專利名稱：用于從標(biāo)記液體油墨靜電提取色素的自組裝結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本示例實(shí)施方式涉及裝配式結(jié)構(gòu)。它可特別應(yīng)用于從標(biāo)記液體油墨中靜電提取色素，且將在下文具體描述。然而，應(yīng)當(dāng)理解本示例實(shí)施方式還可適用于其它類似的應(yīng)用。
背景技術(shù)：
針對商業(yè)和工業(yè)市場中的高品質(zhì)和高速印刷，已經(jīng)開發(fā)了采用具有懸浮顆粒的液體油墨的數(shù)字印刷工藝。然而，目前的一些印刷頭裝配方案并不適合批量生產(chǎn)，且不具有出色的印刷特性。平面批量生產(chǎn)方法將是特別有益的。該技術(shù)需要能相對彼此精確和均勻定位的輪廓分明的靜電場集中器(尖端)。優(yōu)選地，尖端將具有內(nèi)部結(jié)構(gòu)和總體形狀以優(yōu)化毛細(xì)管力和靜電力。圖IA和IB示意性地顯示了用于從電絕緣液體提取色素的一種已知系統(tǒng)100。在流動液體貯存器104上方略微伸出的導(dǎo)電尖頭或尖端102通過毛細(xì)管力覆蓋了液體106。 帶正電的色素顆粒108(顯示于圖1B)懸浮在該液體內(nèi)。施加于該尖端102上的正脈沖110 將該色素顆粒推向“接地電極” 114，后者從該尖頭或尖端102提取液滴中濃縮的顆粒。此外，已知被稱為CLAW結(jié)構(gòu)的其它結(jié)構(gòu)被發(fā)現(xiàn)可用于光刻制版的圖案化彈簧結(jié)構(gòu)。Fork等人的美國專利6，794，737B2和Smith等人的美國專利5，613，861A均披露了在與下方襯底保持接觸的自升式彈簧指部分位置上形成應(yīng)力平衡層以抵消內(nèi)部應(yīng)力。這些結(jié)構(gòu)基于利用受控垂直應(yīng)力梯度沉積和圖案化金屬層。在被釋放時，這些金屬帶卷起至裝配平面之外。通過濺射、電鍍等各種方法或其組合形成了額外的層。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本示例實(shí)施方式的一個方面，提供了用于與關(guān)聯(lián)的標(biāo)記裝置一起使用的平面裝配式結(jié)構(gòu)，該標(biāo)記裝置選自多種用于在關(guān)聯(lián)襯底上制作標(biāo)記的標(biāo)記裝置類型。該平面裝配式結(jié)構(gòu)包括襯底和自升式彈簧指。該自升式彈簧指包括附著至該襯底的未提升的錨部分。在該襯底上方延伸的釋放部分，且具有近端和遠(yuǎn)端。該遠(yuǎn)端包括可操作為促進(jìn)標(biāo)記液體排出的尖端。在被蝕刻時，該自升式彈簧指的釋放部分提升離開平面。根據(jù)另一方面，提供了用于與關(guān)聯(lián)的標(biāo)記裝置一起使用的平面裝配式結(jié)構(gòu)，該標(biāo)記裝置選自多種用于在關(guān)聯(lián)襯底上制作標(biāo)記的標(biāo)記裝置類型。該平面裝配式結(jié)構(gòu)包括襯底和自升式彈簧指。該自升式彈簧指包括附著至該襯底的未提升的錨部分。在該襯底上方延伸的釋放部分，且具有近端和遠(yuǎn)端。該遠(yuǎn)端包括可操作為促進(jìn)標(biāo)記液體排出的尖端。分層跨越該釋放部分的電絕緣束縛帶。在被蝕刻時，該自升式彈簧指的釋放部分提升離開平面。根據(jù)另一方面，提供了用于與關(guān)聯(lián)的標(biāo)記裝置一起使用的平面裝配式結(jié)構(gòu)，該標(biāo)記裝置選自多種用于在關(guān)聯(lián)襯底上制作標(biāo)記的標(biāo)記裝置類型。