專利名稱：硬成像設(shè)備和硬成像設(shè)備操作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本公開(kāi)內(nèi)容的各方面涉及硬成像(hard imaging)設(shè)備和硬成像設(shè)備操作方法。
背景技術(shù)：
能夠在紙和其他介質(zhì)上打印圖像的成像設(shè)備無(wú)處不在，并且被用在包括單色和彩色應(yīng)用在內(nèi)的許多應(yīng)用中。由于在辦公室和在家的用戶增加了他們對(duì)諸如計(jì)算機(jī)、數(shù)字相機(jī)、電信裝置等電子和數(shù)字設(shè)備的依賴，所以這些設(shè)備的使用和普及繼續(xù)增加。存在多種在介質(zhì)上形成硬圖像的方法，并且這些方法被用在諸如家、工作場(chǎng)所和商業(yè)打印機(jī)構(gòu)之類的各種應(yīng)用和環(huán)境中。能夠提供不同類型的打印的設(shè)備的某些示例包括激光打印機(jī)、擊打式打印機(jī)、噴墨打印機(jī)、商業(yè)數(shù)字印刷機(jī)等。使用液體標(biāo)記劑的打印機(jī)的某些配置可能經(jīng)受由打印操作期間形成的衛(wèi)星液滴 (satellite)所進(jìn)行的污染。例如，在某些噴墨配置中，液體標(biāo)記劑的液滴的噴射還可能導(dǎo)致液體標(biāo)記劑的衛(wèi)星液滴的形成，其可能污染正被在其上成像的介質(zhì)、噴嘴或打印機(jī)的其他裝置。成像操作可能被中止以實(shí)現(xiàn)清潔操作以便去除導(dǎo)致打印機(jī)或印刷機(jī)的降低的生產(chǎn)率的污染。本公開(kāi)內(nèi)容的至少某些方面針對(duì)改進(jìn)的成像方法和裝置。


圖I是根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的硬成像設(shè)備的功能框圖。圖2是根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的打印設(shè)備的說(shuō)明性表示。圖3是施密特?cái)?shù)對(duì)微滴體積的不同值的圖形說(shuō)明。圖4是根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的去除浮質(zhì)微滴的方法的流程圖。
具體實(shí)施例方式諸如打印機(jī)之類的硬成像設(shè)備在成像操作期間可能經(jīng)受污染。例如，某些噴墨打印機(jī)配置噴射液體標(biāo)記劑(例如，墨)的微滴以在介質(zhì)上形成硬圖像。微滴的噴射可能導(dǎo)致液體標(biāo)記劑的衛(wèi)星液滴的產(chǎn)生，其可能污染正被在其上成像的介質(zhì)或者硬成像設(shè)備的成像部件。衛(wèi)星液滴具有生成有著足夠的質(zhì)量和動(dòng)量以落在介質(zhì)上的較大的衛(wèi)星液滴以及被帶到由介質(zhì)移動(dòng)產(chǎn)生的空氣流中的較小的衛(wèi)星液滴的粒度分布。該較小衛(wèi)星液滴的在后群體被通稱為浮質(zhì)或霧狀物(即，浮質(zhì)微滴)，其保持被帶入空氣流中并且引起打印區(qū)的下游部件的表面的污染。該污染可能降低硬成像設(shè)備的打印質(zhì)量和/或?qū)е驴赡茇?fù)面影響硬成像設(shè)備的生產(chǎn)率的清潔操作。本公開(kāi)內(nèi)容的至少某些方面是針對(duì)被配置為減少由液體標(biāo)記劑的所生成的浮質(zhì)微滴引起的污染的方法和裝置。參見(jiàn)圖1，示出了根據(jù)本公開(kāi)內(nèi)容的一個(gè)實(shí)施例所布置的硬成像設(shè)備10的示例。硬成像設(shè)備10被配置成在介質(zhì)上形成硬圖像。硬成像設(shè)備10的示例實(shí)施例包括打印機(jī)或數(shù)字印刷機(jī)，盡管包括復(fù)印機(jī)、多功能設(shè)備或者被配置成在介質(zhì)上形成硬圖像的其他布置的其他硬成像設(shè)備配置也是可能的。硬成像設(shè)備10的所描繪的實(shí)施例包括介質(zhì)源12、介質(zhì)收集14、介質(zhì)路徑16、打印設(shè)備18以及控制器20。硬成像設(shè)備10的其他實(shí)施例是可能的，并且包括更多、更少或者附加的部件。