專利名稱：釉面材料和陶瓷薄板以及該陶瓷薄板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種釉面材料、包括該釉面材料的陶瓷薄板以及該陶瓷薄板的制作方法。
背景技術(shù)：
目前市面上占主導(dǎo)地位的瓷磚品種主要是拋光磚和釉面仿古磚。在裝修方面，拋光磚顯得大氣、富麗堂皇，但許多效果限于材料及工藝裝備而無法實現(xiàn)，仿真度不高。隨著生活水平的提高，人們對自己的起居空間有了更高的要求，所以滿足人們個性化要求的仿古磚就出現(xiàn)在人們的眼前。CN 101224996中公開的釉彩復(fù)合板材的制備工藝流程為坯料入球-噴霧干燥-壓制-干燥-施釉印花(釉料入球)-一次燒成-分選-布熔塊-二次燒成-拋光-磨邊-分級-包裝入庫，其中，透明熔塊的化學(xué)成分是A12039-12%、Si0265-70%, CaO+MgO 2-5%,K20+Na20 6-8%,Fe2O3 < 0. 5%,IL < 0. 5%。雖然該工藝采用布透明熔塊和二次燒成的方式制得了表面光澤度高且產(chǎn)品規(guī)格較大的瓷磚表面透明層，但是制作過程復(fù)雜，而且成本高。CN 101157M2A中公開的具有半透明反光裝飾面的陶瓷磚生產(chǎn)工藝包括素坯干燥后先噴上燒成后不反光的面釉，然后用多道絲網(wǎng)進(jìn)行印花，最后一道絲網(wǎng)印上燒成后呈半透明白色的釉料(即釉面材料)，其中，該釉料的配方為熔塊23. 3%、硅酸鋯27. 3%、燒滑石2. 7%、氧化鋁5%、乙二醇21. 2%、水20. 5%。應(yīng)用該工藝制作的瓷磚雖然能夠產(chǎn)生豐富的花色和圖案，但是由于所用的釉面材料燒成后呈半透明白色，使得制成的陶瓷磚的表面不夠光潔亮麗。此外，由于需要采用絲網(wǎng)印刷的方式在磚坯表面印上所述釉料，這樣會在磚面上留下一些網(wǎng)紋，低陷的地方可能會產(chǎn)生漏拋，從而影響產(chǎn)品的整體視覺效果。因此，需要開發(fā)一種能夠形成具有高光透明飾面層的釉面材料，使用該釉面材料制作的陶瓷薄板不但表面光澤度高、產(chǎn)品規(guī)格大，而且制作工藝簡單。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的是克服應(yīng)用現(xiàn)有的釉面材料制作瓷磚的工藝復(fù)雜、成本高或視覺效果不好、產(chǎn)品規(guī)格小的缺點，提供一種能夠形成高光透明飾面層的釉面材料，使用該釉面材料制作的陶瓷薄板不但表面光澤度高、產(chǎn)品規(guī)格大，而且制作工藝簡單。本發(fā)明的另一個目的是提供使用這樣的釉面材料制作的陶瓷薄板以及該陶瓷薄板的制作方法。除非特別說明，本發(fā)明中所使用的術(shù)語“陶瓷薄板”，是指由黏土和其他無機(jī)非金屬材料經(jīng)成形、高溫?zé)Y(jié)等生產(chǎn)工藝制成的厚度不大于10mm，釉面面積不小于1. 62m2的板狀陶瓷制品。本發(fā)明提供了一種釉面材料，該釉面材料的主要化學(xué)成分的重量百分含量如下Si027 2-78%、Al2036-14%、CaO 5-12%, MgO 0. 3-1%, K2O 0. 2-2%, Na2O 2-4%, ZnO 0-4%。