該平面裝配式結(jié)構(gòu)包括襯底和多個自升式彈簧指。該多個自升式彈簧指的每一個包括附著至該襯底的未提升的錨部分。在該襯底上方延伸的釋放部分，且具有近端和遠(yuǎn)端。該遠(yuǎn)端包括可操作為促進(jìn)標(biāo)記液體排出的尖端。該多個自升式彈簧指被排列為使尖端聚集。在被蝕刻時，該自升式彈簧指的釋放部分提升離開平面。根據(jù)另一方面，提供了用于與關(guān)聯(lián)的標(biāo)記裝置一起使用的平面裝配式結(jié)構(gòu)，該標(biāo)記裝置選自多種用于在關(guān)聯(lián)襯底上制作標(biāo)記的標(biāo)記裝置類型。該平面裝配式結(jié)構(gòu)包括襯底和多個自升式彈簧指。該多個自升式彈簧指包括附著至該襯底的未提升的錨部分。在該襯底上方延伸的釋放部分，且具有近端和遠(yuǎn)端。該遠(yuǎn)端包括可操作為促進(jìn)標(biāo)記液體排出的尖端。該平面裝配式結(jié)構(gòu)進(jìn)一步包括分層跨越每個自升式彈簧指的釋放部分的電絕緣束縛帶。多個束縛帶行和多個束縛帶列形成了束縛網(wǎng)結(jié)構(gòu)。在被蝕刻時，該自升式彈簧指的釋放部分提升離開平面。至少一個實(shí)施方式的一個優(yōu)點(diǎn)在于減少了濺射(sputter)所需的金屬。這可以通過減少加工時間、材料消耗和預(yù)防性維護(hù)(剝落)的停工期來降低濺射成本。此外，由于可采用更薄的自升式彈簧，發(fā)射銳度(emitter sharpness)變得更為可控，因?yàn)橄啾鹊浊羞M(jìn)展 (undercut evolution)，它更取決于制版。至少一個實(shí)施方式的另一優(yōu)點(diǎn)在于該尖端可被圖案化，以優(yōu)化毛細(xì)管力和靜電力。至少一個實(shí)施方式的另一優(yōu)點(diǎn)是裝配是使用電子手段平面和批量生產(chǎn)的，從而具有低成本、高精度和完整性。至少一個實(shí)施方式的另一個優(yōu)點(diǎn)是該三維結(jié)構(gòu)是自組裝的。至少一個實(shí)施方式的另一個優(yōu)點(diǎn)是束縛網(wǎng)可支持光圈擋板。至少一個實(shí)施方式的另一個優(yōu)點(diǎn)是垂直發(fā)射器可制造為具有可變高度。至少一個實(shí)施方式的另一個優(yōu)點(diǎn)是具有銳利末端的機(jī)械穩(wěn)定發(fā)射器可被批量加工。


圖IA和IB是普通靜電標(biāo)記構(gòu)造的示意圖；圖2A是釋放前的釋放部分結(jié)構(gòu)(包括尖端)的頂視示意圖；圖2B是圖2A所示的釋放部分結(jié)構(gòu)(包括尖端)釋放前的釋放部分結(jié)構(gòu)的側(cè)視示意圖；圖3A是釋放后的釋放部分結(jié)構(gòu)(包括尖端)的頂視示意圖；圖;3B是圖3A所示的釋放部分結(jié)構(gòu)(包括尖端)釋放后的裝配式結(jié)構(gòu)的側(cè)視示意圖；圖4A是具有束縛尖端的裝配式結(jié)構(gòu)的頂視示意圖；圖4B是具有束縛尖端的裝配式結(jié)構(gòu)的側(cè)視示意圖；圖5A是具有聚集尖端的裝配式結(jié)構(gòu)的頂視示意圖；圖5B是具有聚集尖端的裝配式結(jié)構(gòu)的側(cè)視示意圖；圖6A是具有束縛網(wǎng)和支撐的光圈擋板的裝配式結(jié)構(gòu)的頂視示意圖；圖6B是具有束縛網(wǎng)和支撐的光圈擋板的裝配式結(jié)構(gòu)的側(cè)視示意圖；圖7是典型尖端的示意圖；圖8A是圖釋放部分結(jié)構(gòu)(包括尖端)釋放前的釋放部分結(jié)構(gòu)的側(cè)視示意圖；圖8B是釋放部分結(jié)構(gòu)(包括尖端)釋放后的裝配式結(jié)構(gòu)的側(cè)視示意圖9是具有垂直終止部分的指的示意圖。
