)透過透過構(gòu)件的激光束的方向傾斜的傾斜面。 根據(jù)本發(fā)明的液體排出頭，其包括液體排出基板，該液體排出基板包括用于排出
液體的排出口 ；以及流路構(gòu)件，該流路構(gòu)件包括用于將液體供給到液體排出基板的流路，其
中，流路構(gòu)件包括對(duì)激光束具有透過性的透過構(gòu)件以及能夠吸收激光束的吸收構(gòu)件，透過
構(gòu)件包括開口 ，流路通過該開口與液體排出基板連通，通過透過透過構(gòu)件向吸收構(gòu)件的構(gòu)
成流路的壁的一部分的流路部和向流路部的周邊發(fā)出激光束，由此在流路部的周邊將透過
構(gòu)件和吸收構(gòu)件相互熔接，而在透過構(gòu)件和吸收構(gòu)件之間形成流路，并且流路部的被已穿
過開口的激光束直接照射的部分包括相對(duì)于激光束的方向傾斜的傾斜面。 根據(jù)本發(fā)明的液體排出頭，其包括液體排出基板，該液體排出基板包括用于排出
液體的排出口 ；以及流路構(gòu)件，該流路構(gòu)件包括對(duì)激光束具有透過性的透過構(gòu)件、能夠吸收
激光束的吸收構(gòu)件以及用于將液體供給到液體排出基板的流路，其中，通過在吸收構(gòu)件的
構(gòu)成流路的壁的一部分的流路部的周邊處將透過構(gòu)件和吸收構(gòu)件相互熔接，而在透過構(gòu)件
和吸收構(gòu)件之間形成流路，透過構(gòu)件的構(gòu)成流路的壁的一部分的流路部包括與透過構(gòu)件和
吸收構(gòu)件相互熔接的熔接面平行的面，并且吸收構(gòu)件的流路部包括相對(duì)于熔接面傾斜的傾斜面。 根據(jù)本發(fā)明的用于液體排出頭的流路構(gòu)件，該流路構(gòu)件包括用于將液體供給到液體排出基板的流路，該液體排出基板包括用于排出液體的排出口，該流路構(gòu)件包括透過構(gòu)件，該透過構(gòu)件對(duì)激光束具有透過性，該透過構(gòu)件包括開口 ，流路與液體排出基板通過該開
口連通；和吸收構(gòu)件，該吸收構(gòu)件能夠吸收激光束，其中，通過透過透過構(gòu)件向吸收構(gòu)件的
構(gòu)成流路的壁的一部分的流路部和向流路部的周邊發(fā)出激光束，由此在流路部的周邊將透
過構(gòu)件和吸收構(gòu)件相互熔接，而在透過構(gòu)件和吸收構(gòu)件之間形成流路，并且流路部的被已
經(jīng)透過開口的激光束直接照射的部分包括相對(duì)于激光束的方向傾斜的傾斜面。
根據(jù)本發(fā)明的制造液體排出頭的方法，該液體排出頭包括液體排出基板；對(duì)激
光束具有透過性的透過構(gòu)件；能夠吸收激光束的吸收構(gòu)件；以及形成在透過構(gòu)件和吸收構(gòu)
件之間的流路，該液體排出基板包括用于排出液體的排出口，流路將液體供給到液體排出
基板，該方法包括以吸收構(gòu)件的流路部位于透過構(gòu)件與吸收構(gòu)件之間的方式使透過構(gòu)件
與吸收構(gòu)件接觸，流路部包括相對(duì)于激光束的方向傾斜的傾斜面并且構(gòu)成流路的壁的一部
分，并且透過透過構(gòu)件向吸收構(gòu)件的構(gòu)成流路的壁的部分的流路部和向流路部的周邊發(fā)出
激光束，從而在流路部的周邊將透過構(gòu)件和吸收構(gòu)件相互熔接。 通過下面參照附圖對(duì)本發(fā)明的典型實(shí)施方式的說明，本發(fā)明的其它特征將變得明顯。


