專利名稱：平版印刷版用支撐體、平版印刷版用支撐體的制造方法、及平版印刷版原版的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及平版印刷版用支撐體、平版印刷版用支撐體的制造方法、以及平版印刷版原版。
背景技術(shù)：
平版印刷法為利用水和油本質(zhì)上不互混的印刷方式，在用于其的平版印刷版的印刷版面中形成親水且疏油性墨液的區(qū)域(以下將該區(qū)域稱為“非圖像部”。)、和疏水親油性墨液的區(qū)域(以下將該區(qū)域稱為“圖像部”。)。用于平版印刷版中的平板印刷版用鋁支撐體(以下簡稱為“平版印刷版用支撐體”)以在其表面上攜帯非圖像部這樣的方式使用，因此其必須具有許多相反的性質(zhì)一方面具有優(yōu)異的親水性和保水性，另ー方面具有與設(shè)置在其上的圖像記錄層的優(yōu)異的粘附性。如果支撐體的親水性太低，則在印刷時墨液很可能附著于非圖像部，導致橡皮滾筒(blanket cylinder)污染,從而產(chǎn)生所謂的糊版(scumming)。另外,如果支撐體的保水性太低，則在暗調(diào)部分產(chǎn)生堵塞，除非在印刷時增加潤版液的量。因此，所謂的水裕度變窄。為獲得這些性能良好的平版印刷版用支撐體已經(jīng)進行了各種研究。例如，專利文獻I公開了ー種如下制造平版印刷版用支撐體的方法在將粗糙化的鋁板表面進行陽極氧化處理作為第一步驟后，和在比第一步驟中的陽極氧化覆膜的微孔的孔徑減小的條件下再進行陽極氧化處理作為第二步驟，由此制造。其記載了使用該平版印刷版用支撐體獲得的平版印刷版可以在不使脫墨能力劣化的情況下，提高與光敏層的粘附性，不會導致高光部 脫離，耐刷性優(yōu)異。另ー方面，印刷時，有時會使印刷暫停。在這樣的情況下，平版印刷版以被安裝在印版滾筒上的狀態(tài)放置，并且其非圖像部受大氣中污染物的影響等而發(fā)生污染。因此，當使印刷暫停再啟動后時，產(chǎn)生印刷多張紙張直至可進行正常的印刷的需要，從而導致印刷用紙的浪費等不良狀況。已表明這些不良狀況在含有鹽酸的酸性溶液中經(jīng)過實施電化學表面粗化的平版印刷版中非常明顯地發(fā)生。另外，在以下說明中，將當使印刷暫停再啟動時所發(fā)生的耗費的紙張數(shù)用于評價暫停印刷后的脫墨能力，并且當損失紙張數(shù)小時，暫停印刷的脫墨能力評為“良好”。另外，已經(jīng)對近年來取得了重大進展的計算機直接制版(CTP)系統(tǒng)進行了大量研究。其中，將進ー步的エ序合理化和廢液處理問題的解決作為目標，而需要可以在曝光后不用顯影而直接安裝在印刷機上進行印刷的平版印刷版原版。用于取消處理工序的方法之一有被稱為機上顯影的如下方法將已曝光的平版印刷版原版安裝在印刷機的印版滾筒上，并且使印版滾筒旋轉(zhuǎn)的同時供應(yīng)潤版液和墨液，由此除去平版印刷版原版的非圖像部。即，其是如下所述的方式使平版印刷版原版曝光，然后將曝光后的平版印刷版原版直接安裝在印刷機上，在普通印刷工藝中完成顯影處理。適合在這樣的機上顯影中應(yīng)用的平版印刷版原版，其需要具有可溶于潤版液或墨液溶劑的圖像記錄層，并且需要具有適合在置于光室內(nèi)的印刷機上顯影的光室處理性能。另外，在以下說明中，使用達到如下狀態(tài)所需的印刷用紙的張數(shù)來評價機上顯影性，當損失的張數(shù)小吋，機上先硬性評為“良好”，所述狀態(tài)為在未曝光部的印刷機上使機上顯影完成，并且沒有墨液轉(zhuǎn)印到非圖像部的狀態(tài)?，F(xiàn)有技術(shù)文獻專利文獻專利文獻I :日本特開平11-291657號公報

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問題
本發(fā)明者們對使用專利文獻I中具體的記載的平版印刷版用支撐體而得到的平版印刷版及平版印刷用原版的各性能進行研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)暫停印刷的脫墨能力和耐刷性、或機上顯影性和耐刷性存在平衡的關(guān)系，無法兼顧這兩者，實用上未必能夠滿足。進而，還發(fā)現(xiàn)即便對于平版印刷版用支撐體的耐劃傷性也有改良的必要。因此，本發(fā)明鑒于以上情況，其目的在于提供耐劃傷性優(yōu)異的平版印刷版用支撐體、平版印刷版用支撐體的制造方法、及平版印刷版原版，所述平版印刷版用支撐體能夠得到制成平版印刷版時暫停印刷的脫墨能力及耐刷性優(yōu)異、且顯示優(yōu)異的機上顯影性的平版印刷版用原版。用于解決問題的手段本發(fā)明人等為達成上述目的進行精心研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)通過控制陽極氧化覆膜中的微孔的形狀，能夠解決上述問題。gp，本發(fā)明提供以下的⑴ (10)。(I) ー種平版印刷版用支撐體，其特征在于，其具有鋁板、和在該鋁板上的鋁的陽極氧化覆膜，且在該陽極氧化覆膜中具有與從該鋁板的相反側(cè)的表面向深度方向延伸的微孔，該微孔由從陽極氧化覆膜表面延伸至深度5 60nm(深度A)的位置的大直徑孔部、和與該大直徑孔部的底部連通且從連通位置延伸至深度900 2000nm的位置的小直徑孔部構(gòu)成，大直徑孔部的陽極氧化覆膜表面的平均直徑為10 60nm，該平均直徑和深度A滿足(深度A/平均直徑)=O. I 4. O的關(guān)系，小直徑孔部的該連通位置的平均直徑為大于O且不足20nm，該大直徑孔部的平均直徑與該小直徑孔部的平均直徑之比(小直徑孔部徑/大直徑孔部徑)為O. 85以下。(2)如(I)所述的平版印刷版用支撐體，其中，上述大直徑孔部的平均直徑為10 50nmo(3)如⑴或⑵所述的平版印刷版用支撐體，其中，上述深度A為10 50nm。(4)如⑴ ⑶中任一項所述的平版印刷版用支撐體，其中，上述(深度A/平均直徑)的值為O. 30以上且不足3. O。(5)如⑴ (4)中任一項所述的平版印刷版用支撐體，其中，上述微孔的密度為100 3000 個/μ m2。(6) ー種平版印刷版用支撐體的制造方法，其為制造(I) (5)中任一項所述的平版印刷版用支撐體的方法，其具備如下エ序?qū)︿X板進行陽極氧化的第一陽極氧化處理工序，使具有上述第一陽極氧化處理工序中得到的陽極氧化覆膜的鋁板與酸水溶液或堿水溶液接觸，并使該陽極氧化覆膜中的微孔的直徑擴大的擴孔處理工序，以及對上述擴孔處理工序得到的鋁板進行陽極氧化的第二陽極氧化處理工序。(7)如(6)所述的平版印刷版用支撐體的制造方法，其中，上述第一陽極氧化處理エ序中得到的陽極氧化覆膜的厚度(覆膜厚度I)、和上述第二陽極氧化處理工序中得到的陽極氧化覆膜的厚度(覆膜厚度2)之比(覆膜厚度I/覆膜厚度2)為O. 01 O. 15。(8)如(6)或(7)所述的平版印刷版用支撐體的制造方法，其中，上述第二陽極氧·化處理工序中得到的陽極氧化覆膜的厚度為900 2000nm。(9) ー種平版印刷版原版，其特征在于，其在⑴ (5)中任一項所述的平版印刷版用支撐體上具有圖像記錄層。(10)如(9)所述的平版印刷版原版，上述圖像記錄層為通過曝光形成圖像，且非曝光部可通過印刷墨液和/或潤版液(fountain solution)除去的圖像記錄層。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明，可以提供能夠得到暫停印刷的脫墨能力、耐刷性優(yōu)異的平版印刷版的耐劃傷性優(yōu)異的平版印刷版用支撐體及其制造方法、以及使用了其的平版印刷版原版。另外，機上顯影型的平版印刷版中，能夠維持機上顯影性，同時提高耐刷性。


圖I為本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的ー實施方式的示意性剖面圖。圖2為按エ序順序示出本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的制造方法的基板及陽極氧化覆膜的示意性剖面圖。圖3為表示本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的制造方法中的用于電化學表面粗化處理的交變波形電流波形圖的一例圖。圖4為表示本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的制造方法中的使用交流的電化學表面粗化處理中的徑向池的一例的側(cè)視圖。圖5為表示本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的制作中的用于機械表面粗化處理的刷拭磨版的エ序的側(cè)視圖。圖6為本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的制作中的用于陽極氧化處理的陽極氧化處理裝置的概略圖。
具體實施例方式以下對本發(fā)明的平版印刷版用支撐體、及其制造方法進行說明。本發(fā)明的平版印刷版用支撐體包括鋁板和在該鋁板上形成的陽極氧化覆膜，陽極氧化覆膜中的微孔具有平均直徑較大的大直徑孔部和平均直徑較小的小直徑孔部沿著深度方向(覆膜的厚度方向)連結(jié)構(gòu)成的形狀。特別是在本發(fā)明中，通過控制微孔中的平均直徑較大的大直徑孔部的深度，可以更高水平兼顧被稱為平衡關(guān)系的暫停印刷的脫墨能力和耐刷性、或機上顯影性和耐刷性的關(guān)系。圖I為本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的ー實施方式的示意性剖面圖。該圖所示的平版印刷版用支撐體10具有將鋁板12和鋁的陽極氧化覆膜14按順序?qū)盈B而成的層疊結(jié)構(gòu)。陽極氧化覆膜14具有由其表面朝向鋁板12側(cè)延伸的微孔16，微孔16由大直徑孔部18和小直徑孔部20構(gòu)成。首先，對鋁板12及陽極氧化覆膜14進行詳述。< 鋁板 >用于本發(fā)明的鋁板12(鋁支撐體)為尺寸穩(wěn)定的以鋁為主要成分的金屬，由鋁或 鋁合金構(gòu)成。除了純鋁板之外，還可以從含有以鋁為主要成分且包含微量的雜元素的合金板、或鋁(合金)被層壓或者蒸鍍后的塑料薄膜、或鋁(合金)被層壓或者蒸鍍后的紙中選擇。進而，也可以是如日本特公昭48-18327號公報記載的那樣在聚對苯ニ甲酸こニ醇酷薄膜上結(jié)合鋁片而成的復合體片。在以下的說明中，將由上述舉出的鋁或鋁合金構(gòu)成的板總稱為鋁板12。上述鋁合金中所含的雜元素有娃、鐵、猛、銅、鎂、鉻、鋅、秘、鎳、鈦等，合金中的雜元素的含量為10質(zhì)量％以下。