具體實(shí)施例方式根據(jù)此處描述的實(shí)施方式，平面、批量制造的結(jié)構(gòu)采用精確圖案化的、自組裝特征來定位靜電油墨尖頭或尖端，從而用于合適的標(biāo)記裝置或系統(tǒng)。在一個形式中，一個系統(tǒng)采用具有受控垂直應(yīng)力梯度的單層或多層，以在從襯底釋放時形成三維結(jié)構(gòu)。提出了多種組件，其允許制造不昂貴的、高度集成的、高度功能化的數(shù)字標(biāo)記系統(tǒng)。在一個示范性實(shí)施方式中，圖2A、2B、3A和;3B顯示了一種裝配式結(jié)構(gòu)，其允許以具有成本效益和精確的方式制造尖頭或尖端陣列，以及它們與輔助液體處理結(jié)構(gòu)和電子驅(qū)動器的集成。在至少一種形式中的一個基本概念是使用類CLAW自組裝元件來提供該尖頭或尖端。尖頭或尖端是該類CLAW結(jié)構(gòu)中靠近或?qū)嶋H接觸標(biāo)記表面以沉積凝聚的帶正電色素顆粒的部分。就此而言，圖2A和2B顯示了處于未松弛狀態(tài)的裝配式結(jié)構(gòu)，其在釋放時轉(zhuǎn)化成為圖3A和;3B所示的松弛的三維構(gòu)造。應(yīng)當(dāng)理解，在至少一種形式中，使此處所述的實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)進(jìn)入松弛狀態(tài)的釋放是在蝕刻/制造過程中發(fā)生的。如圖2A和2B所示，在裝配式結(jié)構(gòu)201中顯示了與關(guān)聯(lián)的標(biāo)記裝置一起使用的自升式彈簧指200。應(yīng)當(dāng)理解，該裝配式結(jié)構(gòu)201可與任意適當(dāng)關(guān)聯(lián)的可通過操作促進(jìn)標(biāo)記液體排出的標(biāo)記裝置一起使用。裝配式結(jié)構(gòu)201通常包括襯底206和釋放層212，以及一個或多個包含自升式彈簧指200的層，該自升式彈簧指包括通過支撐墊210附著至襯底206的未提升錨部分208。該裝配式結(jié)構(gòu)進(jìn)一步包括在釋放層212和襯底206上方延伸的釋放部分202。在該釋放層212的至少部分被消耗蝕刻時，該釋放的指松弛內(nèi)部應(yīng)力以形成所需的三維結(jié)構(gòu)。在一個實(shí)施方式中，該自升式彈簧指包括具有內(nèi)置應(yīng)力梯度的金屬，其在釋放時將于該襯底垂直。(最接近襯底的應(yīng)力是壓縮應(yīng)力，而接近頂部表面的應(yīng)力是拉伸應(yīng)力，從而在釋放時，該指通過向上彎曲離開襯底而松弛)。釋放部分202具有在未提升錨部分208 和襯底206邊緣的近端212以及遠(yuǎn)端202T。如圖2B所示，該裝配式結(jié)構(gòu)進(jìn)一步包括在該自升式彈簧指200的錨部分208上的錨墊214。在第二種情況下，該自升式彈簧指200包括非內(nèi)置應(yīng)力梯度金屬和包括內(nèi)置應(yīng)力梯度的覆層部分。圖3A中顯示了在釋放后處于松弛狀態(tài)的自升式彈簧指200。尖端202T延伸出所示的頁面。該尖端202T被相應(yīng)地成形，以促進(jìn)凝聚的帶正電色素顆粒的毛細(xì)管分辨率 (definition)，從而允許油墨或標(biāo)記液體進(jìn)入，例如，靜電提取用于標(biāo)記的著色油墨的裝置。