圖1A至圖1C是示出激光熔接根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的噴墨記錄頭的工序的示意圖。 圖2A至圖2C是本發(fā)明的第一實(shí)施方式的說明圖。 圖3是本發(fā)明的第一實(shí)施方式的說明圖。 圖4A和圖4B是本發(fā)明的第二實(shí)施方式的說明圖。 圖5是本發(fā)明的第三實(shí)施方式的說明圖。 圖6A和圖6B是可應(yīng)用本發(fā)明的通用記錄頭的說明圖。 圖7是包含在通用記錄頭中的記錄元件基板的說明圖。 圖8A至圖8C是現(xiàn)有的記錄頭的說明圖。 圖9A和圖9B是現(xiàn)有的激光熔接法的說明圖。 圖10A至圖10C是掃描激光熔接法的說明圖。 圖IIA至圖IIC是同時(shí)激光熔接法的說明圖。
具體實(shí)施例方式
將采用通用的噴墨記錄頭的例子說明根據(jù)本實(shí)施方式的液體排出頭。
在本說明書中，術(shù)語"記錄"不僅是指形成比如文字或圖形等有意義的信息，還指形成無意義的信息，不論信息是否能被人眼所見。另外，該術(shù)語在廣義上是指在記錄介質(zhì)上形成圖像、設(shè)計(jì)、圖案等或者處理記錄介質(zhì)。 術(shù)語"記錄介質(zhì)"不僅是指用于記錄設(shè)備的通用的紙張，還指比如布、塑料膜、金屬板、玻璃、陶瓷、木材以及皮革等能夠接受墨的任何材料。 如術(shù)語"記錄介質(zhì)"那樣應(yīng)當(dāng)被寬泛地解釋的術(shù)語"墨"是指能夠用于在記錄介質(zhì)上形成圖像、設(shè)計(jì)、圖案等的液體；用于處理記錄介質(zhì)的液體；以及用于處理墨的液體。因而，術(shù)語"墨"是指任何能夠與記錄有關(guān)地使用的液體。
6
本發(fā)明的噴墨記錄頭(在下文中被稱為"記錄頭")包括墨流路和用于排出墨的排出口，該墨流路與排出口連通以將墨供給到排出口。參照?qǐng)D6A和圖6B，將說明構(gòu)成記錄頭盒的記錄頭的例子。 如圖6A所示，記錄頭盒10包括記錄頭20和墨盒40。墨盒40可拆裝地安裝到記錄頭20上。 記錄頭盒10以可拆裝方式被安裝到噴墨記錄設(shè)備(未示出)的滑架(未示出)的定位構(gòu)件和電接觸部并且由該定位構(gòu)件和電接觸部支撐。(在下文中，噴墨記錄設(shè)備被稱為"記錄設(shè)備")。 墨從墨盒40被供給到記錄頭20。通過根據(jù)從記錄設(shè)備供給的電信號(hào)驅(qū)動(dòng)記錄元件，記錄頭20從形成于記錄元件基板H1101的排出口排出墨。記錄元件的例子包括發(fā)熱元件和壓電元件。這里將說明使用發(fā)熱元件的記錄頭。
圖6B是圖6A中所示的記錄頭20的分解立體圖。 記錄頭20包括記錄元件單元300和墨盒保持單元200。記錄元件單元300包括電配線基板340和記錄元件基板HllOl。 電配線基板340包括用于將電配線基板340連接到記錄設(shè)備的連接端子341 ;用于將電配線基板340連接到記錄元件基板H1101的電極端子(未示出)；用于將連接端子341連接到電極端子的配線；以及用于記錄元件基板H1101裝入的開口。
電配線基板340例如以如下方式被連接到記錄元件基板HllOl。導(dǎo)電的熱固性粘合樹脂被施加到布置于記錄元件基板HllOl的電極部和電配線基板340的電極端子；并且使用加熱工具同時(shí)施壓和加熱電極部和電極端子，從而電極部和電極端子能同時(shí)彼此電連接。使用密封劑將電極部和電極端子電連接的區(qū)域密封，從而能夠保護(hù)電極部和電極端子電連接的區(qū)域不受外部沖擊或者不會(huì)由墨造成腐蝕。 圖7是用于說明作為排出墨的液體排出基板的記錄元件基板H1101的結(jié)構(gòu)的局部剖視立體圖。 記錄元件基板H1101包括墨供給口H1102和用于排出墨的排出口H1107，該墨供給口 H1102與排出口連通并且將墨供給到排出口 。