本發(fā)明中，純鋁板雖是優(yōu)選，但完全純粹的鋁在這冶煉技術(shù)上制造困難，所以可以是稍微含有雜元素的鋁板。這樣ー來，應(yīng)用于本發(fā)明的鋁板12其組成沒有限定，可以適當利用以往公知公用的素材的鋁板、例如JISA1050、JISA1100、JISA3103、JISA3005等。另外，用于本發(fā)明的鋁板12通常邊以網(wǎng)狀連續(xù)移動邊處理，其寬度為400mm 2000mm左右、厚度約為O. Imm O. 6mm左右。該寬度、厚度可以通過印刷機的尺寸、印刷版的大小及用戶的要求而適當改變?？梢詫︿X板適當實施后述的基板表面處理。〈陽極氧化覆膜〉陽極氧化覆膜14是指如下的陽極氧化鋁覆膜通常通過陽極氧化處理在鋁板12的表面制作、且具有與覆膜表面垂直的各自均勻分布的極微細的微孔16。該微孔16從與鋁板12相反側(cè)的陽極氧化覆膜表面沿厚度方向(鋁板12側(cè))延伸。陽極氧化覆膜14中的微孔16由從陽極氧化覆膜表面延伸至深度5 60nm(深度A :參照圖I)的位置的大直徑孔部18、和與該大直徑孔部18的底部連通、且從連通位置進ー步延伸至深度900 2000nm的位置的小直徑孔部20構(gòu)成。以下對大直徑孔部18和小直徑孔部20進行詳述。(大直徑孔部)大直徑孔部18的陽極氧化覆膜表面中的平均直徑(平均開ロ直徑)為10 60nm。若為該范圍，則可實現(xiàn)使用該平版印刷版用支撐體得到的平版印刷版的優(yōu)異的耐刷性、暫停印刷的脫墨能力、及實現(xiàn)使用該支撐體得到的平版印刷版原版的優(yōu)異的機上顯影性。從使用該平版印刷版用支撐體得到的平版印刷版的耐刷性更優(yōu)異的觀點出發(fā)，平均直徑優(yōu)選為10 50nm,更優(yōu)選為15 50nm,進一步優(yōu)選為20 50nm。在平均直徑不足IOnm的情況下，無法得到充分的錨固效果，且無法得到平版印刷版的耐刷性提高。另外，平均直徑超過60nm的情況下，會破壞表面粗化的砂目，無法得到耐刷性或暫停印刷的脫墨能力等各種性能的提高。
大直徑孔部18的平均直徑為，用倍率15萬倍的FE-SEM對陽極氧化覆膜14表面觀察N = 4張，在得到的4張圖像中，測定存在于400X600nm2的范圍的微孔(大直徑孔部)的直徑，取其平均的值。需要說明的是，大直徑孔部18的形狀不是圓形的情況，使用圓當量直徑?！皥A當量直徑”是指將開ロ部的形狀假定為與開ロ部的投影面積具有相同投影面積的圓時的該圓的直徑。大直徑孔部18的底部位于距陽極氧化覆膜表面的深度5 60nm(以后也稱為深度A)。也就是說，大直徑孔部18為從陽極氧化覆膜表面向深度方向(厚度方向)延伸5 60nm的孔部。從使用該平版印刷版用支撐體得到的平版印刷版的耐刷性、暫停印刷的脫墨能力、及使用該支撐體得到的平版印刷版原版的機上顯影性更優(yōu)異的觀點出發(fā)，深度優(yōu)選為 10 50nm。深度不足5nm的情況下，無法得到充分的錨固效果，且無法得到平版印刷版的耐刷性提高。深度超過60nm的情況下，平版印刷版的暫停印刷的脫墨能力和平版印刷版原版的機上顯影性劣化。需要說明的是，上述深度為拍攝陽極氧化覆膜14的剖面的照片(15萬倍)，測定25個以上的大直徑孔部的深度，取其平均的值。大直徑孔部18的平均直徑與位于其底部的深度A的關(guān)系(深度A/平均直徑)滿足O. I 4. O的關(guān)系。從使用該平版印刷版用支撐體得到的平版印刷版的耐刷性、暫停印刷的脫墨能力、及使用該支撐體得到的平版印刷版原版的機上顯影性更優(yōu)異的觀點出發(fā)，(深度A/平均直徑)優(yōu)選為O. 3以上且不足3. O,更優(yōu)選為O. 3以上且不足2. 5。(深度A/平均直徑)不足O.I的情況下，無法得到平版印刷版的耐刷性提高。(深度A/平均直徑)超過4. O的情況下，平版印刷版的暫停印刷的脫墨能力和平版印刷版原版的機上顯影性劣化。大直徑孔部18的形狀沒有特別限定，可舉出大致直管狀(大致圓柱狀)、朝深度方向(厚度方向)直徑變小的圓錐狀等，優(yōu)選大致直管狀。另外，大直徑孔部18的底部的形狀沒有特別限定，可以是曲面狀(凸狀)，也可以是平面狀。
大直徑孔部18的內(nèi)徑?jīng)]有特別限定，通常為與開ロ部的直徑相同程度的大小或或小于開ロ部的直徑。需要說明的是，大直徑孔部18的內(nèi)徑通常與開ロ部的直徑相比，可以具有I IOnm左右的差值。(小直徑孔部)如圖I所示，小直徑孔部20為與大直徑孔部18的底部連通，且從連通位置進ー步延伸到深度方向(厚度方向)的孔部。ー個小直徑孔部20通常與ー個大直徑孔部18連通，但2個以上的小直徑孔部20也可以與ー個大直徑孔部18的底部連通。小直徑孔部20的連通位置中的平均直徑為大于O且不足20nm。從暫停印刷的脫墨能力、機上顯影性的觀點出發(fā)，平均直徑優(yōu)選為15nm以下，更優(yōu)選為13nm以下，特別優(yōu)選為5 IOnm0平均直徑為20nm以上的情況下，使用本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的平版印刷版的暫停印刷的脫墨能力、平版印刷版原版的機上顯影性劣化。小直徑孔部20的平均直徑為用倍率15萬倍的FE-SEM對陽極氧化覆膜14表面觀察N = 4張，在得到的4張圖像中，測定存在于400X600nm2的范圍的微孔(小直徑孔部)的直徑，取其平均的值。需要說明的是，大直徑孔部的深度深時，可以根據(jù)需要，對陽極氧化覆膜14上部(有大直徑孔部的區(qū)域)進行切削(例如利用氬氣切削)，然后用上述FE-SEM對陽極氧化覆膜14表面進行觀察，求出小直徑孔部的平均直徑。需要說明的是，小直徑孔部20的形狀不是圓形的情況下，使用圓當量直徑?！皥A當量直徑”是指將開ロ部的形狀假定為與開ロ部的投影面積具有相同投影面積的圓時的該圓的直徑。小直徑孔部20的底部位于從與上述的大直徑孔部18的連通位置(相當于上述的深度A)進ー步沿深度方向延伸900 2000nm的部位。換言之，小直徑孔部20是從與上述大直徑孔部18的連通位置進ー步延伸至深度方向(厚度方向)的孔部，小直徑孔部20的長度為900 2000nm。從平版印刷版用支撐體的耐劃傷性的觀點出發(fā)，底部優(yōu)選位于從連
通位置延伸900 1500nm的位置。深度不足900nm的情況下，平版印刷版用支撐體的耐劃傷性劣化。深度超過2000nm的情況下，處理時間長，生產(chǎn)率及經(jīng)濟性差。需要說明的是，上述深度為拍攝陽極氧化覆膜14的剖面的照片(5萬倍)，測定25個以上的小直徑孔部的深度，取其平均的值。小直徑孔部20的連通位置中的平均直徑與大直徑孔部18的陽極氧化覆膜表面中的平均直徑之比(小直徑孔部徑/大直徑孔部徑)為O. 85以下。作為該比的下限超過0，優(yōu)選為O. 02 O. 85，更優(yōu)選為O. I O. 70。如果為上述范圍內(nèi)，則耐刷性、暫停印刷的脫墨能力、及機上顯影性更優(yōu)異。若平均直徑之比超過O. 85，則從不能兼顧耐刷性與暫停印刷污染性/機上顯影性方面考慮，是差的。小直徑孔部20的形狀沒有特別限定，可舉出大致直管狀(大致圓柱狀)、朝著深度方向直徑變小的圓錐狀等，優(yōu)選為大致直管狀。另外，小直徑孔部20的底部的形狀沒有特另IJ限定，可以是曲面狀(凸狀)，也可以是平面狀。小直徑孔部20的內(nèi)徑?jīng)]有特別限定，通常為與連通位置中的直徑相同程度的大小、或可以比該徑小也可以比該直徑大。需要說明的是，小直徑孔部20的內(nèi)徑通常與開ロ部的直徑相比可以具有I IOnm左右的差值。陽極氧化覆膜14中的微孔16的密度沒有特別限定，從得到的平版印刷版的耐刷性及暫停印刷的脫墨能力、以及平版印刷版原版的機上顯影性優(yōu)異的觀點出發(fā)，優(yōu)選為50 4000個/ μ m2，更優(yōu)選為100 3000個/ μ m2。陽極氧化覆膜14的覆膜量沒有特別限定，從平版印刷版用支撐體的耐劃傷性優(yōu)異的觀點出發(fā)，優(yōu)選為2. 3 5. 5g/m2,更優(yōu)選為2. 3 4. Og/m2。需要說明的是，上述的平版印刷版用支撐體的表面可以設(shè)置后述的圖像記錄層，作為平版印刷用原版使用。<平版印刷版用支撐體的制造方法>以下對本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的制造方法進行說明。本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的制造方法沒有特別限定，優(yōu)選按照以下的エ序?qū)嵤┑闹圃旆椒ā?br> (表面粗化處理工序)對鋁板實施表面粗化處理的エ序(第一陽極氧化處理工序)對表面粗化處理后的鋁板進行陽極氧化的エ序(擴孔處理工序)使第一陽極氧化處理工序中得到的具有陽極氧化覆膜的鋁板與酸水溶液或堿水溶液接觸，并使該陽極氧化覆膜中的微孔的直徑擴大的エ序(第二陽極氧化處理工序)對擴孔處理工序得到的鋁板進行陽極氧化的エ序(親水化處理工序)對第二陽極氧化處理工序中得到的鋁板實施親水化處理的エ序以下對上述各エ序進行詳述。需要說明的是，表面粗化處理工序及親水化處理工 序在發(fā)明的效果上，如果不需要也可以不實施。另外，圖2表示按照從第一陽極氧化處理工序到第二陽極氧化處理工序的順序示出的基板及陽極氧化覆膜的示意性剖面圖。<表面粗化處理工序>表面粗化處理工序是對上述的鋁板的表面實施含有電化學表面粗化處理的表面粗化處理的エ序。該エ序雖然優(yōu)選在后述的第一陽極氧化處理工序前實施，但鋁板的表面如果已經(jīng)具有優(yōu)選的表面形狀，則尤其是可以不實施。表面粗化處理可以僅實施電化學表面粗化處理，但也可以組合實施電化學表面粗化處理與機械的表面粗化處理和/或化學的表面粗化處理。組合機械的表面粗化處理與電化學表面粗化處理的情況下，優(yōu)選在機械的表面粗化處理后，實施電化學表面粗化處理。本發(fā)明中，電化學表面粗化處理優(yōu)選在硝酸或鹽酸的水溶液中實施。機械的表面粗化處理通常以鋁板的表面為表面粗糙度Ra :0. 35 I. O μ m的目標來實施。本發(fā)明中，機械的表面粗化處理的各條件沒有特別限定，例如可以按照日本特公昭50-40047號公報記載的方法實施。機械的表面粗化處理可以通過使用浮石懸池液的刷拭磨版處理實施、或者以轉(zhuǎn)印方式實施。另外，化學的表面粗化處理也沒有特別限定，可以按照公知的方法實施。在機械的表面粗化處理后，優(yōu)選實施以下的化學蝕刻處理。