在一個(gè)實(shí)施例中，介質(zhì)源12包括將被用來(lái)形成硬圖像的介質(zhì)的供應(yīng)物。例如，介質(zhì)源12可以被配置為一卷卷筒式介質(zhì)(web media)或者一盤片材介質(zhì)，諸如紙。在其他實(shí)施例中，可以使用介質(zhì)源12的其他介質(zhì)或者配置。在示例實(shí)施例中，介質(zhì)沿著從介質(zhì)源12到介質(zhì)收集14的介質(zhì)路徑16在處理方向上行進(jìn)。在下面進(jìn)一步詳細(xì)地描述的示例配置中，硬圖像被打印設(shè)備18形成在沿著介質(zhì)源 12和介質(zhì)收集14中間的介質(zhì)路徑16行進(jìn)的介質(zhì)上。介質(zhì)收集14被配置成接收在打印之后使硬圖像形成于其上的介質(zhì)。在示例實(shí)施例中，介質(zhì)收集14可以被配置為用以接收卷筒式介質(zhì)的卷帶盤或者用以接收片材介質(zhì)的托盤。在被配置成沿著介質(zhì)路徑16移動(dòng)介質(zhì)的硬成像設(shè)備10 (例如包括用于卷筒式介質(zhì)的卷帶盤和供應(yīng)物)的一個(gè)實(shí)施例中，介質(zhì)源12和介質(zhì)收集14可以形成介質(zhì)運(yùn)送系統(tǒng)。在硬成像設(shè)備10的另一實(shí)施例中(例如片材介質(zhì))，介質(zhì)運(yùn)送系統(tǒng)可以包含多個(gè)棍(未不出)以將介質(zhì)從介質(zhì)源12移動(dòng)到介質(zhì)收集14?？梢允褂糜糜谟纱蛴≡O(shè)備18實(shí)現(xiàn)在介質(zhì)上打印的任何適當(dāng)布置。在一個(gè)實(shí)施例中，打印設(shè)備18被配置成把一種或多種液體標(biāo)記劑提供給沿著介質(zhì)路徑16行進(jìn)的介質(zhì)以形成硬圖像。在一個(gè)實(shí)施例中，液體標(biāo)記劑可以包括一種或多種顏色的墨。依據(jù)硬成像設(shè)備10的配置，可以使用不同類型的墨，諸如水基的、溶劑基的或油基的。此外，液體標(biāo)記劑可以包括諸如聚合物之類的定影劑或粘合劑，以幫助把墨結(jié)合到介質(zhì)并減少墨到介質(zhì)中的滲透。在一個(gè)實(shí)施例中，打印設(shè)備18包括噴墨打印頭(例如壓電式、熱能的等)，其被配置成噴射與要形成的圖像相對(duì)應(yīng)的多個(gè)液體標(biāo)記劑微滴。在一個(gè)實(shí)施例中，硬成像設(shè)備10可以被配置成生成彩色硬圖像，并且打印設(shè)備18可以包括多個(gè)筆(在圖I中未示出)，所述筆被配置成提供具有不同顏色的液體標(biāo)記劑(例如不同顏色的墨)的微滴和定影劑或粘合劑(如果使用了的話)。打印設(shè)備18的其他布置是可能的。在一個(gè)實(shí)施例中，控制器20被布置成處理數(shù)據(jù)(例如，存取和處理與要被硬成像在介質(zhì)上的彩色圖像相對(duì)應(yīng)的數(shù)字圖像數(shù)據(jù))、控制數(shù)據(jù)存取及存儲(chǔ)、向打印設(shè)備18發(fā)出命令、監(jiān)視成像操作以及控制硬成像設(shè)備10的成像操作。在一個(gè)實(shí)施例中，控制器20被布置成控制本文中與成像操作期間所生成的液體標(biāo)記劑的浮質(zhì)微滴的去除相關(guān)地描述的操作。在一種布置中，控制器20包括被配置成在至少一個(gè)實(shí)施例中實(shí)施由適當(dāng)?shù)慕橘|(zhì)提供的期望的編程的電路。例如，控制器20可以被實(shí)現(xiàn)為處理器和/或被配置成執(zhí)行例如包括軟件和/或固件指令的可執(zhí)行指令的其他結(jié)構(gòu)、和/或硬件電路中的一個(gè)或多個(gè)?？刂破?0的示例實(shí)施例包括硬件邏輯、PGA、FPGA, ASIC、狀態(tài)機(jī)、和/或單獨(dú)的或與處理器結(jié)合的其他結(jié)構(gòu)。控制器20的這些示例是用于舉例說(shuō)明，并且其他配置是可能的。參見(jiàn)圖2，示出了被配置為噴墨打印頭的打印設(shè)備18的一個(gè)實(shí)施例，該噴墨打印頭被配置成形成彩色硬圖像。