排出口形成于排出口形成構(gòu)件H1106中，而墨供給口形成在硅基板HlllO中。 硅基板HlllO的厚度在0.5mm l.Omm范圍內(nèi)。墨供給口 H1102通過各向異性蝕刻形成在硅基板HlllO中。此外，發(fā)熱元件H1103形成在硅基板H1110。排出口H1107通過光蝕刻法以排出口 H1107與發(fā)熱元件H1103對(duì)應(yīng)的方式形成于硅基板H1110。而且，由Au等制成的隆起部(bump)H1105被布置在硅基板H1110上。該隆起部H1105作為用于供給驅(qū)動(dòng)發(fā)熱元件Hl 103所需的電信號(hào)和電力的電極部。 參照?qǐng)D6B，將詳細(xì)說明墨盒保持單元200，該墨盒保持單元200包括形成本發(fā)明的特征部分的墨流路的流路構(gòu)件201。 如圖6B所示，墨盒保持單元200包括墨盒保持架210和流路板220。墨盒保持架210保持墨盒40。流路板220被接合到墨盒保持架210從而形成墨流路。將被接合到流路板220的流路形成部211與墨盒保持架210形成為一體。流路形成部211和流路板220構(gòu)成流路構(gòu)件201。流路板220具有與圖6B所示的記錄元件單元300的記錄元件基板H1101連通的開口 220a。
7
布置在墨盒40和記錄元件基板HI 101之間的墨盒保持單元200用來從墨盒40經(jīng)由墨流路和開口 220a向記錄元件基板H1101供給墨。 在如圖6B所示的流路形成部211中形成溝槽以用來作為構(gòu)成墨流路224的壁的一部分的流路部。然而，溝槽也可以不形成在流路形成部211。為了在流路形成部211和流路板220接合在一起時(shí)能形成墨流路224，流路形成部211和流路板220中的至少一方適當(dāng)?shù)匦纬蓽喜凼亲銐虻模瑥亩摐喜勰軌蛐纬赡髀返谋诘囊徊糠帧?為了通過激光熔接將流路形成部211和流路板220接合到一起，流路構(gòu)件中的一
方對(duì)激光束具有透過性而流路構(gòu)件中的另一方能夠吸收激光束是必要的。 在本發(fā)明的實(shí)施方式中，流路板220對(duì)激光束具有透過性，而流路形成部211能夠
吸收激光束，從而易于利用激光束照射流路構(gòu)件。 在本發(fā)明的實(shí)施方式中，流路形成部211和墨盒保持架210形成為一體。然而，流路形成部211和墨盒保持架210可以獨(dú)立地形成，流路形成部211和流路板220被接合到一起的流路構(gòu)件201可以安裝到墨盒保持架210。 關(guān)于本發(fā)明，短語"對(duì)激光束具有透過性的透過構(gòu)件"是指當(dāng)利用激光束照射厚度為2. 0mm的該構(gòu)件時(shí)具有等于或大于30%的透過率的構(gòu)件。短語"能夠吸收激光束的吸收構(gòu)件"是指當(dāng)利用激光束照射厚度為2. 0mm的該構(gòu)件時(shí)具有等于或大于90%的吸收率的構(gòu)件。通過使用具有上述透過率的構(gòu)件和具有上述吸收率的構(gòu)件，能夠利用激光熔接將透過構(gòu)件與吸收構(gòu)件進(jìn)行熔接。 在下文中，將參照附圖詳細(xì)說明本發(fā)明的具體實(shí)施方式

。
第一實(shí)施方式 將參照