在機械的表面粗化處理后實施的化學蝕刻處理是為了使鋁板的表面的凹凸形狀的邊緣部分平滑、且防止印刷時的墨液的潑濺，提高平版印刷版的耐汚性，同時除去表面殘留的研磨材粒子等不需要物而實施的。作為化學蝕刻處理,雖然已知有基于酸的蝕刻或基于堿的蝕刻,但從蝕刻效率的觀點出發(fā)，作為特別優(yōu)異的方法，可舉出使用堿溶液的化學蝕刻處理(以下也稱為“堿蝕刻處理”。)。用于堿溶液的堿劑沒有特別限定，可優(yōu)選舉出例如苛性鈉、苛性鉀、偏硅酸鈉、碳酸鈉、鋁酸鈉、葡糖酸鈉等。另外，各堿劑可以含有鋁離子。堿溶液的濃度優(yōu)選為O. 01質(zhì)量％以上，更優(yōu)選為3質(zhì)量％以上,另外,優(yōu)選為30質(zhì)量％以下，更優(yōu)選為25質(zhì)量％以下。進而，堿溶液的溫度優(yōu)選為室溫以上，更優(yōu)選為30°C以上，優(yōu)選為80°C以下，更優(yōu)選為75°C以下。蝕刻量優(yōu)選為O. lg/m2以上，更優(yōu)選為lg/m2以上，另外，優(yōu)選為20g/m2以下，更優(yōu)選為10g/m2以下。另外，處理時間對應(yīng)于蝕刻量優(yōu)選為2秒 5分鐘，從生產(chǎn)率提高的觀點出發(fā)，更優(yōu)選為2 10秒。本發(fā)明中，在機械的表面粗化處理后實施堿蝕刻處理的情況下，為了除去通過堿蝕刻處理產(chǎn)生的產(chǎn)物，而優(yōu)選使用低溫的酸性溶液實施化學蝕刻處理(以下也稱為“去污(desmutting)處理”。)。用于酸性溶液的酸沒有特別 限定，可舉出例如硫酸、硝酸、鹽酸。酸性溶液的濃度優(yōu)選為I 50質(zhì)量％。另外，酸性溶液的溫度優(yōu)選為20 80°C。若酸性溶液的濃度及溫度為該范圍，則使用本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的平版印刷版的耐泡狀污染性進ー步提聞。本發(fā)明中，上述表面粗化處理雖然為在根據(jù)需要實施機械的表面粗化處理及化學蝕刻處理后實施電化學表面粗化處理的處理，但在不進行機械的表面粗化處理而實施電化學表面粗化處理時，也可以在電化學表面粗化處理前使用苛性鈉等堿水溶液實施化學蝕刻處理。由此，可以除去存在于鋁板的表面附近的雜質(zhì)等。電化學表面粗化處理由于對鋁板的表面賦予微細的凹凸(凹痕)是容易的，所以適于制作印刷性優(yōu)異的平版印刷版。電化學表面粗化處理在以硝酸或鹽酸為主體的水溶液中使用電或交流電進行。另外，在電化學表面粗化處理后，優(yōu)選進行以下的化學蝕刻處理。在電化學表面粗化處理后的鋁板的表面存在有污物、金屬間化合物。電化學表面粗化處理后進行的化學蝕刻處理中，特別是為了有效除去污物，首先優(yōu)選使用堿溶液進行化學蝕刻處理(堿蝕刻處理)。使用堿溶液的化學蝕刻處理的各條件優(yōu)選處理溫度為20 80°C，另外，處理時間優(yōu)選為I 60秒。另外，優(yōu)選堿溶液中含有鋁離子。進而，在電化學表面粗化處理后實施使用堿溶液的化學蝕刻處理后，為了除去由此產(chǎn)生的產(chǎn)物，優(yōu)選使用低溫的酸性溶液進行化學蝕刻處理(去污處理)。另外，在電化學表面粗化處理后不進行堿蝕刻處理的情況下，為了有效除去污物，而優(yōu)選去污處理。本發(fā)明中，上述的化學蝕刻處理可以通過任意的浸潰法、噴淋法、涂布法等進行，沒有特別限定?！吹谝魂枠O氧化處理工序〉第一陽極氧化處理工序為通過對實施了上述表面粗化處理的鋁板實施陽極氧化處理，由此在該鋁板表面形成具有沿深度方向(厚度方向)延伸的微孔的鋁的氧化覆膜的エ序。如圖2(A)所示，通過該第一陽極氧化處理，在鋁板12的表面形成具有微孔16a的鋁的陽極氧化覆膜14a。第一陽極氧化處理可以通過本領(lǐng)域中一直以來進行的方法來實施，以能最終形成上述的微孔16的方式設(shè)定適當制造條件。具體而言，第一陽極氧化處理工序中形成的微孔16a的平均直徑(平均開口徑)通常為4 14nm左右，優(yōu)選為5 10nm。若為上述范圍內(nèi)，則容易形成上述的具有規(guī)定的形狀的微孔16，得到的平版印刷版及平版印刷版原版的性能更優(yōu)異。另外，微孔16a的深度通常為IOnm以上且不足IOOnm左右，優(yōu)選為20 60nm。若為上述范圍內(nèi)，容易形成上述的具有規(guī)定的形狀的微孔16，得到的平版印刷版及平版印刷版原版的性能更優(yōu)異。微孔16a的孔隙密度沒有特別限定，孔隙密度優(yōu)選為50 4000個/ μ m2，更優(yōu)選為100 3000個/μπι2。若為上述范圍內(nèi)，則得到的平版印刷版的耐刷性及暫停印刷的脫墨能力、以及平版印刷版原版的機上顯影性優(yōu)異。另外，通過第一陽極氧化處理工序得到的陽極氧化覆膜的膜厚優(yōu)選為35 120nm,更優(yōu)選為40 90nm。若為上述范圍內(nèi)，則使用經(jīng)該エ序得到的平版印刷版用支撐體的平版印刷版的耐刷性及暫停印刷的脫墨能力、以及平版印刷版原版的機上顯影性優(yōu)異。進而，通過第一陽極氧化處理工序得到的陽極氧化覆膜的覆膜量優(yōu)選為O. I O. 3g/m2，更優(yōu)選為O. 12 O. 25g/m2。若為上述范圍內(nèi)，則使用經(jīng)該エ序得到的平版印刷版用支撐體的平版印刷版的耐刷性及暫停印刷的脫墨能力、以及版印刷版原版的機上顯影性優(yōu)異。第一陽極氧化處理工序中，可以使用硫酸、磷酸、草酸等水溶液作為主要電解浴。根據(jù)場合，也可以使用鉻酸、氨基磺酸、苯磺酸等或組合這ニ種以上而成的水溶液或非水溶液。在如上所述的電解浴中如果向鋁板通過直流電或交流電，則可以在鋁板表面形成陽極
氧化覆膜。需要說明的是，電解浴也可以含有鋁離子。鋁離子的含量沒有特別限定，優(yōu)選為I 10g/L。陽極氧化處理的條件根據(jù)所使用的電解液而適當設(shè)定，通常，電解液的濃度為I 80質(zhì)量％ (優(yōu)選5 20質(zhì)量％ )、液溫為5 70°C (優(yōu)選10 60°C )、電流密度為O. 5 60A/dm2 (優(yōu)選5 50A/dm2)、電壓為I 100V (優(yōu)選5 50V)、電解時間為I 100秒(優(yōu)選5 60秒)的范圍為合適。這些陽極氧化處理中，尤其優(yōu)選在英國專利第1，412，768號說明書中記載的硫酸中以高電流密度進行陽極氧化的方法?！磾U孔處理工序〉擴孔處理工序為使通過上述的第一陽極氧化處理工序形成的存在于陽極氧化覆膜的微孔的直徑(孔徑)擴大的處理(孔徑擴大處理)。通過該擴孔處理，如圖2(B)所示，微孔16a的直徑被擴大，形成具有含有更大的平均直徑的微孔16b的陽極氧化覆膜14b。通過該擴孔處理,微孔16b的平均直徑擴大至10 60nm(優(yōu)選10 50nm)的范圍。需要說明的是，該微孔16b成為相當于上述的大直徑孔部18的部分。另外，優(yōu)選通過該處理來調(diào)整距離微孔16b的表面的深度以使與上述的深度A相同。擴孔處理通過使利用上述的第一陽極氧化處理工序得到的鋁板與酸水溶液或堿 水溶液接觸來進行。使其接觸的方法沒有特別限定，可舉出例如浸潰法、噴淋法。其中，優(yōu)選浸潰法。擴孔處理工序中使用堿水溶液的情況下，優(yōu)選使用選自氫氧化鈉、氫氧化鉀、及氫氧化鋰中至少ー種的堿水溶液。堿水溶液的濃度優(yōu)選為O. I 5質(zhì)量％。需要說明的是，將堿水溶液的pH調(diào)整到11 13后，在10 70°C (優(yōu)選20 500C )的條件下，使鋁板與堿水溶液接觸I 300秒(優(yōu)選I 50秒)是合適的。
此時，堿處理液中還可以含有碳酸鹽、硼酸鹽、磷酸鹽等多元弱酸的金屬鹽。擴孔處理工序中使用酸水溶液的情況下，優(yōu)選使用硫酸、磷酸、硝酸、鹽酸等無機酸或這些的混合物的水溶液。酸水溶液的濃度優(yōu)選為I 80質(zhì)量％，更優(yōu)選為5 50質(zhì)量％。需要說明的是，在酸水溶液的液溫5 70°C (優(yōu)選10 60°C )的條件下，使鋁板與酸水溶液接觸I 300秒(優(yōu)選I 150秒)是合適的。需要說明的是，堿水溶液或酸水溶液中可以含有鋁離子。鋁離子的含量沒有特別限定，優(yōu)選為I 10g/Lo 〈第二陽極氧化處理工序〉第二陽極氧化處理工序為通過對實施了上述擴孔處理的鋁板實施陽極氧化處理，形成向更深度方向(厚度方向)延伸的微孔的エ序。如圖2(C)所示，通過該第二陽極氧化處理工序，形成具有向深度方向延伸的微孔16c的陽極氧化覆膜14c。通過該第二陽極氧化處理工序，形成與擴大了平均直徑的微孔16b的底部連通、且平均直徑比微孔16b(相當于大直徑孔部18)的平均直徑小的從連通位置向深度方向延伸的新的孔部。該孔部相當于上述的小直徑孔部20。第二陽極氧化處理工序中，新形成的孔部的平均直徑為大于O且不足20nm，以從與大直徑孔部20的連通位置的深度為上述規(guī)定范圍的方式實施處理。需要說明的是，處理所使用的電解浴與上述第一陽極氧化處理工序相同，作為處理條件，根據(jù)所使用的材料而適當設(shè)定。陽極氧化處理的條件雖然可根據(jù)所使用的電解液而適當設(shè)定，通常電解液的濃度為I 80質(zhì)量％ (優(yōu)選5 20質(zhì)量％ )、液溫為5 70°C (優(yōu)選10 60°C )、電流密度為O. 5 60A/dm2 (優(yōu)選I 30A/dm2)、電壓為I 100V (優(yōu)選5 50V)、電解時間為I 100秒(優(yōu)選5 60秒)的范圍是合適的。通過第二陽極氧化處理工序得到的陽極氧化覆膜的膜厚，通常為900 2000nm，優(yōu)選為900 1500nm。若為上述范圍內(nèi)，則使用經(jīng)該エ序得到的平版印刷版用支撐體的平版印刷版的耐刷性及暫停印刷的脫墨能力、以及平版印刷版原版的機上顯影性優(yōu)異。另外，通過第二陽極氧化處理工序得到的陽極氧化覆膜的覆膜量通常為2. 2 5. 4g/m2，優(yōu)選2. 2 4. Og/m2。若為上述范圍內(nèi)，則使用經(jīng)該エ序得到的平版印刷版用支撐體的平版印刷版的耐刷性及暫停印刷的脫墨能力、以及平版印刷版原版的機上顯影性優(yōu)