圖;3B顯示了圖3A的剖面圖。用于與關(guān)聯(lián)的標(biāo)記裝置一起使用的裝配式結(jié)構(gòu)201 顯示了在釋放后處于松弛狀態(tài)的自升式彈簧指200的釋放部分202。在另一實(shí)施方式中，圖4A和4B顯示了在結(jié)構(gòu)401中具有束縛尖端的自升式彈簧指400a-c。應(yīng)當(dāng)理解，該裝配式結(jié)構(gòu)401可與任意適當(dāng)關(guān)聯(lián)的可通過操作促進(jìn)標(biāo)記液體排出的標(biāo)記裝置一起使用。圖4A顯示了可與關(guān)聯(lián)的標(biāo)記裝置一起使用的自升式彈簧指 400a-c。該自升式彈簧指400a-c通常包括釋放部分40加-(3。釋放部分40加-(3進(jìn)一步包括遠(yuǎn)端4(Ma-c。該遠(yuǎn)端4(Ma-c形成了尖端組402Ta-Tc。電絕緣束縛帶416橫貫鋪設(shè)并結(jié)合至指400a_c中，并接近釋放部分40加-(3的遠(yuǎn)端4(Ma_c。還顯示了錨部分408a_C。
在至少一種形式中，可通過光刻制版技術(shù)或其它合適的技術(shù)形成尖端402Ta-Tc 的形狀，且該形狀在尖端之間是保持一致。尖端402Ta-Tc的各自高度可在整個襯底上控制彼此間差異在至多+/-5微米內(nèi)，例如+/-3微米內(nèi)，或+/-2微米內(nèi)。通過選擇高度以保持尖端的場濃度恒定。在尖端402Ta_Tc之間的相對距離同樣被配置為是均一的。尖端(例如402Ta_Tc) 之間相對位置的偏差不超過+/-10微米，例如小于約+/-7微米或+/-5微米。根據(jù)此處所述的實(shí)施方式，有效鎖定尖端間距離的有效方式是在尖端之間提供束縛帶416。圖4B顯示了包括自升式彈簧指400a的裝配式結(jié)構(gòu)401的剖面圖。應(yīng)當(dāng)理解，自升式彈簧指400b和400c可被類似地顯示。用于與關(guān)聯(lián)的標(biāo)記裝置一起使用的裝配式結(jié)構(gòu)401顯示了處于未松弛狀態(tài)的具有電絕緣束縛帶416的自升式彈簧指400a，該電絕緣束縛帶416橫貫鋪設(shè)并結(jié)合至指409， 并接近釋放部分40 的遠(yuǎn)端40如。在另一個實(shí)施方式中，圖5A和5B結(jié)合顯示了具有聚集尖端的裝配式結(jié)構(gòu)501。應(yīng)當(dāng)理解，該裝配式結(jié)構(gòu)501可與任意適當(dāng)關(guān)聯(lián)的可通過操作促進(jìn)標(biāo)記液體排出的標(biāo)記裝置一起使用。圖5A顯示了結(jié)構(gòu)501中的自升式彈簧指500a-d。該自升式彈簧指500a_d包括了多個釋放部分502a-d，該釋放部分彼此垂直排列以形成聚集尖端502Ta-Td。圖5B顯示了包括自升式彈簧指500a、500b和500c的裝配式結(jié)構(gòu)501的剖面圖。 用于與關(guān)聯(lián)的標(biāo)記裝置一起使用的裝配式結(jié)構(gòu)501顯示了處于松弛狀態(tài)的自升式彈簧指 500a-c。應(yīng)當(dāng)理解，裝配式結(jié)構(gòu)501將包括為便于參考未被類似地顯示的自升式彈簧指 500d。在一些形式中，需要具有多個尖端(例如502Ta-Td)聚集形成單個毛細(xì)管結(jié)構(gòu)。由單獨(dú)的尖端502Ta-Td構(gòu)成的簇可單獨(dú)定位，從而可進(jìn)行一些液滴控制(drop steering)或數(shù)字灰度噴射。