本發(fā)明的第一實(shí)施方式。 圖1A至圖1C是示出在制造記錄頭的工藝中將流路板220安裝到形成流路形成部211的墨盒保持架210的步驟的立體圖。從圖1A中省略了下面將說明的形成在流路形成部211的傾斜面。 圖1A示出了如下步驟制備流路板220以及與墨盒保持架210—體形成的流路形成部211的步驟；和以流路部被布置在流路板220和流路形成部211之間的方式在待熔接的墨流路的周邊處使流路板220和流路形成部211彼此接觸的步驟。 圖1B示出了如下步驟在完成圖1A所示的步驟后，利用被設(shè)計(jì)成在激光照射中使用的壓力夾具53保持流路板220，使得流路形成部緊密地接觸流路板，并且通過使用激光束照射裝置51來利用激光束照射流路形成部。激光束照射裝置51透過透過構(gòu)件發(fā)出激光束朝向待熔接的墨流路的周邊223并朝向流路形成部211的構(gòu)成墨流路的壁的一部分的流路部。 圖1C示出了流路板220和流路形成部211被接合在一起(墨盒保持單元200)的狀態(tài)。 圖2A是沿著圖1A的線II-II截取的截面圖，并且圖1A至圖1C分別對(duì)應(yīng)于圖2A至圖2C。參照?qǐng)D2A至圖2C，將說明本發(fā)明的流路形成部和流路板的具體結(jié)構(gòu)。
第一實(shí)施方式被構(gòu)造成能夠降低由激光束對(duì)墨流路224的流路部212(參照?qǐng)D1A)產(chǎn)生的損傷，流路部212由激光束透過流路板220間接照射。流路部212是墨流路224的沿流路形成部211和流路板220熔接的熔接面布置的部分。
如圖2A至圖2C所示，在第一實(shí)施方式中，流路部212由傾斜面225構(gòu)成從而反射激光束52a。傾斜面225相對(duì)于激光束52a的方向傾斜。在第一實(shí)施方式中，在傾斜面225中不包含流路部212的大致平行于已經(jīng)透過流路板220(透過構(gòu)件)的激光束52a的方向的部分。同樣也適用于下面說明的第二實(shí)施方式和第三實(shí)施方式。 在本實(shí)施方式中，傾斜面225由兩個(gè)平面構(gòu)成，每個(gè)平面均相對(duì)于已透過流路板220的激光束的方向傾斜。換句話說，如圖2C所示，傾斜面225相對(duì)于流路板220和流路形成部211熔接的熔接面230傾斜。 在本實(shí)施方式中，流路板220的主面和流路板220的構(gòu)成流路的壁的一部分的部分與從激光束照射裝置51發(fā)出的激光束垂直并且與熔接面230平行。因而，從激光束照射裝置51發(fā)出的大多數(shù)激光束透過流路板220而不被流路板220衍射或者反射，并且入射到流路形成部211。然而，如果當(dāng)激光束透過流路板220時(shí)發(fā)生衍射或者被反射，已經(jīng)透過流路板220并入射到流路形成部211的激光束的方向可能與從激光束照射裝置51發(fā)出的激光束的方向不同。即使在這種情況下，只要傾斜面225相對(duì)于已透過流路板220的激光束的方向傾斜就可以應(yīng)用本發(fā)明。 通常，根據(jù)入射角9 (大于0°小于90° ，參照?qǐng)D2B)由反射面反射激光束。激光束被反射的比例(反射率)隨著入射角的增大而增大。例如，如果相對(duì)于反射面的入射角是0° ，幾乎所有的激光束都被吸收。如果入射角等于或者大于45。，被反射的激光束的比例超過被吸收的激光束的比例。 因此，如圖2B所示，激光束相對(duì)于傾斜面225的入射角大于O。是足夠的。期望入射角為45°以上從而減少對(duì)墨流路的損傷。如圖2B所示，已到達(dá)傾斜面225的激光束52a的部分被反射并且成為反射光束52b，剩余部分被傾斜面225吸收。即使反射光束52b再次到達(dá)傾斜面225并且傾斜面225吸收了所有的反射光束52b，由于反射光束52b的強(qiáng)度比激光束52a的強(qiáng)度低，所以由反射光束52b對(duì)流路部212產(chǎn)生的損傷比由激光束52a產(chǎn)生的損傷小。因此，通過使入射角為45。以上，能夠反射50X以上的激光束52a，由此能夠減小對(duì)墨流路224的損傷。 如上所述，通過利用傾斜面形成流路部，能夠增加反射率并且減小由流路部吸收的激光束的比例。