巳升。通過第一陽極氧化處理工序得到的陽極氧化覆膜的厚度(覆膜厚度I)與通過第ニ陽極氧化處理工序得到的陽極氧化覆膜的厚度(覆膜厚度2)之比(覆膜厚度I/覆膜厚度2)優(yōu)選為O. 01 O. 15，更優(yōu)選為O. 02 O. 10。若為上述范圍內(nèi)，則平版印刷版用支撐體的耐劃傷性優(yōu)異。<親水化處理工序>本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的制造方法可以具有在上述的第二陽極氧化處理エ序后實施親水化處理的親水化處理工序。需要說明的是，作為親水化處理，可使用日本特開2005-254638號公報的段落

公開的公知的方法。需要說明的是，優(yōu)選通過浸潰于硅酸鈉、硅酸鉀等堿金屬硅酸鹽的水溶液中的方法、涂布親水性こ烯基聚合物或親水性化合物使其形成親水性的底涂層的方法等進行親水化處理。基于硅酸鈉、硅酸鉀等堿金屬硅酸鹽的水溶液的親水化處理可以按照美國專利第2，714，066號說明書及美國專利第3，181，461號說明書記載的方法及順序來進行。另ー方面，作為本發(fā)明的平版印刷版用支撐體，優(yōu)選對上述的鋁板，以以下所示的順序?qū)嵤┮韵碌腁方式或B方式所示的各處理得到的平版印刷版用支撐體，從耐刷性的觀點出發(fā)，特別優(yōu)選A方式。需要說明的是，以下的各處理之間優(yōu)選進行水洗。其中，在連續(xù)進行的2個エ序(處理)使用相同的組成的溶液是可以 省略水洗。(A 方式)(2)在堿水溶液中進行化學蝕刻處理(第I堿蝕刻處理)(3)在酸性水溶液中進行化學蝕刻處理(第I去污處理)(4)在以硝酸為主體的水溶液中進行電化學表面粗化處理(第I電化學表面粗化處理)(5)在堿水溶液中進行化學蝕刻處理(第2堿蝕刻處理)(6)在酸性水溶液中進行化學蝕刻處理(第2去污處理)(7)在以鹽酸為主體的水溶液中進行電化學表面粗化處理(第2電化學表面粗化處理)(8)在堿水溶液中進行化學蝕刻處理(第3堿蝕刻處理)(9)在酸性水溶液中進行化學蝕刻處理(第3去污處理)(10)陽極氧化處理(第一陽極氧化處理及第ニ陽極氧化處理)(11)親水化處理(B 方式)(2)在堿水溶液中進行化學蝕刻處理(第I堿蝕刻處理)(3)在酸性水溶液中進行化學蝕刻處理(第I去污處理)(12)在以鹽酸為主體的水溶液中進行電化學表面粗化處理(5)在堿水溶液中進行化學蝕刻處理(第2堿蝕刻處理)(6)在酸性水溶液中進行化學蝕刻處理(第2去污處理)(10)陽極氧化處理(第一陽極氧化處理及第ニ陽極氧化處理)(11)親水化處理需要說明的是，在上述A方式及B方式的(2)的處理前，可以根據(jù)需要實施(I)機械的表面粗化處理。需要說明的是，從耐刷性等的觀點出發(fā)，優(yōu)選各方式中不含有該(I)的處理。在此，上述(I) (12)中的機械的表面粗化處理、電化學表面粗化處理、化學蝕刻處理、陽極氧化處理及親水化處理可以用與上述的處理方法、條件同樣的方法來進行，優(yōu)選在以下說明的處理方法、條件下實施。機械的表面粗化處理優(yōu)選用毛徑為O. 2 I. 61mm的旋轉(zhuǎn)的尼龍刷滾、供給到鋁板表面的漿液進行機械的表面粗化處理。作為研磨劑可使用公知的物質(zhì)，優(yōu)選硅砂、石英、氫氧化鋁或這些的混合物。漿液的比重優(yōu)選為I. 05 I. 3。當然也可以采用吹附漿液的方式、使用線刷的方式、將帶凹凸的壓延輥的表面形狀轉(zhuǎn)印到鋁板的方式等。用于堿水溶液中的化學蝕刻處理的堿水溶液的濃度優(yōu)選為I 30質(zhì)量％，鋁及鋁合金中含有的合金成分可以含有O 10質(zhì)量％。作為堿水溶液，特別優(yōu)選以苛性鈉為主體的水溶液。液溫優(yōu)選在常溫 95°C，處理I 120秒鐘。為了在蝕刻處理結(jié)束后不將處理液帶入到下ーエ序中，而優(yōu)選實施利用夾持輥進行的處理液的移除和利用噴淋進行的水洗。第I堿蝕刻處理中的鋁板的溶解量優(yōu)選為O. 5 30g/m2，更優(yōu)選為I. O 20g/m2，進一步優(yōu)選為3. O 15g/m2。第2堿蝕刻處理中的鋁板的溶解量優(yōu)選為O. 001 30g/m2，更優(yōu)選為O. I 4g/m2,進一步優(yōu)選為O. 2 I. 5g/m2。 第3堿蝕刻處理中的鋁板的溶解量優(yōu)選為O. 001 30g/m2，更優(yōu)選為O. 01 O. 8g/m2，進ー步優(yōu)選為 O. 02 O. 3g/m2。酸性水溶液中，對于化學蝕刻處理(第I 第3去污處理)可優(yōu)選使用磷酸、硝酸、硫酸、鉻酸、鹽酸、或含有這些2種以上的酸的混酸。酸性水溶液的濃度優(yōu)選為O. 5 60質(zhì)量％。另外，酸性水溶液中，鋁及鋁合金中所含有的合金成分也可以溶解O 5質(zhì)量％。另外，液溫在常溫 95°C進行實施，處理時間優(yōu)選為I 120秒。為了在去污處理結(jié)束后，不將處理液夾帶到下個エ序而優(yōu)選實施利用夾持輥進行的處理液的移除和利用噴淋進行的水洗。對用于電化學表面粗化處理的水溶液進行說明。第I電化學表面粗化處理中使用的以硝酸為主體的水溶液，可以使用采用通常的直流或交流的電化學表面粗化處理中所使用的物質(zhì)，可以在I 100g/L的硝酸水溶液添加具有硝酸鋁、硝酸鈉、硝酸銨等的硝酸離子；氯化鋁、氯化鈉、氯化銨等的鹽酸離子；等的鹽酸或硝酸化合物的ー種以上至lg/L 飽和而使用。另外，在以硝酸為主體的水溶液中也可以溶解鐵、銅、錳、鎳、鈦、鎂、硅等鋁合金中所含的金屬。具體而言，優(yōu)選使用在硝酸O. 5 2質(zhì)量％水溶液中添加氯化鋁、硝酸鋁以使鋁離子為3 50g/L的溶液。另外，溫度優(yōu)選為10 90°C，更優(yōu)選為40 80°C。另ー方面，第2電化學表面粗化處理中使用的以鹽酸為主體的水溶液可以使用采用通常的直流或交流的電化學表面粗化處理所使用的物質(zhì)，在I 100g/L的鹽酸水溶液中添加具有硝酸鋁、硝酸鈉、硝酸銨等的硝酸離子；氯化鋁、氯化鈉、氯化銨等的鹽酸離子；等的鹽酸或硝酸化合物的ー種以上至lg/L 飽和而使用。另外，在以鹽酸為主體的水溶液中也可以溶解鐵、銅、錳、鎳、鈦、鎂、硅等鋁合金中所含的金屬。具體而言，優(yōu)選使用在鹽酸O. 5 2質(zhì)量％水溶液中添加氯化鋁、硝酸鋁以使鋁離子為3 50g/L的溶液。另外，溫度優(yōu)選為10 60°C，更優(yōu)選為20 50°C。需要說明的是，也可以添加次氯酸。
另ー方面，B方式中的鹽酸水溶液中的電化學表面粗化處理使用的以鹽酸為主體的水溶液，可以使用采用通常的直流或交流的電化學表面粗化處理所使用的物質(zhì)，在I 100g/L的鹽酸水溶液中添加O 30g/L的硫酸而使用。另外,可以在該溶液中添加具有硝酸鋁、硝酸鈉、硝酸銨等的硝酸離子；氯化鋁、氯化鈉、氯化銨等的鹽酸離子；等的鹽酸或硝酸化合物的I種以上至lg/L 飽和而使用。另外，在以鹽酸為主體的水溶液中，鐵、銅、錳、鎳、鈦、鎂、硅等的鋁合金中所含的金屬可以溶解。具體而言，優(yōu)選使用在硝酸O. 5 2質(zhì)量％水溶液中添加氯化鋁、硝酸鋁等而以使鋁離子為3 50g/L的溶液。另外，溫度優(yōu)選為10 60°C，更優(yōu)選為20 50°C。需要說明的是，也可以次氯酸。電化學表面粗化處理的交流電源波形可以使用正弦波、矩形波、梯形波、三角形波等。頻率優(yōu)選為O. I 250Hz。圖3為表示本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的制造方法中的用于電化學表面粗化處理的交變波形電流波形圖的一例的圖表。圖3中，ta為陽極反應(yīng)時間、tc為陰極反應(yīng)時間、tp為電流從O至到達峰值的時間、Ia為陽極循環(huán)側(cè)的峰值時的電流、Ic為陰極循環(huán)側(cè)的峰值時的電流。梯形波中，電流從O至到達峰值的時間tp優(yōu)選為I 10msec。由于電源電路的阻抗的影響，所以若tp不足1，則電流波形的上升時需要大的電源電壓，電源的設(shè)備成本增高。若大于10msec，則容易受到電解液中的微量成分的影響，難以進行均勻的表面粗化。電化學表面粗化中使用的I個循環(huán)交流電的條件優(yōu)選鋁板的陽極反應(yīng)時間ta與陰極反應(yīng)時間tc的比tc/ta為I 20，鋁板的陽極時的電量Qc與陽極時的電量Qa的比Qc/Qa為O. 3 20、陽極反應(yīng)時間ta為5 IOOOmsec的范圍。tc/ta更優(yōu)選為2. 5 15。Qc/Qa更優(yōu)選為2. 5 15。電流密度以梯形波的峰值計，電流的陽極循環(huán)側(cè)la、陰極循環(huán)側(cè)Ic均優(yōu)選為10 200A/dm2。Ic/Ia優(yōu)選為O. 3 20的范圍。電化學表面粗化結(jié)束時刻的鋁板的陽極反應(yīng)所賦予的電量的總和優(yōu)選為25 1000C/dm2。本發(fā)明中，用于使用交流電的電化學表面粗化的電解槽可以使用縱型、扁平型、徑向型等公知的表面處理所用的電解槽，特別優(yōu)選日本特開平5-195300號公報記載的那樣的徑向型電解槽。使用了交流電的電化學表面粗化可以使用圖4所示的裝置。圖4為表示本發(fā)明的平版印刷版用支撐體的制造方法中的使用了交流電的電化學表面粗化處理中的徑向池的一例的側(cè)視圖。圖4中，50為主電解槽、51為交流電源、52為徑向轉(zhuǎn)筒輥、53a，53b為主極、54為電解液供給ロ、55為電解液、56為狹縫、57為電解液通路、58為輔助陽極、60為輔助陽極槽、W為鋁板。使用2個以上電解槽吋，電解條件可以相同也可以不同。鋁板W浸潰到主電解槽50中并卷繞到所配置的徑向轉(zhuǎn)筒輥52上，在輸送過程中通過與交流電源51連接的主極53a、53b進行電解處理。電解液55從電解液供給ロ 54通過狹縫56供給到徑向轉(zhuǎn)筒輥52和主極53a、53b之間的電解液通路57中。用主電解槽50處理過的鋁板W接下來用輔助陽極槽60進行電解處理。在該輔助陽極槽60中輔助陽極58與鋁板W相對配置，電解液55以流過輔助陽極58與鋁板W之間的空間的方式進行供給。另ー方面，在電化學表面粗化處理(第I及第2電化學表面粗化處理)中，可以是在鋁板和與其對向的電極間加入直流電流，并且電化學進行表面粗化的方法?！锤稍铳ㄐ颉祪?yōu)選在獲得通過上述的エ序得到的平版印刷版用支撐體后，設(shè)置后述的圖像記錄層前，實施使平版印刷版用支撐體的表面進行干燥的處理(干燥エ序)。干燥優(yōu)選在表面處理的最后的處理后，水洗處理及用夾持輥處理液的移除之后進行。作為具體的條件，沒有特別限定，優(yōu)選以熱風(50 200°C )、或冷風自然干燥法等干燥?！雌桨嬗∷嬖妗?