其中，優(yōu)選地，所述釉面材料可以由以下重量百分含量的原料組成鈉長石 20-50%、高嶺土 4-10%、硅灰石 6-30%、石英 0-30%本發(fā)明提供的釉面材料的顆粒大小可以在很大范圍內(nèi)變化。為了使各種組分混合得更加均勻，所述釉面材料的平均顆粒大小可以優(yōu)選為325-600目，更優(yōu)選為400-500目。另一方面，本發(fā)明還提供了一種陶瓷薄板，該陶瓷薄板包括坯體、附著于該坯體表面的底釉層和附著于該底釉層表面的面釉層，其中，所述面釉層是由本發(fā)明提供的釉面材料燒制而成的。根據(jù)本發(fā)明提供的陶瓷薄板，其中，所述面釉層的厚度可以為0.03-0. 5毫米，優(yōu)選為0. 05-0. 35毫米。優(yōu)選地，所述面釉層的光澤度可以大于80。本發(fā)明對陶瓷薄板的規(guī)格沒有特別地限定，一般情況下，該陶瓷薄板的規(guī)格可以為(500-1500)mmX (1500-2500)mmX (3-10)mm。為了滿足超薄化和大規(guī)格化的需求， 該陶瓷薄板的規(guī)格可以優(yōu)選為(800-1000)mmX (1600-2000)mmX (3_7)mm，例如，可以為 900mmX 1800mm X 5mm。根據(jù)本發(fā)明提供的陶瓷薄板，其中，所述坯體可以為本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知的用于制備陶瓷薄板的坯體，本發(fā)明對所述坯體的組成和尺寸沒有特別的限定。優(yōu)選情況下， 為了滿足超薄化和大規(guī)格化的需求，所述坯體的尺寸可以為(500-1500)mmX (1500-2500) mmX (l_5)mm。本發(fā)明對所述底釉層的組成和厚度也沒有特別地限定。優(yōu)選情況下，為了得到更好的裝飾效果，所述底釉層可以為不反光的(啞光的)材料，其化學(xué)成分的重量百分比組成可以優(yōu)選為Si&66-74%、Al20316-22%、CaO 0. 5-1%, MgO 0. 3-1%, K20+Na20+Li20 4-6%。例如，在本發(fā)明的一種優(yōu)選的實施方式中，所述底釉層的原料的重量百分比組成為 鉀長石25 %、鈉長石12 %、黑泥8 %，方解石10 %、燒滑石22 %，煅燒高嶺土 6 %、氧化鋁 8<%、硅酸鋯8%、氧化鋅1(%。所述底釉層的厚度可以為0. 5-5mm，優(yōu)選為l_3mm。本發(fā)明還提供了上述陶瓷薄板的制作方法，該方法包括在坯體的表面形成底釉層的步驟和在底釉層的表面形成面釉層的步驟，其中，所述在底釉層的表面形成面釉層的步驟中使用本發(fā)明提供的釉面材料形成面釉層。根據(jù)本發(fā)明提供的制作方法，其中，在底釉層的表面形成面釉層的步驟可以使用本領(lǐng)域常規(guī)的方法。優(yōu)選情況下，為了避免在磚面上留下網(wǎng)紋或發(fā)生漏拋，最好使用全透滾筒印刷和/或鐘罩淋釉。在本發(fā)明提供的制作方法中，所述在坯體的表面形成底釉層的步驟還可以包括在底釉層上形成圖案的操作，優(yōu)選地，形成圖案的方法選自圓網(wǎng)印刷、絲網(wǎng)印刷和輥筒印刷中的一種或多種。具體地，本發(fā)明提供的制作方法可以包括以下工序坯體成型-施底釉-印花-施面釉-燒成-拋光。按照本發(fā)明提供的制作方法，除了在所述“面釉布料”步驟使用本發(fā)明提供的釉面材料進(jìn)行布料之外，其它步驟均為本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知，在此不再贅述。本發(fā)明提供的釉面材料能夠形成具有高光的透明飾面層，使用該釉面材料制作的陶瓷薄板不但表面光澤度高、產(chǎn)品規(guī)格大，而且制作工藝簡單、成本低。
具體實施方式

下面結(jié)合具體實施方式