結(jié)果，無需使用與微細(xì)的墨流路對(duì)應(yīng)的掩模，就能夠減小如圖IIA至圖IIC所示的對(duì)墨流路的損傷。 傾斜面可以形成在流路形成部211的流路部的可能被激光束的照射嚴(yán)重?fù)p傷的區(qū)域。 如圖3所示，流路部212可以包括3個(gè)或者更多的傾斜面225。在圖2A至圖2C所示的實(shí)施方式中，傾斜面225包括平面。然而，即使傾斜面225包括曲面，也能夠獲得如使用圖2A至圖2C描述的情況那樣的類似優(yōu)點(diǎn)。 當(dāng)流路部212由三個(gè)或者更多的傾斜面構(gòu)成時(shí)，與流路部212由2個(gè)或者更少的傾斜面構(gòu)成的情況相比，在抑制流路部212的深度的同時(shí)，能夠增加激光束相對(duì)于傾斜面的入射角。因而，能夠減小流路形成部211的厚度，這對(duì)于減小記錄頭的尺寸和記錄設(shè)備的尺寸是有效的。 如圖2B所示，當(dāng)熔接流路形成部211和流路板220時(shí)，使流路形成部211與流路板220僅在流路部的周邊223處接觸并且僅在周邊223處熔接。
通過以這種方式設(shè)置接觸部和非接觸部，當(dāng)使得流路形成部211接觸流路板220
時(shí)，壓力集中在接觸部(流路部的周邊223)，從而在接觸部的接觸變得更加緊密。 如圖2B所示，當(dāng)利用激光束照射流路部的周邊223時(shí)，包含在流路形成部211 (吸
收構(gòu)件)中的染料或者顏料被加熱，并且包含在染料或者顏料中的樹脂被熔融。此時(shí)產(chǎn)生
的熱被傳送到流路板220。流路板220被熱熔融，從而形成熔接面230。此時(shí)，由于有效地
傳遞了熱，并且在流路部的周邊223處接觸緊密，因而能夠強(qiáng)固地形成圖2C所示的熔接面
230。 在本實(shí)施方式中，透明改性聚苯醚"TPN9221"(由前身為通用電器塑料集團(tuán)(GEPlastics)的沙伯基礎(chǔ)創(chuàng)新塑料(SABIC Innovative Plastics)制造)被用作透過構(gòu)件的材料。透明改性聚苯醚是一種允許激光束透過并且對(duì)于由墨產(chǎn)生的腐蝕具有高抵抗性的透明材料。可選地，不包括著色材料的透明改性聚苯醚"TN300"(由沙伯基礎(chǔ)創(chuàng)新塑料制造)能夠被用作透過構(gòu)件的材料。 術(shù)語"改性聚苯醚"是改性聚亞苯基醚或者改性聚亞苯基氧化物的通用名稱。改性聚苯醚是一種由改性聚亞苯基醚(或者改性聚亞苯基氧化物)制成的熱塑性樹脂從而提高耐熱性和強(qiáng)度。改性聚苯醚還具有強(qiáng)的耐酸性和強(qiáng)的耐堿性。 黑色改性聚苯醚"SE1X"(由沙伯基礎(chǔ)創(chuàng)新塑料制造)被用作吸收構(gòu)件的材料，該
黑色改性聚苯醚包括吸收激光束的染料或者顏料。 第二實(shí)施方式 接著，將說明本發(fā)明的第二實(shí)施方式。 省略了對(duì)于與第一實(shí)施方式中的結(jié)構(gòu)相似的結(jié)構(gòu)的描述，并且采用相同的附圖標(biāo)記表示相應(yīng)的部分。由于激光熔接方法和用于流路形成部及流路板的材料與第一實(shí)施方式中的類似，因此，省略了對(duì)其的說明。 圖4A是沿著圖1C的IV-IV截取的示出流路部的結(jié)構(gòu)的截面圖。圖4B是示出當(dāng)不采用本實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)時(shí)對(duì)墨流路所產(chǎn)生的損傷的說明圖。 