如所示出的，打印設(shè)備18被配置成在沿著介質(zhì)路徑16行進(jìn)的介質(zhì)22上形成硬圖像。沿著介質(zhì)路徑16行進(jìn)的介質(zhì)22的移動(dòng)生成了空氣界線層24，該空氣界線層24通常對(duì)應(yīng)于這樣的界線其中在該界線層24下方的空氣沿著介質(zhì)路徑16在介質(zhì)22的行進(jìn)方向上隨著介質(zhì)22移動(dòng)，而該界線層24上方的空氣不受到行進(jìn)的介質(zhì)22的顯著影響。在所描繪的被配置成形成硬彩色圖像的布置中，打印設(shè)備18包括多個(gè)筆30a、30b。打印設(shè)備18的其他布置包括單個(gè)筆30，其被配置成噴射具有單個(gè)顏色的標(biāo)記劑以用于單色應(yīng)用。筆30a、30b包括相應(yīng)的噴嘴31a、31b，其被配置成朝著沿著介質(zhì)路徑16移動(dòng)的介質(zhì)22噴射液體標(biāo)記劑的微滴32a、32b。在所描述的實(shí)施例中，筆30a、30b被配置成噴射包括不同顏色的墨(例如青色、品紅色、黃色或者黑色)的微滴32a、32b。在某些實(shí)施例中，打印設(shè)備18可以包括附加的筆以噴射附加的顏色的標(biāo)記劑的微滴和/或定影劑或者粘合劑。在所描繪的實(shí)施例中，沿著介質(zhì)路徑16 —個(gè)接一個(gè)連續(xù)地布置筆30a、30b，并且所述筆30a、30b被配置成在沿著紙路徑16移動(dòng)的介質(zhì)22上噴射微滴32a、32b，從而在鄰近于打印設(shè)備18的介質(zhì)22的單遍中形成彩色圖像。在其他實(shí)施例中，在鄰近于打印設(shè)備18 的介質(zhì)22的多遍中可以在介質(zhì)22上沉積不同的顏色。在又一附加實(shí)施例中，打印設(shè)備18只包括用來(lái)形成如上面提及的黑和白圖像的單個(gè)筆。在一個(gè)實(shí)施例中，噴嘴31a、31b與介質(zhì)22隔開(kāi)期望的距離(例如O. 5mm至I. 0mm)。圖2示出了介質(zhì)22上的液體標(biāo)記劑的微滴32a、32b。由筆30a、30b進(jìn)行的微滴32a,32b的噴射以在介質(zhì)22上形成硬圖像生成了相應(yīng)不同顏色的液體標(biāo)記劑的多個(gè)浮質(zhì)微滴34。特別地，當(dāng)從噴嘴31a、31b噴射微滴32a、32b時(shí)，由于所噴射的液體標(biāo)記劑和噴嘴31a、31b之間的粘附力，微滴32a、32b可能單獨(dú)地具有拉長(zhǎng)的形狀。與微滴32a、32b的尾部相比，微滴32a、32b的頭部可能以更快的速率移動(dòng)離開(kāi)筆30a、30b，所述微滴32a、32b的尾部可能失去它們的初始速度，其脫離微滴32a、32b并產(chǎn)生浮質(zhì)微滴34。與所噴射的微滴32a、32b相比，浮質(zhì)微滴34是相對(duì)小且輕的微滴(例如sub_pL)，并且可能保持懸浮在鄰近于介質(zhì)22并且在筆30a、30b的下游的空氣區(qū)域中，而微滴32a、32b繼續(xù)向下移動(dòng)到介質(zhì)22。在一個(gè)實(shí)施例中，微滴32a、32b單獨(dú)地具有近似12-40微米的直徑，以及I至40pL之間的體積，而浮質(zhì)微滴一個(gè)一個(gè)單獨(dú)地具有近似1-10微米的直徑以及近似O. 01至O. 3 pL的體積。這些浮質(zhì)微滴34可能落在硬成像設(shè)備10的各個(gè)部件(例如，筆30a、30b)和/或介質(zhì)22上。浮質(zhì)微滴34可能額外地落在其他部件上并且污染其他部件，所述其他部件諸如在所圖示的實(shí)施例中采用筆支撐結(jié)構(gòu)40的形式并且其被定位成鄰近于介質(zhì)路徑16并且在介質(zhì)路徑16上方的部件40。浮質(zhì)微滴34可能污染其他實(shí)施例中的硬成像設(shè)備10的其他部件。落在筆30a、30b、介質(zhì)22或其他部件40上的浮質(zhì)微滴34可能降低正被形成在介質(zhì)22上的硬圖像的打印質(zhì)量。更具體地，圖2圖示出了在筆30a下游的示例部件40。在一個(gè)示例中，部件40可以是用于筆30a和/或筆30b的支撐結(jié)構(gòu)。通過(guò)來(lái)自筆30a的微滴32a的噴射產(chǎn)生的浮質(zhì)微滴34可以被通過(guò)介質(zhì)22的移動(dòng)拉到下游并且粘附到部件40的下表面從而污染部件40。在一個(gè)示例中，所粘附的浮質(zhì)微滴34可能積聚為一小池液體標(biāo)記劑，其可能滴在介質(zhì)22上導(dǎo)致降低的打印質(zhì)量。此外，如上面所提及的那樣，定影劑或粘合劑也可能被筆30中的一個(gè)噴射，其也可能污染并且不利地影響打印操作。