對本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步的詳細(xì)描述，給出的實施例僅為了闡明本發(fā)明，而不是為了限制本發(fā)明的范圍。實施例1本實施例用于說明本發(fā)明提供的釉面材料和陶瓷薄板以及陶瓷薄板的制作方法。釉面材料的原料組成(重量百分含量)為鈉長石39%、高嶺土 8%、硅灰石觀％、 石英25%。該原料的平均顆粒大小為450目。用化學(xué)全分析儀(DHF82型，湘潭湘儀儀器有限公司)測得上述原料的化學(xué)成分的重量百分含量為Si&76. 6%、A120310. 5%、Ca0 5. 9%,MgOO. 6%, K2O 0. 6%, Na2O 3.8%、 ZnO 2%。制作陶瓷薄板坯體成型使用陶瓷壓機(jī)將陶瓷坯料壓制成型，成型后的坯體的規(guī)格是 900mmX 1800mmX6. 0mm，然后將坯體干燥至水分為2%。底釉底釉材料的原料組成(重量百分含量)為鉀長石25%、鈉長石12%、黑泥 8 %、方解石10 %、燒滑石22 %、煅燒高嶺土 6 %、氧化鋁8 %、硅酸鋯8 %、氧化鋅1 %，平均顆粒大小為400目。向該底釉材料中加入相同重量的水，攪拌均勻形成底釉漿料，在坯體的一個表面上涂覆一層厚度為2. 5mm的底釉漿料。印花在所述底釉材料上用多套滾筒根據(jù)圖案設(shè)計進(jìn)行印花裝飾。面釉向本實施例的釉面材料中加入相同重量的水，攪拌均勻形成釉面漿料，使用全透滾筒印刷的方式在印花后的底釉漿料上涂覆一層厚度為0. 4mm的釉面漿料。壓制成型使用KD6800型設(shè)備，在61000KN的壓力下將布料后的坯體壓制成型。燒成使壓制成型后的產(chǎn)品在1200°C下燒成，燒成的時間為60分鐘。拋光使用柔性拋光機(jī)對燒成得到的產(chǎn)品的釉面進(jìn)行拋光，使釉面的光澤度達(dá)到 85，從而制得本發(fā)明的陶瓷薄板。該陶瓷薄板的規(guī)格為900mmX1800mmX5. 5mm，其中底釉層的厚度為1mm，面釉層的厚度為0. 18mm。實施例2本實施例用于說明本發(fā)明提供的釉面材料和陶瓷薄板以及陶瓷薄板的制作方法。釉面材料的原料組成(重量百分含量)為鈉長石45%、高嶺土 7%、硅灰石25%、 石英23%。該原料的平均顆粒大小為400目。用化學(xué)全分析儀(DHF82型，湘潭湘儀儀器有限公司)測得上述原料的化學(xué)成分的重量百分含量為Si027 3 . 5%、Al20313%、CaO 6. 8%, MgOO. 9%, K2O 0. 3%, Na2O 3%, ZnO 3 % ο制作陶瓷薄板按照與實施例1相同的方法制作陶瓷薄板，不同的是在坯體成型步驟中，坯體的規(guī)格為1500mmX 1500mmX 3mm ；在底釉布料步驟中，底釉漿料的厚度為5mm ；在面釉布料步驟中，使用鐘罩淋釉的方式在印花后的底釉漿料上涂覆一層厚度為0. 76mm的釉面漿料；在拋光步驟中，釉面的光澤度為88 ；該陶瓷薄板的規(guī)格為900mmX1800mmX5. 3mm，其中底釉層的厚度為2mm，面釉層的厚度為0. 3mm。實施例3本實施例用于說明本發(fā)明提供的釉面材料和陶瓷薄板以及陶瓷薄板的制作方法。釉面材料的原料組成(重量百分含量)為鈉長石43%、高嶺土 5%、硅灰石對％、 石英28%。該原料的平均顆粒大小為400目。用化學(xué)全分析儀(DHF82型，湘潭湘儀儀器有限公司)測得上述原料的化學(xué)成分的重量百分含量為Si&75%、Al2038. 6%、Ca0 6. 5%,MgOO. 4%, K2O 0. 8%, Na2O 3.9%。制作陶瓷薄板按照與實施例1相同的方法制作陶瓷薄板，不同的是在坯體成型步驟中，坯體的規(guī)格為900mmX 1800mmX3mm ；在底釉布料步驟中，底釉漿料的厚度為2. 5mm ；在面釉布料步驟中，釉面漿料的厚度為0. 25mm ；在拋光步驟中，釉面的光澤度為88 ；該陶瓷薄板的規(guī)格為900mmX 1800mmX4mm，其中底釉層的厚度為1mm，面釉層的厚度為0. 1mm。通過以上實施例的描述可以看出，使用本發(fā)明的釉面材料燒制成的陶瓷薄板的表面光澤度高于80，產(chǎn)品規(guī)格較大，而且制作工藝簡單易行。