本發(fā)明的平版印刷版用支撐體可以設(shè)置以下例示的光敏層、熱敏層等圖像記錄層而制成本發(fā)明的平版印刷版原版。圖像記錄層沒有特別限定，可優(yōu)選舉出例如日本特開2003-1956號公報的段落

記載的普通的正型、普通的負型、光聚合物型、熱正型、熱負型、能夠機上顯影的未處理的類型。以下對優(yōu)選的圖像記錄層進行詳細說明?！磮D像記錄層〉作為能夠用于本發(fā)明的平版印刷版原版的優(yōu)選的圖像記錄層，為可通過印刷墨液和/或潤版液除去的記錄層，具體而言，優(yōu)選為具有紅外線吸收劑、聚合引發(fā)劑、和聚合性化合物，且可通過紅外線的照射進行記錄的圖像記錄層。對于本發(fā)明的平版印刷版原版而言，通過紅外線的照射使圖像記錄層的曝光部固化并形成疎水性(親油性)區(qū)域，且印刷開始時未曝光部通過潤版液、墨液或潤版液與墨液的乳化物從支撐體上快速除去。以下對圖像記錄層的各構(gòu)成成分進行說明。(紅外線吸收劑)以發(fā)出760 1200nm的紅外線的激光作為光源圖像形成本發(fā)明的平版印刷版原版時，通常使用紅外線吸收劑。紅外線吸收劑具有使吸收的紅外線轉(zhuǎn)換為熱的功能、和通過紅外線進行激發(fā)對后述的聚合引發(fā)劑(自由基產(chǎn)生劑)產(chǎn)生電子移動/能量移動的功能。能夠在本發(fā)明中使用的紅外線吸收劑為在波長760 1200nm具有極大吸收的染料或顏料。作為染料，可利用市售的染料、例如“染料便覽”(有機合成化學協(xié)會編集、昭和45年刊)等文獻記載的公知的染料。具體而言，可舉出偶氮染料、金屬絡(luò)合物偶氮染料、吡唑啉酮偶氮染料、萘醌染料、蒽醌染料、酞菁染料、碳染料(carbonium dye)、醌亞胺染料、次甲基染料、花青染料、方酸菁色素、吡喃鎗鹽、金屬硫醇鹽絡(luò)合物等染料?？蓛?yōu)選使用例如日本特開2009-255434號公報段落

公開的染料。另ー方面，作為顏料，可利用例如日本特開2009-255434號公報的段落
記載的顏料。(聚合引發(fā)劑)上述聚合引發(fā)劑為通過光、熱或者該兩者能量產(chǎn)生自由基，引發(fā)、促進具有聚合性的不飽和基的化合物的聚合的化合物，本發(fā)明中，優(yōu)選使用通過熱產(chǎn)生自由基的化合物(熱自由基產(chǎn)生劑)。作為上述聚合引發(fā)劑，可以使用公知的熱聚合引發(fā)劑或具有鍵合解離能量小的鍵的化合物、光聚合引發(fā)劑等。作為聚合引發(fā)劑，可利用例如日本特開2009-255434號公報的段落
記載的聚合引發(fā)劑等。需要說明的是，作為聚合引發(fā)劑可以使用鎗鹽等，從反應(yīng)性、穩(wěn)定性的方面考慮，作為優(yōu)選的物質(zhì)可舉出上述肟酯化合物或重氮鎗鹽、碘鎗鹽、锍鹽。相對于構(gòu)成圖像記錄層的全部固體成分，這些聚合引發(fā)劑可以以O(shè). I 50質(zhì) 量％、優(yōu)選以O(shè). 5 30質(zhì)量％、特別優(yōu)選以I 20質(zhì)量％的比例進行添加。在該范圍內(nèi)，可得到良好的敏感度和印刷時的非圖像部的良好的不易污染性。(聚合性化合物)聚合性化合物為具有至少ー個烯屬不飽和雙鍵的加成聚合性化合物，選自具有至少I個、優(yōu)選2個以上的末端烯屬不飽和鍵的化合物。本發(fā)明中，這樣的化合物可以沒有特別限定地使用本發(fā)明的技術(shù)領(lǐng)域中廣泛公知的物質(zhì)。作為聚合性化合物，可使用例如日本特開2009-255434號公報的段落
例示的聚合性化合物等。另外，使用異氰酸酯和羥基的加成反應(yīng)制造的脲烷系加成聚合性化合物也是合適的。作為該具體例，可舉出日本特公昭48-41708號公報記載的使在I分子具有2個以上的異氰酸酯基的多異氰酸酯化合物與下述通式(A)所示的含有羥基的こ烯基單體加成得到的I分子中含有2個以上的聚合性こ烯基的こ烯基脲烷化合物等。CH2 = C(R4)C00CH2CH(R5)0H (A)(其中，R4及R5表示H或CH3。)聚合性化合物相對于圖像記錄層中的不揮發(fā)性成分，優(yōu)選在5 80質(zhì)量％、進ー步優(yōu)選在25 75質(zhì)量％的范圍使用。另外，這些可以單獨使用也可以并用2種以上。(粘合劑聚合物)本發(fā)明中，圖像記錄層中可以使用用于提高圖像記錄層的覆膜形成性的粘合劑聚合物。粘合劑聚合物可以沒有限制地使用以往公知的物質(zhì)，優(yōu)選具有覆膜性的聚合物。作為這樣的粘合劑聚合物，具體而言，可舉出例如丙烯酸樹脂、聚こ烯醇縮醛樹脂、聚氨酯樹脂、聚脲樹脂、聚酰亞胺樹脂、聚酰胺樹脂、環(huán)氧樹脂、甲基丙烯酸樹脂、聚苯こ烯系樹脂、酚醛清漆型酚醛系樹脂、聚酯樹脂、合成橡膠、天然橡膠等。粘合劑聚合物為了提高圖像部的覆膜強度，而可以具有交聯(lián)性。為了使粘合劑聚合物具有交聯(lián)性，可以向高分子的主鏈中或側(cè)鏈中導入烯屬不飽和鍵等交聯(lián)性官能基。交聯(lián)性官能基也可以通過共聚導入。作為粘合劑聚合物，還可以使用例如日本特開2009-255434號公報段落
公開的粘合劑聚合物。相對于圖像記錄層的全部固體成分，粘合劑聚合物的含量為5 90質(zhì)量％，優(yōu)選為5 80質(zhì)量％，更優(yōu)選為10 70質(zhì)量％。在該范圍內(nèi)，可得到良好的圖像部的強度和圖像形成性。另外，聚合性化合物和粘合劑聚合物優(yōu)選按照以質(zhì)量比計O. 5/1 4/1的量使用。(表面活性劑)圖像記錄層中為了促進印刷開始時的機上顯影性、及提高涂布面狀而優(yōu)選使用表面活性剤。作為表面活性剤，可舉出非離子表面活性剤、陰離子表面活性剤、陽離子表面活性齊U、兩性表面活性劑、氟系表面活性劑等。作為表面活性劑，可使用例如日本特開2009-255434號公報的段落
公開的表面活性劑等。表面活性劑可以単獨使用或組合2種以上使用。相對于圖像記錄層的全部固體成分，表面活性劑的含量優(yōu)選為O. 001 10質(zhì)量％，更優(yōu)選為O. 01 5質(zhì)量％。圖像記錄層可以更進一步根據(jù)需要添加上述以外的各種化合物。可舉出例如日本特開2009-255434號公報的段落

公開的著色劑、烘干劑、阻聚劑、高級脂肪酸衍生物、增塑劑、無機微粒、低分子親水性化合物等。<圖像記錄層的形成>圖像記錄層可以通過在溶劑中分散或溶解需要的上述各成分制成涂布液后，將該涂布液涂布在支撐體上而形成。在此，作為使用的溶劑，可舉出ニ氯こ烷、環(huán)己酮、甲こ酮、甲醇、こ醇、丙醇、こニ醇單甲醚、I-甲氧基-2-丙醇、2-甲氧基こ基こ酸酷、I-甲氧基-2-丙基こ酸酷、水等，但不限定于這些。這些溶劑可單獨或混合使用。涂布液的固體成分的濃度優(yōu)選為I 50質(zhì)量％。另外，涂布、干燥后得到的平版印刷版用支撐體上的圖像記錄層涂布量(固體成分)根據(jù)用途而各異，通常優(yōu)選為O. 3 3. Og/m2。在該范圍，可得到良好的敏感度和圖像記錄層的良好的覆膜特性。作為涂布的方法，可舉出例如棒涂、旋涂、噴涂、簾涂、浸涂、氣刀涂布、刮刀涂布、輥涂等。<底涂層>本發(fā)明的平版印刷版原版中，希望在上述的圖像記錄層和平版印刷版用支撐體之間設(shè)置底涂層。底涂層優(yōu)選含有具有基板吸附性基、聚合性基及親水性基的聚合物。作為具有基板吸附性基、聚合性基及親水性基的聚合物，可舉出使具有吸附性基的単體、具有親水性基的単體、及具有聚合性反應(yīng)基(交聯(lián)性基)的単體共聚而成的底涂層用高分子樹脂。作為可用于底涂層用高分子樹脂的単體，可舉出例如日本特開2009-255434號公報的段落

等記載的単體。作為將含有底涂層的構(gòu)成材料的底涂層涂布液涂布于支撐體的方法，可以使用公知的各種法?？膳e出例如棒涂、旋涂、噴涂、簾涂、浸涂、氣刀涂布、刮刀涂布、輥涂布等。底涂層的涂布量(固體成分)優(yōu)選為O. I 100mg/m2,更優(yōu)選為I 50mg/m2。<保護層>
本發(fā)明的平版印刷版原版中，為了防止圖像記錄層中的劃傷等發(fā)生、阻隔氧、防止高照度激光曝光時的燒蝕，而可以根據(jù)需要在圖像記錄層上設(shè)置保護層。關(guān)于保護層，一直以來進行過各種研究，例如在美國專利第3，458，3 __號說明書及日本特公昭55-49729號公報中有詳細記載。另外，作為用于保護層的材料，可使用例如日本特開2009-255434號公報的段落