如圖2中所示，介質(zhì)22的移動(dòng)可能產(chǎn)生在筆30a，30b以及介質(zhì)22之間的庫(kù)艾特流C，其產(chǎn)生剪應(yīng)力，該剪應(yīng)力可以在相對(duì)于介質(zhì)22以及庫(kù)艾特流C的移動(dòng)方向的下游方向上拖曳可能已經(jīng)積聚在筆30a、30b的下表面上的液體標(biāo)記劑以及浮質(zhì)微滴34。在一個(gè)實(shí)施例中，氣體注入系統(tǒng)50被用于朝著沿著介質(zhì)路徑16行進(jìn)的介質(zhì)22引導(dǎo)氣體。鄰近于筆30a表面的空氣速度為零，其導(dǎo)致由所注入的氣體產(chǎn)生第一和第二界線層24，25。在所圖示的實(shí)施例中，層24，25是在介質(zhì)路徑16和部件40之間產(chǎn)生的，并且界線層24更接近于介質(zhì)路徑16并且界線層25更接近于部件40。雖然在圖2中只示出了一個(gè)氣體注入系統(tǒng)50 (S卩，筆30a的下游)，但是可以在筆30b的下游提供另一氣體注入系統(tǒng)50。第一界線層24可以被稱為動(dòng)量界線層，而第二界線層25可以被稱為擴(kuò)散界線層。第一界線層24阻止浮質(zhì)微滴34向上移動(dòng)，然而，某些浮質(zhì)微滴34跨越界線層24進(jìn)入到過(guò) 渡區(qū)域中間層24、25中。更具體地，由于擴(kuò)散，某些浮質(zhì)微滴34向上遷移通過(guò)界線層24進(jìn)入到過(guò)渡區(qū)域中。第二界線層25還阻止過(guò)渡區(qū)域內(nèi)的浮質(zhì)微滴34進(jìn)一步向上移動(dòng)，與不利用氣體注入系統(tǒng)50或此類系統(tǒng)50不工作的布置相比較，其減少了由于浮質(zhì)微滴34引起的部件40的下表面的污染。在使用氣體注入系統(tǒng)50的一個(gè)實(shí)施例中，過(guò)渡區(qū)域中的微滴34的濃度從第一界線層24的緊上方的區(qū)域到界線層25上方減少到基本上為零。在描繪的示例中，氣體注入系統(tǒng)50包括被配置成從適當(dāng)?shù)脑醋⑷霘怏w流的供給系統(tǒng)。在描繪的實(shí)施例中，氣體注入系統(tǒng)50被配置成在鄰近于介質(zhì)路徑16并且在介質(zhì)路徑16上方的區(qū)域中并且在朝著介質(zhì)22的方向上注入氣體。在描繪的實(shí)施例中，氣體注入系統(tǒng)50被配置成在從筆30a的位置起相對(duì)于對(duì)應(yīng)于沿著介質(zhì)路徑16的介質(zhì)22的移動(dòng)方向的處理方向的下游的位置處注入氣體。在一個(gè)實(shí)施例中，筆30a以及氣體注入系統(tǒng)50被定位成鄰近于介質(zhì)路徑16的共同側(cè)并且緊鄰近于彼此。在一個(gè)實(shí)施例中，氣體注入系統(tǒng)50經(jīng)由噴嘴或端口 52在一個(gè)實(shí)施例中在基本垂直于處理方向的方向上噴射氣體，所述噴嘴或端口 52可以采用裂縫的形式，其在基本上跨越筆30a的整個(gè)寬度的方向上延伸。適當(dāng)?shù)臍怏w源可以是加壓的氣體源(例如，空氣)、被配置成例如經(jīng)由歧管將氣體流提供為朝著介質(zhì)路徑16的風(fēng)扇、或任何其他適當(dāng)?shù)牟贾?。氣體注入速度通常具有與具有氣體流的介質(zhì)速度(其是由于介質(zhì)22的移動(dòng)在介質(zhì)22和筆30a之間生成的空氣流速率的分?jǐn)?shù)(例如，10-50%))相同的數(shù)量級(jí)。在一個(gè)實(shí)施例中，期望由于通過(guò)系統(tǒng)50注入氣體來(lái)避免顯著的再循環(huán)或旋渦發(fā)生從而提供減少的污染。此外，在一個(gè)實(shí)施例中，還期望提供界線層24、25的受控增長(zhǎng)以幫助減少污染。