如圖4B所示，當(dāng)已經(jīng)透過形成在流路板220中的開口 220a的激光束照射流路部212a時(shí)，會(huì)在墨流路224的流路部212a中形成受損部620。由于形成在流路部212a的受損部620已被透過作為透過構(gòu)件的流路板220的激光束52a直接照射，從而，由激光束52a對(duì)受損部620的損傷比第一實(shí)施方式中說明的對(duì)流路部212的損傷更嚴(yán)重。在一些情況下，第一實(shí)施方式中所說明的對(duì)流路部212的損傷可能是微小的，由傾斜面構(gòu)成流路部212可能是不必要的。然而，即使在該情況下，也有必要減小可能對(duì)流路部212a產(chǎn)生的較重?fù)p傷。
對(duì)于第二實(shí)施方式，采用以下結(jié)構(gòu)減小激光束對(duì)流路部212a產(chǎn)生的損傷。
如圖4A所示，在第二實(shí)施方式中，墨流路224的被激光束直接照射的流路部212a由傾斜面225a和大致平行于激光束方向的面構(gòu)成。采用如第一實(shí)施方式中的這種結(jié)構(gòu)，激光束52a的直接入射在流路部212a上的部分被反射，從而能夠減小由激光束對(duì)流路部212a所產(chǎn)生的損傷。 傾斜面225a的構(gòu)造不限于圖4A中所示的形狀。只要傾斜面225a能夠反射激光束52a，就能夠獲得與圖4A所示的傾斜面225a的優(yōu)點(diǎn)類似的優(yōu)點(diǎn)。 通過將第一實(shí)施方式和第二實(shí)施方式二者的構(gòu)造應(yīng)用于記錄頭，能夠進(jìn)一步減小對(duì)墨流路的損傷。如上所述，通過在流路部形成傾斜面，能夠增加反射率并且減小由流路部吸收的激光束的比例。從而，能夠減小圖4B所示的對(duì)墨流路的損傷。
第三實(shí)施方式 接著，將說明本發(fā)明的第三實(shí)施方式。 省略了對(duì)與第一實(shí)施方式中的結(jié)構(gòu)相似的結(jié)構(gòu)的描述，并且采用相同的附圖標(biāo)記表示相應(yīng)的部分。由于激光熔接方法和用于流路形成部及流路板的材料與第一實(shí)施方式中的類似，因此，省略了對(duì)其的說明。 如圖5所示，在本實(shí)施方式中，流路部包括傾斜面226和大致平行于激光束方向的面。流路部的傾斜面226被進(jìn)行鏡面加工。通過對(duì)傾斜面進(jìn)行鏡面加工，能夠增大傾斜面的反射率。從而，即使傾斜面相對(duì)于激光束方向以小角度傾斜，也就是說，即使激光束相對(duì)于傾斜面的入射角是小的，也能夠減小由激光束對(duì)流路部產(chǎn)生的損傷。因此，能夠在抑制流路部的深度的同時(shí)設(shè)置傾斜面。 能夠通過研磨(lap)成型流路形成部211的模具的對(duì)應(yīng)于傾斜面226的面而對(duì)傾斜面226進(jìn)行鏡面加工。 如上所述的關(guān)于第二實(shí)施方式，由激光束對(duì)流路部212a產(chǎn)生的損傷比第一實(shí)施方式中對(duì)流路部212產(chǎn)生的損傷嚴(yán)重。因此，即使激光束的入射角是相同的，通過僅對(duì)傾斜面225a進(jìn)行鏡面加工，能夠使流路部212a的傾斜面225a的反射率比流路部212的傾斜面225的反射率大。對(duì)于本結(jié)構(gòu)，能夠在抑制流路部212a中的槽的深度的同時(shí)減小對(duì)流路部212a的損傷。 對(duì)于前面所述的第一至第三實(shí)施方式，通過以傾斜面形成由吸收構(gòu)件構(gòu)成的墨流路部的一部分，能夠減小由激光束對(duì)墨流路產(chǎn)生的損傷。