等記載的材料(水溶性高分子化合物、無機質(zhì)的層狀化合物等)。 將制備后的保護層涂布液涂布在支撐體上所具有的圖像記錄層上，進行干燥，形成保護層。涂布溶劑可以與粘合劑相關(guān)聯(lián)而適當選擇，使用水溶性聚合物時，優(yōu)選使用蒸餾水、純化水。保護層的涂布方法沒有特別限制，可舉出例如刮刀涂布法、氣刀涂布法、凹版涂布法、輥涂涂布法、噴淋涂布法、浸潰涂布法、棒涂涂布法等。作為保護層的涂布量，以干燥后的涂布量計，優(yōu)選為O. 01 10g/m2的范圍，更優(yōu)選為O. 02 3g/m2的范圍，最優(yōu)選為O. 02 lg/m2的范圍。具有如上所述的圖像記錄層的本發(fā)明的平版印刷版原版不僅制成平版印刷版時顯示優(yōu)異的暫停印刷的脫墨能力、耐刷性，而且在機上顯影型的情況下成為提高了機上顯影性的平版印刷版原版。實施例以下通過實施例對本發(fā)明進行詳細說明，本發(fā)明不受這些限定。<平版印刷版用支撐體的制造>對于厚度O. 3mm的材質(zhì)IS的鋁合金板，實施下述㈧ (F)中的下述表I所示的處理，制造平版印刷版用支撐體。需要說明的是，全部的處理工序之間實施水洗處理，并在水洗處理后用夾持輥進行處理液的移除。< 處理 A>(A-a)機械的表面粗化處理(刷拭磨版法)使用如圖5所示的裝置，將浮石的懸濁液(比重I. lg/cm3)制成研磨漿液邊供給到鋁板的表面，邊通過旋轉(zhuǎn)的硬毛束刷進行機械的表面粗化處理。圖5中，I為鋁板、2及4為輥狀刷(本實施例中，硬毛束刷)、3為研磨漿液、5、6、7及8為支撐輥。關(guān)于機械的表面粗化處理，研磨材的中位直徑(ym)設(shè)為30μπκ刷數(shù)設(shè)為4根、刷的轉(zhuǎn)速(rpm)設(shè)為250rpm。硬毛束刷的材質(zhì)為6 · 10尼龍,刷毛的直徑為O. 3mm、毛長為50mm。刷為在Φ 300mm的不銹鋼制的筒上開孔密集地植毛而成。硬毛束刷下部的2根支撐輥(Φ 200mm)的距離為300mm。硬毛束刷進行按壓到直至使刷旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動馬達的負荷成為相對于在將硬毛束刷按壓到鋁板前的負荷為IOkW壓力。刷的旋轉(zhuǎn)方向與鋁板的移動方向相同。(A-b)堿蝕刻處理對上述得到的鋁板在溫度70°C利用噴淋管吹附苛性鈉濃度26質(zhì)量％、鋁離子濃度6.5質(zhì)量％的苛性鈉水溶液，進行蝕刻處理。然后，進行了利用噴淋的水洗。鋁溶解量為10g/m2。(A-c)在酸性水溶液中的去污處理接著，在硝酸水溶液中進行去污處理。用于去污處理的硝酸水溶液使用以下エ序的電化學表面粗化中采用的硝酸的廢液。該液溫為35°C。去污液通過噴淋吹附，進行3秒鐘的去污處理。(A-d)電化學表面粗化處理使用硝酸電解60Hz的交流電壓，連續(xù)進行電化學表面粗化處理。此時的電解液使用在溫度35°C、硝酸10. 4g/L的水溶液中添加硝酸鋁而將鋁離子濃度調(diào)整為4. 5g/L的電解液。交流電源波形為如圖3所示的波形,使用電流值從零到達峰值的時間tp為O. 8msec、duty比為I : I、梯形的矩形波交流電，碳電極作為對電極進行電化學表面粗化處理。輔助陽極使用鐵素體。電解槽使用如圖4所示的裝置。電流密度以電流的峰值計為30A/dm2、輔助陽極使從電源流過的電流的5%進行分流。電量(C/dm2)以鋁板為陽極時的電量的總和計為185C/dm2。然后，進行了利用噴淋的水洗。(A-e)堿蝕刻處理對上述得到的鋁板在溫度50°C利用噴淋管吹附苛性鈉濃度5質(zhì)量％、鋁離子濃度O. 5質(zhì)量％的苛性鈉水溶液，進行蝕刻處理。然后，進行了利用噴淋的水洗。鋁溶解量為·O. 5g/m2。(A-f)在酸性水溶液中的去污處理接著，在硫酸水溶液中進行去污處理。用于去污處理的硫酸水溶液使用硫酸濃度170g/L、鋁離子濃度5g/L的溶液。其液溫為30°C。通過噴淋吹附去污液，進行了 3秒鐘去污處理。(A-g)電化學表面粗化處理使用鹽酸電解60Hz的交流電壓，連續(xù)進行電化學表面粗化處理。電解液使用向液溫35°C、6. 2g/L的鹽酸水溶液中添加氯化鋁而將鋁離子濃度調(diào)整為4. 5g/L的電解液。交流電源波形為如圖3所示的波形,使用電流值從零達到峰值的時間tp為O. 8msec、duty比I I、梯形的矩形波交流電，以碳電極作為對電扱，進行電化學表面粗化處理。輔助陽極使用鐵素體。電解槽使用如圖4所示的裝置。電流密度以電流的峰值計為25A/dm2，鹽酸電解中的電量(C/dm2)以鋁板為陽極時的電量的總和計為63C/dm2。然后，進行利用噴淋的水洗。(A-h)堿蝕刻處理對上述得到的鋁板在溫度50°C利用噴淋管吹附苛性鈉濃度5質(zhì)量％、鋁離子濃度O. 5質(zhì)量％的苛性鈉水溶液，進行蝕刻處理。然后，進行了利用噴淋的水洗。鋁溶解量為O. lg/m2。(A-i)在酸性水溶液中的去污處理接著，在硫酸水溶液中進行去污處理。具體而言，使用陽極氧化處理工序產(chǎn)生的廢液(硫酸170g/L水溶液中溶解鋁離子5g/L)，在液溫35°C進行4秒鐘的去污處理。通過噴淋吹附去污液,進行了 3秒鐘的去污處理。(A-j)第I階段的陽極氧化處理使用圖6所示的結(jié)構(gòu)的基于直流電解的陽極氧化裝置，進行第I階段的陽極氧化處理。用表I示出的條件進行陽極氧化處理，形成規(guī)定的覆膜厚的陽極氧化覆膜。(A-k)擴孔處理將上述陽極氧化處理的鋁板按照表I示出的條件在溫度35°C浸潰到苛性鈉濃度5質(zhì)量％、鋁離子濃度0.5質(zhì)量％的苛性鈉水溶液中，進行了擴孔處理。然后，進行了利用噴淋的水洗。(A-I)第2階段的陽極氧化處理使用圖6所示的結(jié)構(gòu)的基于直流電解的陽極氧化裝置，進行了第2階段的陽極氧化處理。用表I所示的條件進行陽極氧化處理，形成規(guī)定的覆膜厚的陽極氧化覆膜。(A-m)硅酸鹽處理為了確保非圖像部的親水性,而使用2. 5質(zhì)量％的3號硅酸鈉水溶液，在50°C浸潰7秒鐘實施了硅酸鹽處理。Si的附著量為10mg/m2。然后，進行了利用噴淋的水洗。<處理⑶>(B-a)堿蝕刻處理
對鋁板在溫度70°C利用噴淋管吹附苛性鈉濃度26質(zhì)量％、鋁離子濃度6. 5質(zhì)量％的苛性鈉水溶液，進行了蝕刻處理。然后，進行了利用噴淋的水洗。然后實施電化學表面粗化處理的面的鋁溶解量為I. Og/m2。(B-b)在酸性水溶液中的去污處理(第I去污處理)接著，在酸性水溶液中進行了去污處理。用于去污處理的酸性水溶液使用150g/L的硫酸水溶液。其液溫為30°C。利用噴淋吹附去污液,進行3秒鐘去污處理。然后,進行了水洗處理。(B-C)在鹽酸水溶液中的電化學表面粗化處理接著，使用鹽酸濃度14g/L、鋁離子濃度13g/L、硫酸濃度3g/L的電解液,使用交流電流進行了電解表面粗化處理。電解液的液溫為30°C。鋁離子濃度通過添加氯化鋁而調(diào)節(jié)。交流電流的波形是正和負的波形為對稱的正弦波，頻率為50Hz、交流電流I個周期中的陽極反應(yīng)時間和陰極反應(yīng)時間為I : I、電流密度以交流電流波形的峰值電流值計為75A/dm2。另外，電量以鋁板參與陽極反應(yīng)中的電量的總和計為450C/dm2，電解處理是每隔125C/dm2打開4秒鐘的通電間隔井分4次進行。鋁板的對電極使用碳電扱。然后，進行了水洗處理。(B-d)堿蝕刻處理對電化學表面粗化處理后的鋁板在溫度35°C利用噴淋管吹附苛性鈉濃度5質(zhì)量％、鋁離子濃度O. 5質(zhì)量％的苛性鈉水溶液，進行了蝕刻處理。實施了電化學表面粗化處理的面的鋁的溶解量為O. lg/m2。然后，進行了水洗處理。(B-e)在酸性水溶液中的去污處理接著，進行了在酸性水溶液中的去污處理。用于去污處理的酸性水溶液使用陽極氧化處理工序產(chǎn)生的廢液(硫酸170g/L水溶液中溶解鋁離子5. Og/L)。液溫為30°C。利用噴淋吹附去污液進行了 3秒鐘的去污處理。(B-f)第I階段的陽極氧化處理使用圖6所示的結(jié)構(gòu)的基于直流電解的陽極氧化裝置，進行了第I階段的陽極氧化處理。在表I示出的條件下進行陽極氧化處理，形成了規(guī)定的覆膜厚的陽極氧化覆膜。(B-g)擴孔處理將上述陽極氧化處理后的鋁板在溫度35°C按照表I示出的條件浸潰到苛性鈉濃度5質(zhì)量％、鋁離子濃度O. 5質(zhì)量％的苛性鈉水溶液中，進行了擴孔處理。然后，進行了利用噴淋的水洗。(B-h)第2階段的陽極氧化處理使用圖6所示的結(jié)構(gòu)的基于直流電解的陽極氧化裝置，進行了第2階段的陽極氧化處理。在表I示出的條件下進行陽極氧化處理，形成了規(guī)定的覆膜厚的陽極氧化覆膜。(B-i)硅酸鹽處理為了確保非圖像部的親水性，使用2. 5質(zhì)量％的3號硅酸鈉水溶液，在50°C浸潰7秒鐘，實施了硅酸鹽處理。Si的附著量為10mg/m2。然后，進行了利用噴淋的水洗。< 處理(C) >(C-a)機械的表面粗化處理(刷拭磨版法)使用圖5所示的裝置，以浮石的懸濁液(比重I. lg/cm3)作為研磨漿液邊供給到鋁板的表面，邊通過旋轉(zhuǎn)的硬毛束刷進行機械的表面粗化處理。