當(dāng)成像區(qū)域(例如，在筆30a和部件40下方的區(qū)域)內(nèi)的注入的氣體和空氣向左移動(dòng)離開(kāi)噴嘴52時(shí)，界線層24，25在相反方向上增長(zhǎng)。第一界線層24在向下的方向上增長(zhǎng)，而第二界線層25在向上的方向上增長(zhǎng)。在一個(gè)實(shí)施例中，為了表面40的減少的污染，期望的是第二界線層25不充分地向上增長(zhǎng)以到達(dá)表面40，在其之上層25的界線效應(yīng)將減小。在一個(gè)實(shí)施例中，施密特?cái)?shù)(Sc)(其為無(wú)量綱數(shù))被用來(lái)比較第一和第二界線層24、25。在一個(gè)實(shí)施例中，施密特?cái)?shù)是動(dòng)量擴(kuò)散率和顆粒擴(kuò)散率的比較或比率，其可以根據(jù)公式I加以計(jì)算
_ 二 _ — . .. r /v-f 1c = 5 =............ "-T............ Λ其中V是在大氣條件下的空氣的運(yùn)動(dòng)粘度；D是空氣中的球形墨浮質(zhì)微滴的擴(kuò)散常數(shù)；r是浮質(zhì)微滴的半徑；T是鄰近于介質(zhì)路徑16的媒介(即，空氣)的溫度；以及k是玻爾茲曼常數(shù)。在一個(gè)實(shí)施例中，假定微滴上的斯托克斯的拖曳來(lái)計(jì)算空氣中的墨微滴的擴(kuò)散率(D)0如果施密特?cái)?shù)大于1，則當(dāng)它們的比率約為施密特?cái)?shù)的平方根時(shí)，第一界線層24以比第二界線層25更快的速率遠(yuǎn)離部件40的下表面增長(zhǎng)。圖3示出了作為以皮升(PL)計(jì)的浮質(zhì)液滴體積的函數(shù)的施密特?cái)?shù)的圖。圖3圖示出了對(duì)應(yīng)于液體標(biāo)記劑的浮質(zhì)微滴34的常規(guī)體積的第一范圍60以及對(duì)應(yīng)于液體標(biāo)記劑的微滴的常規(guī)范圍的第二范圍62。如圖3中所圖示出的那樣，對(duì)于對(duì)應(yīng)于浮質(zhì)微滴的感興趣體積范圍60而言，施密特?cái)?shù)大于I。因此，應(yīng)該相信的是，上述示例裝置以及方法應(yīng)當(dāng)以足夠的安全系數(shù)減少硬成像設(shè)備的部件表面上的污染。
浮質(zhì)微滴34中的某些可以被轉(zhuǎn)化成水蒸汽。期望避免水蒸汽在硬成像設(shè)備10的部件上(諸如部件40的下表面)的冷凝，其還可能不利地影響打印質(zhì)量。例如，在部件40的下表面上的冷凝的水蒸汽微滴可能滴在正被在其上成像的介質(zhì)22上?？梢葬槍?duì)水蒸汽計(jì)算施密特?cái)?shù)。在標(biāo)準(zhǔn)大氣條件下的空氣中的蒸汽擴(kuò)散率為2. IlX 10_5，其使用公式I提供O. 711的施密特?cái)?shù)。該值小于I指示的是與阻止浮質(zhì)微滴34接觸部件40相比，就阻止水蒸汽接觸部件40而言，上述氣體注入較不穩(wěn)健。因此，在一個(gè)實(shí)施例中，加熱器64被配置成預(yù)加熱將要被經(jīng)由氣體注入系統(tǒng)50注入的氣體和/或加熱鄰近于介質(zhì)路徑16的部件，諸如部件40。與不使用描述的加熱的布置相比，所注入氣體和/或部件的加熱幫助減少部件40上水蒸汽的冷凝。根據(jù)本文所描述的某些實(shí)施例，硬成像設(shè)備10包括浮質(zhì)微滴去除系統(tǒng)70，其被配置成從鄰近于介質(zhì)路徑16的空氣區(qū)域去除浮質(zhì)微滴34中的至少某些。在所圖示的示例中，浮質(zhì)微滴去除系統(tǒng)70被定位在從筆30a起的下游以及從筆30b起的上游的位置處。所描繪的浮質(zhì)微滴去除系統(tǒng)70包括抽吸設(shè)備，其被配置成引入抽吸以從鄰近于介質(zhì)路徑16的區(qū)域去除浮質(zhì)微滴34以及在收集系統(tǒng)中收集浮質(zhì)微滴。浮質(zhì)微滴去除系統(tǒng)70的其他配置是可能的。