因此，提供了一種能夠減小由受損部產(chǎn)生的情形并具有高可靠性的液體排出頭。 雖然已經(jīng)參照典型實(shí)施方式說明了本發(fā)明，應(yīng)該理解的是本發(fā)明不限于所公開的典型實(shí)施例。所附的權(quán)利要求書的范圍應(yīng)符合最寬的解釋，以包括所有的變形、等同結(jié)構(gòu)和功能。 本申請(qǐng)要求申請(qǐng)日為2008年12月19日的日本專利申請(qǐng)No. 2008-324478的優(yōu)先權(quán)，其全部?jī)?nèi)容通過引用包含于此。
權(quán)利要求
一種液體排出頭，其包括液體排出基板，該液體排出基板包括用于排出液體的排出口；以及流路構(gòu)件，該流路構(gòu)件包括對(duì)激光束具有透過性的透過構(gòu)件、能夠吸收激光束的吸收構(gòu)件以及用于將液體供給到所述液體排出基板的流路，其中，通過透過所述透過構(gòu)件向所述吸收構(gòu)件的構(gòu)成所述流路的壁的一部分的流路部和向所述流路部的周邊發(fā)出激光束，由此在所述流路部的所述周邊將所述透過構(gòu)件和所述吸收構(gòu)件相互熔接，而在所述透過構(gòu)件和所述吸收構(gòu)件之間形成所述流路，并且所述流路部包括相對(duì)于已經(jīng)透過所述透過構(gòu)件的激光束的方向傾斜的傾斜面。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的液體排出頭，其特征在于，向所述流路部和所述流路部的所述周邊發(fā)出的所述激光束相對(duì)于所述傾斜面的入射 角為45°以上。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的液體排出頭，其特征在于， 所述傾斜面由多個(gè)面構(gòu)成。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的液體排出頭，其特征在于， 所述傾斜面被進(jìn)行鏡面加工。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的液體排出頭，其特征在于， 所述液體排出頭包括被構(gòu)造成保持墨盒的墨盒保持架，并且 所述吸收構(gòu)件與所述墨盒保持架形成為一體。
6. —種液體排出頭，其包括液體排出基板，該液體排出基板包括用于排出液體的排出口 ；以及流路構(gòu)件，該流路構(gòu)件包括用于將液體供給到所述液體排出基板的流路，其中，所述流路構(gòu)件包括對(duì)激光束具有透過性的透過構(gòu)件以及能夠吸收激光束的吸收構(gòu)件，所述透過構(gòu)件包括開口 ，所述流路通過該開口與所述液體排出基板連通，通過透過所述透過構(gòu)件向所述吸收構(gòu)件的構(gòu)成所述流路的壁的一部分的流路部和向所述流路部的周邊發(fā)出激光束，由此在所述流路部的所述周邊將所述透過構(gòu)件和所述吸收構(gòu)件相互熔接，而在所述透過構(gòu)件和所述吸收構(gòu)件之間形成所述流路，并且所述流路部的被已穿過所述開口的激光束直接照射的部分包括相對(duì)于所述激光束的方向傾斜的傾斜面。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的液體排出頭，其特征在于，所述流路部的被已穿過所述透過構(gòu)件的激光束間接照射的部分包括相對(duì)于所述激光 束的方向傾斜的傾斜面，并且被所述激光束直接照射的部分的傾斜面對(duì)于激光束的反射率比被所述激光束間接照 射的部分對(duì)于激光束的反射率高。