關(guān)于機械的表面粗化處理，研磨材的中位徑(ym)設(shè)為30μπκ刷數(shù)設(shè)為4根、刷的轉(zhuǎn)速(rpm)設(shè)為250rpm。硬毛束刷的材質(zhì)為6 · 10尼龍,刷毛的直徑為O. 3mm、毛長50mm。刷為在Φ 300mm的不銹鋼制的筒上開孔密集地進行植毛而成。硬毛束刷下部的2根支撐輥(Φ200πιπι)的距離為300mm。硬毛束刷進行按壓直至使刷旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動馬達的負荷成為相對于使硬毛束刷按壓鋁板前的負荷為IOkW壓力。刷的旋轉(zhuǎn)方向與鋁板的移動方向相同。(C-b)堿蝕刻處理在溫度70°C利用噴淋管對上述得到的鋁板吹附苛性鈉濃度26質(zhì)量％、鋁離子濃度6.5質(zhì)量％的苛性鈉水溶液，進行蝕刻處理。然后，進行了利用噴淋的水洗。鋁溶解量為10g/m2。(C-c)在酸性水溶液中的去污處理接著，進行了在酸性水溶液中的去污處理。用于去污處理的酸性水溶液使用陽極氧化處理工序中產(chǎn)生的廢液(硫酸170g/L水溶液中溶解鋁離子5. Og/L)。液溫為30°C。利 用噴淋吹附去污液，進行了 3秒鐘的去污處理。(C-d)第I階段的陽極氧化處理使用圖6所示的結(jié)構(gòu)的基于直流電解的陽極氧化裝置，進行了第I階段的陽極氧化處理。在表I示出的條件下進行陽極氧化處理，形成了規(guī)定的覆膜厚的陽極氧化覆膜。(C-e)擴孔處理將上述陽極氧化處理后的鋁板在溫度35°C在表I示出的條件下浸潰到苛性鈉濃度5質(zhì)量％、鋁離子濃度O. 5質(zhì)量％的苛性鈉水溶液中，進行了擴孔處理。然后，進行了利用噴淋的水洗。(C-f)第2階段的陽極氧化處理使用圖6所示的結(jié)構(gòu)的基于直流電解的陽極氧化裝置，進行了第2階段的陽極氧化處理。在表I示出的條件下進行陽極氧化處理，形成了規(guī)定的覆膜厚的陽極氧化覆膜。(C-g)硅酸鹽處理為了確保非圖像部的親水性，使用2. 5質(zhì)量％的3號硅酸鈉水溶液，在50°C浸潰7秒鐘，實施了硅酸鹽處理。Si的附著量為10mg/m2。然后，進行了利用噴淋的水洗。< 處理(D) >(D-a)機械的表面粗化處理(刷拭磨版法)
使用圖5所示的裝置，以浮石的懸濁液(比重I. lg/cm3)作為研磨漿液邊供給到鋁板的表面，邊利用旋轉(zhuǎn)的硬毛束刷進行了機械的表面粗化處理。關(guān)于機械的表面粗化處理，研磨材的中位徑(ym)設(shè)為30μπκ刷數(shù)設(shè)為4根、刷的轉(zhuǎn)速(rpm)設(shè)為250rpm。硬毛束刷的材質(zhì)為6 · 10尼龍,刷毛的直徑為O. 3mm、毛長為50mm。刷為在Φ 300mm的不銹鋼制的筒上開孔密集地進行植毛而成。硬毛束刷下部的2根支撐輥(Φ 200mm)的距離為300mm。硬毛束刷進行按壓直至使刷旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動馬達的負荷成為相對于使硬毛束刷按壓鋁板前的負荷為IOkW壓力。刷的旋轉(zhuǎn)方向與鋁板的移動方向相同。(D-b)堿蝕刻處理對上述得到的鋁板在溫度70°C利用噴淋管吹附苛性鈉濃度26質(zhì)量％、鋁離子濃度6.5質(zhì)量％的苛性鈉水溶液，進行了蝕刻處理。然后，進行了利用噴淋的水洗。鋁溶解量 為 10g/m2。(D-c)在酸性水溶液中的去污處理接著，在硝酸水溶液中進行去污處理。用于去污處理的硝酸水溶液，使用接下來エ序的用于電化學的表面粗化的硝酸的廢液。其液溫為35°C。通過噴淋吹附去污液，進行了3秒鐘的去污處理。(D-d)電化學表面粗化處理使用硝酸電解60Hz的交流電壓，連續(xù)進行電化學的表面粗化處理。此時的電解液使用在溫度35°C向硝酸10. 4g/L的水溶液中添加硝酸鋁調(diào)整鋁離子濃度至4. 5g/L的電解液。交流電源波形為圖3所示的波形,使用電流值從零到峰值的時間tp為O. 8msec、duty比為I : I、梯形的矩形波交流電，以碳電極作為對電極進行電化學表面粗化處理。輔助陽極使用鐵素體。電解槽使用圖4示出的裝置。電流密度以電流的峰值值計為30A/dm2，輔助陽極中使從電源流過的電流的5%進行分流。電量(C/dm2)以鋁板為陽極時的電量的總和計為185C/dm2。然后，進行了利用噴淋的水洗。(D-e)堿蝕刻處理對上述得到的鋁板在溫度50°C利用噴淋管吹附苛性鈉濃度5質(zhì)量％、鋁離子濃度O. 5質(zhì)量％的苛性鈉水溶液，進行蝕刻處理。然后，進行了利用噴淋的水洗。鋁溶解量為O. 5g/m2。(D-f)在酸性水溶液中的去污處理接著，在硫酸水溶液中進行了去污處理。用于去污處理的硫酸水溶液，使用硫酸濃度170g/L、鋁離子濃度5g/L的溶液。其液溫為30°C。通過噴淋吹附去污液，進行了 3秒鐘的去污處理。(D-g)第I階段的陽極氧化處理使用圖6所示的結(jié)構(gòu)的基于直流電解的陽極氧化裝置，進行了第I階段的陽極氧化處理。在表I示出的條件下進行陽極氧化處理，形成了規(guī)定的覆膜厚的陽極氧化覆膜。(D-h)擴孔處理對上述陽極氧化處理后的鋁板在溫度35°C在表I示出的條件下浸潰到苛性鈉濃度5質(zhì)量％、鋁離子濃度O. 5質(zhì)量％的苛性鈉水溶液中，進行擴孔處理。然后，進行了利用噴淋的水洗。
(D-i)第2階段的陽極氧化處理使用圖6所示的結(jié)構(gòu)的基于直流電解的陽極氧化裝置，進行了第2階段的陽極氧化處理。在表I示出的條件下進行陽極氧化處理，形成了規(guī)定的覆膜厚的陽極氧化覆膜。(D-j)硅酸鹽處理為了確保非圖像部的親水性，使用2. 5質(zhì)量％的3號硅酸鈉水溶液，在50°C浸潰7秒鐘，實施了硅酸鹽處理。Si的附著量為10mg/m2。然后，進行了利用噴淋的水洗。< 處理(E) >(E-a)堿蝕刻處理對鋁板在溫度70°C利用噴淋管吹附苛性鈉濃度26質(zhì)量％、鋁離子濃度6. 5質(zhì)量％ 的苛性鈉水溶液，進行了蝕刻處理。然后，進行了利用噴淋的水洗。然后實施電化學表面粗化處理的面的鋁溶解量為5g/m2。(E-b)在酸性水溶液中的去污處理接著，在硝酸水溶液中進行去污處理。用于去污處理的硝酸水溶液，使用接下來エ序的用于電化學的表面粗化的硝酸的廢液。其液溫為35°C。通過噴淋吹附去污液，進行了3秒鐘的去污處理。(E-C)電化學表面粗化處理使用硝酸電解60Hz的交流電壓，連續(xù)進行電化學的表面粗化處理。此時的電解液使用在溫度35°C向硝酸10. 4g/L的水溶液中添加硝酸鋁調(diào)整鋁離子濃度為4. 5g/L的電解液。交流電源波形為圖3所示的波形,使用電流值從零到峰值的時間tp為O. 8msec、duty比I : I、梯形的矩形波交流電，以碳電極作為對電極進行電化學表面粗化處理。輔助陽極使用鐵素體。電解槽使用圖4示出的裝置。電流密度以電流的峰值計為30A/dm2，輔助陽極中使從電源流過的電流的5%進行分流。電量(C/dm2)以鋁板為陽極時的電量的總和計為250C/dm2。然后，進行了利用噴淋的水洗。(E-d)堿蝕刻處理對上述得到的鋁板在溫度50°C利用噴淋管吹附苛性鈉濃度5質(zhì)量％、鋁離子濃度O. 5質(zhì)量％的苛性鈉水溶液，進行了蝕刻處理。然后，進行了利用噴淋的水洗。鋁溶解量為O. 2g/m2。(E-e)在酸性水溶液中的去污處理接著，使用陽極氧化處理工序產(chǎn)生的廢液(硫酸170g/L水溶液中溶解鋁離子5g/L)，在液溫35°C進行了 4秒鐘的去污處理。在硫酸水溶液中進行了去污處理。通過噴淋吹附去污液，進行了 3秒鐘的去污處理。(E-f)第I階段的陽極氧化處理使用圖6所示的結(jié)構(gòu)的基于直流電解的陽極氧化裝置，進行了第I階段的陽極氧化處理。在表I示出的條件下進行陽極氧化處理，形成了規(guī)定的覆膜厚的陽極氧化覆膜。(E-g)擴孔處理對上述陽極氧化處理后的鋁板在溫度35°C在表I示出的條件下浸潰到苛性鈉濃度5質(zhì)量％、鋁離子濃度0.5質(zhì)量％的苛性鈉水溶液中，進行了擴孔處理。然后，進行了利用噴淋的水洗。(E-h)第2階段的陽極氧化處理
使用圖6所示的結(jié)構(gòu)的基于直流電解的陽極氧化裝置，進行了第2階段的陽極氧化處理。在表I示出的條件下進行陽極氧化處理，形成了規(guī)定的覆膜厚的陽極氧化覆膜。(E-i)硅酸鹽處理為了確保非圖像部的親水性，使用2. 5質(zhì)量％的3號硅酸鈉水溶液，在50°C浸潰7秒鐘，實施了硅酸鹽處理。Si的附著量為10mg/m2。然后，進行了利用噴淋的水洗。< 處理(F) >