例如，浮質(zhì)微滴去除系統(tǒng)70可以被布置為如在共同未決的PCT申請(qǐng)中描述的那樣，該P(yáng)CT 申請(qǐng)具有受讓人案號(hào) 200803825,標(biāo)題為“Hard Imaging Devices and Hard ImagingMethods”，具有申請(qǐng)序列號(hào)PCT/US2009/039150，其于2009年4月I日提交，將Omer Gila、Napoleon J. Leoni、以及Michael H. Lee列為發(fā)明人，并且被轉(zhuǎn)讓給本受讓人。參見(jiàn)圖4，示出了根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的一個(gè)示例硬成像方法。在其他實(shí)施例中，其他方法是可能的，其包括更多、更少和/或替換的動(dòng)作。在動(dòng)作AlO處，可以從介質(zhì)源沿著介質(zhì)路徑移動(dòng)將在其上成像的介質(zhì)。在動(dòng)作A12處，一個(gè)或多個(gè)筆可以噴射液體標(biāo)記劑的多個(gè)微滴以形成硬圖像。微滴的噴射可以導(dǎo)致在鄰近于介質(zhì)路徑的空氣區(qū)域中形成液體標(biāo)記劑的多個(gè)浮質(zhì)微滴。在動(dòng)作A14處，氣體注入系統(tǒng)在朝著介質(zhì)路徑的方向上在從一個(gè)或多個(gè)筆起的下游注入一個(gè)或多個(gè)氣體流以產(chǎn)生一個(gè)或多個(gè)相應(yīng)的界線層。該界線層減少由浮質(zhì)微滴產(chǎn)生的硬成像設(shè)備的部件上的污染。在動(dòng)作A16處,在一個(gè)實(shí)施例中，例如使用浮質(zhì)微滴去除系統(tǒng)從鄰近于介質(zhì)路徑的空氣區(qū)域去除浮質(zhì)微滴中的至少某些。
在本文描述的氣體注入系統(tǒng)的一個(gè)實(shí)驗(yàn)性應(yīng)用中，通過(guò)使用氣體注入系統(tǒng)大大地減少了由支撐結(jié)構(gòu)上的浮質(zhì)微滴產(chǎn)生的污染。在這個(gè)具體示例中，使用單色的液體標(biāo)記劑以43%的覆蓋范圍以及l(fā)m/s的處理速度成像大約5400頁(yè)。在存在由氣體注入系統(tǒng)注入的氣體的情況下不需要部件的清潔，而在缺少由氣體注入系統(tǒng)注入的氣體的情況下，注意到噴嘴下游的部件的顯著污染。如上所述，根據(jù)某些實(shí)施例公開(kāi)了裝置和方法，其提供可能由于通過(guò)在介質(zhì)上打印生成的液體標(biāo)記劑的浮質(zhì)微滴的存在而產(chǎn)生的硬成像設(shè)備的部件的減少的污染。至少某些方面減少了可能不利地影響打印輸出的打印質(zhì)量的硬成像設(shè)備的部件上的液體標(biāo)記劑浮質(zhì)微滴的積聚(例如，在一個(gè)說(shuō)明性示例中，減少了在紙路徑上方的液體標(biāo)記劑浮質(zhì)微滴的積聚，其可能滴在介質(zhì)上)。所描述的實(shí)施例中的某些減少或消除了污染，并且因此減少了清潔周期的頻率或消除了清潔周期，所述清潔周期從部件去除污染。此外，本公開(kāi)內(nèi)容的至少某些方面可以被實(shí)現(xiàn)以減少由浮質(zhì)微滴引起的污染，所述浮質(zhì)微滴可以在界線層內(nèi)被俘獲(trap )并且不通過(guò)某些抽吸或其他技術(shù)去除。此外，在 不使用可能負(fù)面影響打印質(zhì)量的高壓空氣流設(shè)備(例如，以幾十米每秒噴出空氣的超級(jí)氣刀，其可能弄臟點(diǎn)和/或改變?cè)陲w行中的所噴出的點(diǎn)的軌跡)的情況下，本公開(kāi)內(nèi)容的至少某些方面去除浮質(zhì)微滴。此外，在缺少本文所述的氣體注入系統(tǒng)的情況下，在空氣流設(shè)備(例如，抽吸設(shè)備)或其他浮質(zhì)微滴去除系統(tǒng)和這些其他布置的噴嘴之間的區(qū)域可能仍然被液體標(biāo)記劑的浮質(zhì)微滴污染。在不損害打印質(zhì)量的情況下可以實(shí)現(xiàn)本公開(kāi)內(nèi)容的各方面，因?yàn)樗⑷氲臍怏w可以被優(yōu)化以不會(huì)不利地影響筆附近的空氣流情況。此外，可以與其他浮質(zhì)微滴去除系統(tǒng)結(jié)合地實(shí)現(xiàn)所公開(kāi)的結(jié)構(gòu)和方法。所尋求的保護(hù)不局限于僅通過(guò)示例的方式給出的所公開(kāi)的實(shí)施例，而相反是僅受到所附權(quán)利要求的范圍的限制。