8. —種液體排出頭，其包括液體排出基板，該液體排出基板包括用于排出液體的排出口 ；以及 流路構(gòu)件，該流路構(gòu)件包括對(duì)激光束具有透過性的透過構(gòu)件、能夠吸收激光束的吸收構(gòu)件以及用于將液體供給到所述液體排出基板的流路，其中，通過在所述吸收構(gòu)件的構(gòu)成所述流路的壁的一部分的流路部的周邊處將所述透過構(gòu)件和所述吸收構(gòu)件相互熔接，而在所述透過構(gòu)件和所述吸收構(gòu)件之間形成所述流路，所述透過構(gòu)件的構(gòu)成所述流路的壁的一部分的流路部包括與所述透過構(gòu)件和所述吸 收構(gòu)件相互熔接的熔接面平行的面，并且所述吸收構(gòu)件的所述流路部包括相對(duì)于所述熔接面傾斜的傾斜面。
9. 一種用于液體排出頭的流路構(gòu)件，該流路構(gòu)件包括用于將液體供給到液體排出基板 的流路，該液體排出基板包括用于排出液體的排出口 ，該流路構(gòu)件包括透過構(gòu)件，該透過構(gòu)件對(duì)激光束具有透過性，該透過構(gòu)件包括開口 ，所述流路與所述液 體排出基板通過該開口連通；禾口吸收構(gòu)件，該吸收構(gòu)件能夠吸收激光束，其中，通過透過所述透過構(gòu)件向所述吸收構(gòu)件的構(gòu)成所述流路的壁的一部分的流路部 和向所述所述流路部的周邊發(fā)出激光束，由此在所述流路部的所述周邊將所述透過構(gòu)件和 所述吸收構(gòu)件相互熔接，而在所述透過構(gòu)件和所述吸收構(gòu)件之間形成所述流路，并且所述流路部的被已經(jīng)透過所述開口的激光束直接照射的部分包括相對(duì)于所述激光束 的方向傾斜的傾斜面。
10. —種制造液體排出頭的方法，該液體排出頭包括液體排出基板；對(duì)激光束具有透 過性的透過構(gòu)件；能夠吸收激光束的吸收構(gòu)件；以及形成在所述透過構(gòu)件和所述吸收構(gòu)件 之間的流路，該液體排出基板包括用于排出液體的排出口，所述流路將液體供給到所述液 體排出基板，該方法包括以所述吸收構(gòu)件的流路部位于所述透過構(gòu)件與所述吸收構(gòu)件之間的方式使所述透過 構(gòu)件與所述吸收構(gòu)件接觸，所述流路部包括相對(duì)于激光束的方向傾斜的傾斜面并且構(gòu)成所 述流路的壁的一部分，并且透過所述透過構(gòu)件向所述吸收構(gòu)件的構(gòu)成所述流路的壁的部分的所述流路部和向所 述流路部的周邊發(fā)出激光束，從而在所述流路部的所述周邊將所述透過構(gòu)件和所述吸收構(gòu) 件相互熔接。
全文摘要
液體排出頭及其制造方法以及用于其的流路構(gòu)件。一種液體排出頭，其包括液體排出基板和流路構(gòu)件，該液體排出基板包括用于排出液體的排出口，該流路構(gòu)件包括對(duì)激光束具有透過性的透過構(gòu)件；能夠吸收激光束的吸收構(gòu)件；以及用于將液體供給到液體排出基板的流路，其中，通過透過所述透過構(gòu)件向吸收構(gòu)件的構(gòu)成所述流路的壁的一部分的流路部和流路部的周邊發(fā)出激光束，由此在所述流路部的周邊將所述透過構(gòu)件和所述吸收構(gòu)件熔接在一起，而在所述透過構(gòu)件和所述吸收構(gòu)件之間形成所述流路，并且所述流路部包括相對(duì)于已經(jīng)透過所述透過構(gòu)件的激光束的方向傾斜的傾斜面。
文檔編號(hào)B41J2/14GK101746139SQ2009102612
公開日2010年6月23日 申請(qǐng)日期2009年12月17日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月19日
發(fā)明者及川悟司, 森田攻 申請(qǐng)人:佳能株式會(huì)社