權(quán)利要求
1.一種釉面材料，其特征在于，該釉面材料的主要化學(xué)成分的重量百分含量如下 72-78%, Al2O3 6-14%, CaO 5-7%,MgO 0. 3-1%, K2OO. 2-1%, Na2O 2-4%, ZnO 0-4%。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的釉面材料，其中，該釉面材料由以下重量百分含量的原料制成鈉長石20-50 %、高嶺土 4-10 %、硅灰石6-30 %、石英0_30 %。
3.—種陶瓷薄板，該陶瓷薄板包括坯體、附著于該坯體表面的底釉層和附著于該底釉層表面的面釉層，其特征在于，所述面釉層由權(quán)利要求1或2所述的釉面材料形成。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的陶瓷薄板，其中，所述面釉層的厚度為0.05-0. 35毫米。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的陶瓷薄板，其中，所述面釉層的光澤度大于80。
6.根據(jù)權(quán)利要求3-5中任意一項所述的陶瓷薄板，其中，該陶瓷薄板的規(guī)格為 (500-1500)mmX (1500-2500)mmX (3_10)mm。
7.根據(jù)權(quán)利要求3-6中任意一項所述的陶瓷薄板，其中，該陶瓷薄板的厚度為3-7毫米。
8.權(quán)利要求3-7中任意一項所述的陶瓷薄板的制作方法，該方法包括在坯體的表面形成底釉層的步驟和在底釉層的表面形成面釉層的步驟，其特征在于，所述在底釉層的表面形成面釉層的步驟中使用權(quán)利要求1或2所述的釉面材料形成面釉層。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制作方法，其中，在底釉層的表面形成面釉層的方法為全透滾筒印刷和/或鐘罩淋釉。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的制作方法，其中，所述在坯體的表面形成底釉層的步驟還包括在底釉層上形成圖案的操作，優(yōu)選地，形成圖案的方法選自圓網(wǎng)印刷、絲網(wǎng)印刷和輥筒印刷中的一種或多種。
全文摘要
本發(fā)明提供一種釉面材料和陶瓷薄板以及該陶瓷薄板的制作方法。本發(fā)明提供的釉面材料的主要化學(xué)成分的重量百分含量如下SiO272-78％、Al2O36-14％、CaO 5-7％、MgO 0.3-1％、K2O 0.2-1％、Na2O 2-4％、ZnO 0-4％。該釉面材料能夠形成具有高光的透明飾面層，使用該釉面材料制作的陶瓷薄板不但表面光澤度高、產(chǎn)品規(guī)格大，而且制作工藝簡單、成本低。
文檔編號B41F17/00GK102190507SQ201010133000
公開日2011年9月21日 申請日期2010年3月12日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月12日
發(fā)明者劉一軍, 張松竹, 楊曉峰, 汪慶剛, 潘利敏 申請人:廣東蒙娜麗莎陶瓷有限公司