此外，本文中的各方面已經(jīng)被提出以用于在本公開(kāi)內(nèi)容的說(shuō)明性實(shí)施例的構(gòu)造和/或操作方面進(jìn)行引導(dǎo)。本(一個(gè)或多個(gè))申請(qǐng)人將這些所描述的說(shuō)明性實(shí)施例視為還包括、公開(kāi)和描述除了明確地公開(kāi)的那些之外的進(jìn)一步有創(chuàng)造性的方面。例如，該附加的有創(chuàng)造性的方面可以包括比在說(shuō)明性實(shí)施例中描述的那些更少、更多和/或替代的特征。在更特定的示例中，申請(qǐng)人將該公開(kāi)內(nèi)容視為包括、公開(kāi)和描述下述方法以及下述裝置，所述方法比明確地公開(kāi)的那些方法包括更少、更多和/或替代的步驟，所述裝置比明確地公開(kāi)的結(jié)構(gòu)包括更少、更多和/或替代的結(jié)構(gòu)。
權(quán)利要求
1.一種硬成像設(shè)備，其包括 筆30，其鄰近于介質(zhì)路徑16的第一位置，且被配置成在朝著沿著所述介質(zhì)路徑16移動(dòng)的介質(zhì)22的方向上噴射液體標(biāo)記劑的多個(gè)微滴32以便使用所述介質(zhì)22形成硬圖像，從所述筆30噴射所述液體標(biāo)記劑的所述微滴32產(chǎn)生了所述液體標(biāo)記劑的浮質(zhì)微滴34 ;以及 氣體注入系統(tǒng)50，其鄰近于所述介質(zhì)路徑16的第二位置，其在相對(duì)于沿著所述介質(zhì)路徑16的所述介質(zhì)22的移動(dòng)方向而言從所述第一位置起的下游，并且其中所述氣體注入系統(tǒng)50被配置成朝著所述介質(zhì)注入氣體。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的設(shè)備，其中所述氣體注入系統(tǒng)被配置成注入所述氣體以提供與缺少所述注入的氣體相比在所述硬成像設(shè)備10的至少一個(gè)部件40上的所述浮質(zhì)微滴34的減少的污染。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，進(jìn)一步包括加熱器64，其被配置成提供熱以減少在所述至少一個(gè)部件40上的蒸汽的冷凝。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的設(shè)備，進(jìn)一步包括浮質(zhì)微滴去除系統(tǒng)70，其被定位在從所述第一位置起的下游的另一位置處，且被配置成從鄰近于所述介質(zhì)路徑16的區(qū)域去除所述浮質(zhì)微滴34中的至少一些。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的設(shè)備，其中所述氣體的所述注入產(chǎn)生至少一個(gè)界線層24或25，其阻止所述浮質(zhì)微滴34中的至少一些的移動(dòng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備，其中所述氣體的注入在所述介質(zhì)路徑16和所述硬成像設(shè)備的至少一個(gè)部件40之間產(chǎn)生第一和第二界線層24，25，并且與缺少所述注入的氣體相t匕，所述第一和第二界線層減少了在所述硬成像設(shè)備10的至少一個(gè)部件40上的所述浮質(zhì)微滴34的污染。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的設(shè)備，其中所述氣體注入系統(tǒng)50以及所述筆30被定位在鄰近于所述介質(zhì)路徑16的共同側(cè)，并且所述氣體注入系統(tǒng)50被定位在緊鄰近于在所述第一位置處的所述筆30的所述第二位置處。