在圖5B中，該聚集的尖端可形成大約90度的彎曲，以滿足下文的方程1 :D = L (1-2/π),其中，D是相鄰的遠(yuǎn)端(例如釋放部分502b的504b和釋放部分502c的504c)之間的距離。圖5A所示的L是彈簧指500d的尖端502Td和彈簧指500d的近端(即，該錨的釋放端)之間的距離。該方程僅在圖5A中的尖端間的距離相對于指長度L是可忽略的 (即，在L非常接近等于錨至未釋放簇的中點(diǎn)的距離)情況下才是精確的。在另一實(shí)施方式中，圖6A和6B顯示了具有束縛網(wǎng)和支撐的光圈擋板(圖6A中未示)的裝配式結(jié)構(gòu)。可按照圖6A和6B所示進(jìn)行對尖端的二維陣列的束縛。圖6A顯示了結(jié)構(gòu)601中自升式彈簧指600a-f和600g-l。分別向這些自升式彈簧指600a_f和600g_l 提供多個束縛條行618和多個束縛條列616以形成束縛網(wǎng)結(jié)構(gòu)。未顯示在兩組束縛之間的消耗性間隔墊。在彈簧釋放前，該消耗性間隔墊被蝕刻，使得兩組束縛可彼此獨(dú)立地自由移動。圖6B顯示了包括自升式彈簧指600a和600b的裝配式結(jié)構(gòu)601的部分剖面圖。應(yīng)當(dāng)理解，該裝配式結(jié)構(gòu)601可與任意適當(dāng)關(guān)聯(lián)的可通過操作促進(jìn)標(biāo)記液體排出的標(biāo)記裝置一起使用。還應(yīng)理解，裝配式結(jié)構(gòu)601還可包括自升式彈簧指600b-c和600e-l，并可被類似地顯示。該裝配式結(jié)構(gòu)601包括分層釋放部分600a和600d的電絕緣束縛帶616、618。還顯示了束縛帶的連接點(diǎn)620。該裝配式結(jié)構(gòu)進(jìn)一步包括，例如，置于該束縛網(wǎng)結(jié)構(gòu)上或在不共面時至少置于上層網(wǎng)結(jié)構(gòu)上的光圈擋板可具有多種形式以配合該標(biāo)記裝置的結(jié)構(gòu)和操作)。該裝配式結(jié)構(gòu)進(jìn)一步包括用于支撐光圈擋板的結(jié)構(gòu)62 (也可具有不同的構(gòu)造)。為便于顯示，圖 6A中未顯示該操作板和支撐結(jié)構(gòu)。當(dāng)尖端釋放時，這些束縛可彼此接觸以通過機(jī)械或通過束縛交叉點(diǎn)的結(jié)合形成聯(lián)鎖結(jié)構(gòu)。應(yīng)當(dāng)理解，在圖2A-8中所述的所有實(shí)施方式中，彈簧指和關(guān)聯(lián)的結(jié)構(gòu)具有基本相同的形式并以基本相同的方式操作(除非另行指明)。可采用硅微型制造過程來制造小規(guī)模的類似結(jié)構(gòu)。優(yōu)選的實(shí)施方式采用玻璃、塑料、印刷電路板或共燒制陶瓷襯底，以及大面積光刻制版或軟刻印過程，及其組合。在另一實(shí)施方式中，圖7顯示了用于自升式彈簧指700的成形尖端。如圖1-6中所述的該自升式彈簧指可包括成形的尖端。該自升式彈簧指700通常包括成形尖端702Ta， 其帶有正電，使得該位于該自升式彈簧指700的釋放部分的遠(yuǎn)端的尖端702TaP保留并排出聚集的帶正電的著色顆粒730。該尖端的形狀包括凸面形狀，例如圓形、三角形、方形、矩形、 平行四邊形、不規(guī)則四邊形、菱形、八邊形、五邊形和六邊形，及其組合物，以及由鋼筆尖頭或尖端示范的內(nèi)曲結(jié)構(gòu)。該尖端202T被相應(yīng)地成形，以促進(jìn)凝聚的帶正電色素顆粒的毛細(xì)管分辨率，從而允許油墨或標(biāo)記液體進(jìn)入，例如，靜電提取用于標(biāo)記的著色油墨的裝置。