(F-a)堿蝕刻處理對鋁板在溫度70°C利用噴淋管吹附苛性鈉濃度26質(zhì)量％、鋁離子濃度6. 5質(zhì)量％的苛性鈉水溶液，進行了蝕刻處理。然后，進行了利用噴淋的水洗。然后實施電化學表面粗化處理的面的鋁溶解量為5g/m2。(F-b)在酸性水溶液中的去污處理接著，在硝酸水溶液中進行去污處理。用于去污處理的硝酸水溶液，使用接下來エ序的用于電化學的表面粗化的硝酸的廢液。其液溫為35°C。通過噴淋吹附去污液，進行了3秒鐘的去污處理。(F-c)電化學表面粗化處理使用硝酸電解60Hz的交流電壓，連續(xù)進行電化學的表面粗化處理。此時的電解液使用在溫度35°C向硝酸10. 4g/L的水溶液中添加硝酸鋁、調(diào)整鋁離子濃度為4. 5g/L的電解液。交流電源波形為圖3所示的波形,使用電流值從零到峰值的時間tp為O. 8msec、duty比I : I、梯形的矩形波交流電，以碳電極作為對電極進行電化學表面粗化處理。輔助陽極使用鐵素體。電解槽使用圖4示出的裝置。電流密度以電流的峰值計為30A/dm2，輔助陽極使從電源流過的電流的5%分流。電量(C/dm2)以鋁板為陽極時的電量的總和計為250C/dm2。然后，進行了利用噴淋的水洗。(F-d)堿蝕刻處理對上述得到的鋁板在溫度50°C利用噴淋管吹附苛性鈉濃度5質(zhì)量％、鋁離子濃度O. 5質(zhì)量％的苛性鈉水溶液，進行了蝕刻處理。然后，進行了利用噴淋的水洗。鋁溶解量為O. 2g/m2。(F-g)在酸性水溶液中的去污處理接著，在硫酸水溶液中進行了去污處理。用于去污處理的硫酸水溶液，使用硫酸濃度170g/L、鋁離子濃度5g/L的溶液。其液溫為30°C。通過噴淋吹附去污液，進行了 3秒鐘的去污處理。(F-h)電化學表面粗化處理使用鹽酸電解60Hz的交流電壓，連續(xù)進行電化學的表面粗化處理。電解液使用在液溫35°C向鹽酸6. 2g/L的水溶液添加氯化鋁、調(diào)整鋁離子濃度為4. 5g/L的電解液。交流電源波形為圖3所示的波形,使用電流值從零到峰值的時間tp為O. 8msec、duty比I : I、梯形的矩形波交流電，以碳電極作為對電極進行電化學表面粗化處理。輔助陽極使用鐵素體。電解槽使用圖4示出的裝置。電流密度以電流的峰值計為25A/dm2，鹽酸電解中的電量(C/dm2)以鋁板為陽極時的電量的總和計，為63C/dm2。然后，進行了利用噴淋的水洗。(F-i)堿蝕刻處理對上述得到的鋁板在溫度50°C利用噴淋管吹附苛性鈉濃度5質(zhì)量％、鋁離子濃度O. 5質(zhì)量％的苛性鈉水溶液，進行了蝕刻處理。然后，進行了利用噴淋的水洗。鋁溶解量為O. lg/m2。(F-j)在酸性水溶液中的去污處理接著，在硫酸水溶液中進行了去污處理。具體而言，使用陽極氧化處理工序產(chǎn)生的廢液(硫酸170g/L水溶液中溶解鋁離子5g/L)，在液溫35°C進行了 4秒鐘的去污處理。通過噴淋吹附去污液，進行了 3秒鐘的去污處理。(F-k)第I階段的陽極氧化處理
使用圖6所示的結(jié)構(gòu)的基于直流電解的陽極氧化裝置，進行了第I階段的陽極氧化處理。在表I示出的條件下進行陽極氧化處理，形成了規(guī)定的覆膜厚的陽極氧化覆膜。(F-I)擴孔處理對上述陽極氧化處理后的鋁板在溫度35°C、在表I示出的條件下浸潰到苛性鈉濃度5質(zhì)量％、鋁離子濃度O. 5質(zhì)量％的苛性鈉水溶液中，進行擴孔處理。然后，進行了利用噴淋的水洗。(F-m)第2階段的陽極氧化處理使用圖6所示的結(jié)構(gòu)的基于直流電解的陽極氧化裝置，進行了第2階段的陽極氧化處理。在表I示出的條件下進行陽極氧化處理，形成了規(guī)定的覆膜厚的陽極氧化覆膜。(F-n)硅酸鹽處理為了確保非圖像部的親水性，使用2. 5質(zhì)量％的3號硅酸鈉水溶液，在50°C浸潰7秒鐘，實施了硅酸鹽處理。Si的附著量為10mg/m2。然后，進行了利用噴淋的水洗。上述得到的第二陽極氧化處理工序后的具有微孔的陽極氧化覆膜中的大直徑孔部的陽極氧化覆膜表面中的平均直徑、小直徑孔部的連通位置中的平均直徑、及深度匯集不于表2。需要說明的是，微孔的平均直徑(大直徑孔部及小直徑孔部的平均直徑)用倍率15萬倍的FE-SEM觀察大直徑孔部表面及小直徑孔部表面N = 4張，在得到的4張圖像中，測定存在于400X600nm2的范圍的微孔(大直徑孔部及小直徑孔部)的直徑，取其平均的值。需要說明的是，大直徑孔部的深度深、小直徑孔部的直徑難以測定的情況下，可根據(jù)需要切削陽極氧化覆膜上部(存在大直徑孔部的區(qū)域)，然后求出小直徑孔部的直徑。需要說明的是，微孔的深度(大直徑孔部及小直徑孔部的深度)為如下所述的值，用FE-SEM觀察(大直徑孔部深度觀察15萬倍、小直徑孔部深度觀察5萬倍)支撐體(陽極氧化覆膜)的剖面，在得到的圖像中，測定任意的25個微孔的深度，取其平均的值。需要說明的是，表2中，第一陽極氧化處理欄的AD量與第二陽極氧化處理欄的AD量表示各處理得到的覆膜量。需要說明的是，使用的電解液為含有表I中的成分的水溶液。[表 I]
權(quán)利要求
1.一種平版印刷版用支撐體，其特征在于， 其具有鋁板、和在該鋁板上的鋁的陽極氧化覆膜，且在該陽極氧化覆膜中具有從與該鋁板相反側(cè)的表面向深度方向延伸的微孔，其中， 該微孔由從陽極氧化覆膜表面延伸至深5 60nm即深度A的位置的大直徑孔部、和與該大直徑孔部的底部連通且從連通位置延伸至深900 2000nm的位置的小直徑孔部構(gòu)成，大直徑孔部在陽極氧化覆膜表面的平均直徑為10 60nm，該平均直徑和深度A滿足深度A/平均直徑=0. I 4. 0的關(guān)系， 小直徑孔部在該連通位置的平均直徑大于0且不足20nm， 該大直徑孔部的平均直徑與該小直徑孔部的平均直徑之比、即小直徑孔部徑/大直徑孔部徑為0. 85以下。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的平版印刷版用支撐體，其中， 所述大直徑孔部的平均直徑為10 50nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的平版印刷版用支撐體，其中， 所述深度A為10 50nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求I 3中任一項所述的平版印刷版用支撐體，其中， 所述深度A/平均直徑的值為0. 30以上且不足3. O。
5.根據(jù)權(quán)利要求I 4中任一項所述的平版印刷版用支撐體，其中， 所述微孔的密度為100 3000個/ ii m2。
6.一種平版印刷版用支撐體的制造方法，其為制造權(quán)利要求I 5中任一項所述的平版印刷版用支撐體的方法，該方法包括如下工序 對鋁板進行陽極氧化的第一陽極氧化處理工序； 使具有在該第一陽極氧化處理工序中得到的陽極氧化覆膜的鋁板與酸水溶液或堿水溶液接觸，使該陽極氧化覆膜中的微孔的直徑擴大的擴孔處理工序；以及 對該擴孔處理工序中得到的鋁板進行陽極氧化的第二陽極氧化處理工序。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的平版印刷版用支撐體的制造方法，其中， 所述第一陽極氧化處理工序中得到的陽極氧化覆膜的厚度即覆膜厚度I與所述第二陽極氧化處理工序中得到的陽極氧化覆膜的厚度即覆膜厚度2之比、即覆膜厚度I/覆膜厚度 2 為 0. 01 0. 15。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的平版印刷版用支撐體的制造方法，其中， 所述第二陽極氧化處理工序中得到的陽極氧化覆膜的厚度為900 2000nm。
9.一種平版印刷版原版，其特征在于， 其在權(quán)利要求I 5中任一項所述的平版印刷版用支撐體上具有圖像記錄層。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的平版印刷版原版，其中， 所述圖像記錄層為通過曝光形成圖像且非曝光部可通過印刷墨液和/或潤版液除去的圖像記錄層。
全文摘要
本發(fā)明的目的在于提供可以得到制成平版印刷版時暫停印刷的脫墨能力及耐刷性優(yōu)異、且顯示優(yōu)異的機上顯影性的平版印刷版用原版的耐劃傷性優(yōu)異的平版印刷版用支撐體。本發(fā)明的平版印刷版用支撐體為包括鋁板、在該鋁板上形成的鋁的陽極氧化覆膜，在該陽極氧化覆膜中具有從與該鋁板相反側(cè)的表面向深度方向延伸的微孔的平版印刷版用支撐體，該微孔由大直徑孔部和小直徑孔部構(gòu)成，所述大直徑孔部具有規(guī)定的從陽極氧化覆膜表面至深5～60nm(深度A)的位置延伸的平均直徑，所述小直徑孔部與該大直徑孔部的底部連通，具有規(guī)定的從連通位置至深900～2000nm延伸的平均直徑。
文檔編號B41N3/03GK102686409SQ2010800598
公開日2012年9月19日 申請日期2010年12月22日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月28日
發(fā)明者上杉彰男, 澤田宏和, 田川義治, 黑川真也 申請人:富士膠片株式會社