8.一種硬成像設(shè)備，其包括 筆30，其鄰近于介質(zhì)路徑16的第一位置，且被配置成在朝著沿著所述介質(zhì)路徑16移動(dòng)的介質(zhì)22的方向上噴射液體標(biāo)記劑的多個(gè)微滴32以便使用所述介質(zhì)22形成硬圖像；以及 氣體注入系統(tǒng)50，其鄰近于所述介質(zhì)路徑16的第二位置，其在相對(duì)于沿著所述介質(zhì)路徑16的所述介質(zhì)22的移動(dòng)方向而言從所述第一位置起的下游，并且所述氣體注入系統(tǒng)50被配置成注入氣體以產(chǎn)生鄰近于所述介質(zhì)路徑16的至少一個(gè)界線層24或25。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備，其中所述微滴32的噴射產(chǎn)生所述液體標(biāo)記劑的多個(gè)浮質(zhì)微滴34，并且所述氣體注入系統(tǒng)50被配置成注入所述氣體以產(chǎn)生所述至少一個(gè)界線層24或25，以提供與缺少所述注入的氣體相比在從所述筆30起的下游的所述硬成像設(shè)備10的至少一個(gè)部件40上的所述浮質(zhì)微滴34的減少的污染。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備，進(jìn)一步包括浮質(zhì)微滴去除系統(tǒng)70，其被定位在從所述第一位置起的下游的位置處，且被配置成從鄰近于所述介質(zhì)路徑22的區(qū)域去除所述浮質(zhì)微滴34中的至少一些。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備，其中所述微滴32的所述噴射產(chǎn)生所述液體標(biāo)記劑的多個(gè)浮質(zhì)微滴34，并且所述至少一個(gè)界線層24或25阻止所述浮質(zhì)微滴34中的至少一些的移動(dòng)。
12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備，其中所述氣體的所述注入產(chǎn)生鄰近于所述介質(zhì)路徑.16的多個(gè)界線層24，25。
13.一種硬成像設(shè)備操作方法，其包括 沿著介質(zhì)路徑16移動(dòng)介質(zhì)22 ； 在沿著所述介質(zhì)路徑16的第一位置處，在朝著所述介質(zhì)22的方向上噴射液體標(biāo)記劑的多個(gè)微滴32以便使用所述介質(zhì)22形成硬圖像，所述噴射產(chǎn)生了所述液體標(biāo)記劑的多個(gè)浮質(zhì)微滴34;以及 在沿著所述介質(zhì)路徑16的、在相對(duì)于沿著所述介質(zhì)路徑16的所述介質(zhì)22的移動(dòng)方向而言從所述第一位置起的下游的第二位置處，朝著所述介質(zhì)路徑16注入氣體，以減少與缺少所述氣體的注入相比由在所述硬成像設(shè)備10的至少一個(gè)部件40上的所述浮質(zhì)微滴34產(chǎn)生的污染。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，進(jìn)一步包括，在從所述第一位置起的下游的另一位置處，從鄰近于所述介質(zhì)路徑16的區(qū)域去除所述浮質(zhì)微滴34中的至少一些。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中所述注入所述氣體產(chǎn)生至少一個(gè)界線層24或.25，其阻止所述浮質(zhì)微滴34中的至少一些移動(dòng)到所述至少一個(gè)部件40。
全文摘要
描述了硬成像設(shè)備和硬成像設(shè)備操作方法。根據(jù)一種布置，硬成像設(shè)備包括筆，其鄰近于介質(zhì)路徑的第一位置且被配置成在朝著沿著所述介質(zhì)路徑移動(dòng)的所述介質(zhì)的方向上噴射液體標(biāo)記劑的多個(gè)微滴以便使用所述介質(zhì)形成硬圖像，從所述筆噴射所述液體標(biāo)記劑的所述微滴產(chǎn)生了所述液體標(biāo)記劑的浮質(zhì)微滴；以及氣體注入系統(tǒng)，其鄰近于所述介質(zhì)路徑的第二位置，其在相對(duì)于沿著所述介質(zhì)路徑的介質(zhì)移動(dòng)方向而言從所述第一位置起的下游，并且其中所述氣體注入系統(tǒng)被配置成朝著所述介質(zhì)注入氣體。
文檔編號(hào)B41J29/38GK102712200SQ201080062312
公開(kāi)日2012年10月3日 申請(qǐng)日期2010年1月25日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月25日
發(fā)明者M.H.李, N.J.萊奧尼, O.吉拉 申請(qǐng)人:惠普發(fā)展公司，有限責(zé)任合伙企業(yè)