如上文所述的裝配式結(jié)構(gòu)可被精確地圖案化和自組裝。在另一實(shí)施方式中，相比如前所述的在90度位置呈更圓形的指，優(yōu)選在尖端具有更高垂直度的爪式噴射(clawjet)。這一概念非常簡單，無需附加的掩膜計(jì)數(shù)(mask count) 便可實(shí)現(xiàn)。在濺射過程中，一個實(shí)施方式在應(yīng)力梯度層上應(yīng)用了平衡反力矩負(fù)載層。這允許隨后以極大的半徑生成該彈簧的末端部分?；径螌⒗喂痰貜澢?。在金屬層圖像形成中， 所有的層被蝕刻至釋放層。在釋放階段，釋放窗光刻膠限定了彈簧座，而對末段的額外抗蝕劑可相對單獨(dú)的蝕刻浴保護(hù)該末端，其中該蝕刻浴可在釋放蝕刻前從基段去除反力矩材料。該基段被設(shè)計(jì)為彎曲至90度，此時末段垂直延伸至設(shè)計(jì)的高度。在圖8A和8B中，替代性的方法可包括采用非應(yīng)力層在裝配式結(jié)構(gòu)301中限定自升式彈簧指300。該裝配式結(jié)構(gòu)301可進(jìn)一步包括層350。該層350可包括至少一種應(yīng)力金屬或可用作雙金屬帶的第二金屬(具有內(nèi)置均一應(yīng)力)，其被圖案化以覆蓋自升式彈簧指300中需要彎曲扭矩的位置以提供該扭矩。這一理念允許臨近的尖端具有不同的高度而不具有不同的角度。例如，一種實(shí)施方式可通過調(diào)節(jié)相鄰可變高度發(fā)射器上的電位(potentials)在很大的范圍內(nèi)調(diào)節(jié)滴落尺寸。這一概念可對單段梁(single segment beams)有效，然而，角度和高度都將隨著指長度而變化。就這一點(diǎn)而言，圖9顯示了具有垂直末段的指的結(jié)構(gòu)。該裝配式結(jié)構(gòu)如前文所述， 但包括了加工在彈簧末端以形成垂直段的反力矩層。該垂直末段800通常包括釋放層802、 絕緣層804、自升式彈簧806、反力矩層808、開窗掩膜810、底窗掩膜812和尖端掩膜814。如果需要由制版限定的鋒利尖端終止的用厚板金屬結(jié)構(gòu)性強(qiáng)化的強(qiáng)剛度軸，這可在不添加掩膜數(shù)(例如，仍然為兩層)的情況下實(shí)現(xiàn)。這有望制成出色的場濃縮結(jié)構(gòu)，其可經(jīng)受相當(dāng)大的液體流。彎曲至90度或更大角度的長彈簧易于變得松軟，但鍍層可以硬化該結(jié)構(gòu)。為了避免鈍化發(fā)射器部分，可以尖端之外的任意部分鍍層。近期的進(jìn)展已經(jīng)顯示了如何將應(yīng)力金屬附著至塑料。在此提出制造提升懸臂，其帶有柔軟絕緣體如聚亞胺的底層。如圖9所示， 第一金屬掩膜被用于同時限定直到釋放層的金屬和底部絕緣體。在釋放窗定義中，絕緣抗蝕劑的末端帽被置于尖端上。該帽隨該指提升。該整個結(jié)構(gòu)然后可批量鍍層。鍍層金屬僅到達(dá)該彈簧的基段的頂部和側(cè)面。然后剝除該抗蝕劑，剩余具有帶鋒利尖端的堅(jiān)固、剛性發(fā)射器的結(jié)構(gòu)。如果該底部絕緣體影響該裝置的操作，還可在此時將其從彈簧剝除。盡管已從與任意合適的關(guān)聯(lián)標(biāo)記裝置的使用角度的描述了裝配式結(jié)構(gòu)，還可預(yù)期該結(jié)構(gòu)可用于形成圖IA和IB所示的已知系統(tǒng)100。即，該裝配式結(jié)構(gòu)可適用于改善采用高品質(zhì)和高速印刷的現(xiàn)有技術(shù)。該裝配式方案允許進(jìn)行批量制作并具有出色的印刷特性。這種平面批量制作過程是有益的，因?yàn)楝F(xiàn)有技術(shù)需要能相對彼此精確和均勻定位的輪廓分明的靜電場集中器(尖端)。該裝配式結(jié)構(gòu)可包括尖端，其具有內(nèi)部結(jié)構(gòu)和總體形狀以優(yōu)化毛細(xì)管力和靜電力。就此而言，此處所述的實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)可被用于提供合適地和/或選擇性定位的尖頭或尖端，從而可根據(jù)各種已知技術(shù)提取油墨或色素顆粒。需要理解的是，按需要可將上文中披露的眾多內(nèi)容和其他特征、功能或其替換結(jié)合許多其他系統(tǒng)或應(yīng)用方案。并且，本領(lǐng)域技術(shù)人員隨后可做出的目前未遇見或未預(yù)料到的各種更換、修改、變更或其改進(jìn)也認(rèn)為落入所附權(quán)利要求的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.用于與關(guān)聯(lián)的標(biāo)記裝置一起使用的平面裝配式結(jié)構(gòu)，該標(biāo)記裝置選自多種用于在關(guān)聯(lián)襯底上制作標(biāo)記的標(biāo)記裝置類型，該裝配式結(jié)構(gòu)包括襯底，自升式彈簧指，其包括附著至該襯底的未提升的錨部分；在該襯底上延伸的釋放部分， 其中該釋放部分包括近端和遠(yuǎn)端，該遠(yuǎn)端包括可操作為促進(jìn)標(biāo)記液體排出的尖端，其中在被蝕刻時，該自升式彈簧指的釋放部分提升離開平面。
2.如權(quán)利要求1所述的平面裝配式結(jié)構(gòu)，其中該自升式彈簧指包含了具有內(nèi)置應(yīng)力梯度的金屬。
3.如權(quán)利要求1所述的平面裝配式結(jié)構(gòu)，其中該自升式彈簧指具有覆層部分，該覆層部分包含了具有內(nèi)置應(yīng)力梯度的金屬。
4.如權(quán)利要求1所述的平面裝配式結(jié)構(gòu)，進(jìn)一步包括了在該自升式彈簧指的錨部分上的錨墊。
5.如權(quán)利要求4所述的平面裝配式結(jié)構(gòu)，其中該錨墊包含了具有內(nèi)置應(yīng)力梯度的金屬，其與包含了具有內(nèi)置應(yīng)力梯度的自升式彈簧指相對。
6.用于與關(guān)聯(lián)的標(biāo)記裝置一起使用的平面裝配式結(jié)構(gòu)，該標(biāo)記裝置選自多種用于在關(guān)聯(lián)襯底上制作標(biāo)記的標(biāo)記裝置類型，該裝配式結(jié)構(gòu)包括襯底，自升式彈簧指，其包括附著至該襯底的未提升的錨部分和在該襯底上延伸的釋放部分，其中該釋放部分包括近端和遠(yuǎn)端，該遠(yuǎn)端包括可操作為促進(jìn)標(biāo)記液體排出的尖端，其中在被蝕刻時，該自升式彈簧指的釋放部分提升離開平面；以及分層跨越該釋放部分的電絕緣束縛帶。
全文摘要
提供了可與關(guān)聯(lián)的標(biāo)記裝置一起使用的裝配式結(jié)構(gòu)(fabricated structure)。在一種形式中，該裝配式結(jié)構(gòu)包括了具有用于標(biāo)記的尖端的自升式彈簧指。
文檔編號B41F33/00GK102180002SQ201010620
公開日2011年9月14日 申請日期2010年12月22日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月23日
發(fā)明者史蒂文·A·比勒, 巴布爾·B·哈迪米奧盧, 戴維·K·比格森, 戴維·K·福克, 斯科特·A·埃爾羅德, 理查德·G·斯特恩斯, 約翰·S·菲奇 申請人:施樂公司