專利名稱：噴墨記錄介質(zhì)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及噴墨記錄介質(zhì)。
背景技術(shù)：
噴墨記錄介質(zhì)通常包括支持基材和其上設(shè)置的墨接受層，該墨接受層具有用粘結(jié)劑例如聚(乙烯醇)(PVA)將顏料例如二氧化硅或水合氧化鋁保持的多孔結(jié)構(gòu)。要求如上所述的噴墨記錄介質(zhì)改善墨吸收性、顯色性、耐泛金光(bronzing)性等。日本專利公開No. 2006-110771公開了噴墨記錄介質(zhì)，其在支持基材上具有至少兩個(gè)均含有細(xì)二氧化硅顆粒的墨接受層。該記錄介質(zhì)中，至少一個(gè)遠(yuǎn)離該支持基材的墨接受層含有水溶性鋯化合物，并且水溶性鋁化合物不均勻地分布在整個(gè)墨接受層中且更濃密地分布在其更靠近該支持基材的部分中。

發(fā)明內(nèi)容
在記錄介質(zhì)上連續(xù)進(jìn)行的高速打印中，將記錄介質(zhì)在兩輥之間夾持的同時(shí)進(jìn)行搬運(yùn)時(shí)要求改善搬運(yùn)精度。為了改善搬運(yùn)精度，必須使用在其間夾持紙時(shí)不易變形的硬輥。將上述硬輥用于搬運(yùn)時(shí)，例如，由于輥形成的壓痕(輥痕(roller mark))，會(huì)使記錄介質(zhì)的質(zhì)量降低。特別地，由于高濕度環(huán)境中的水分吸收，墨接受層溶脹并軟化，因此容易產(chǎn)生輥痕。本發(fā)明人通過使用噴墨打印機(jī)在日本專利公開No. 2006-110771中公開的記錄介質(zhì)上進(jìn)行打印，從而對(duì)輥痕進(jìn)行研究。結(jié)果，在一些情況下，在高濕度環(huán)境中產(chǎn)生輥痕。用交聯(lián)劑使墨接受層中的粘結(jié)劑充分交聯(lián)時(shí)，能夠抑制輥痕的產(chǎn)生；但是，單純地增加交聯(lián)劑時(shí)，墨接受層抗彎曲的柔韌性傾向于降低。此外，由于近年的噴墨打印機(jī)已不斷地小型化，因此傾向于采用記錄介質(zhì)的紙搬運(yùn)通路具有非常高的曲率的搬運(yùn)系統(tǒng)。因此，用噴墨打印機(jī)進(jìn)行打印時(shí)，在搬運(yùn)紙的步驟中，記錄介質(zhì)在非常高的曲率下彎曲，特別地，在低濕度環(huán)境中進(jìn)行打印時(shí)，在墨接受層中不利地產(chǎn)生開裂(彎曲開裂)。因此，本發(fā)明提供噴墨記錄介質(zhì)，其在改善墨吸收性、顯色性和耐泛金光性的同時(shí)，抑制輥痕的產(chǎn)生和彎曲開裂的產(chǎn)生。根據(jù)本發(fā)明的噴墨記錄介質(zhì)包括支持基材；和設(shè)置在該支持基材上的至少兩個(gè)墨接受層，其中該至少兩個(gè)墨接受層中的兩個(gè)墨接受層均含有選自氧化鋁和水合氧化鋁中的至少一種、聚(乙烯醇)、選自硼酸和硼酸鹽中的至少一種和水溶性鋯化合物，并且接近該支持基材的兩個(gè)墨接受層之一的硼酸、硼酸鹽和水溶性鋯鹽的總含量其氧化鋁和水合氧化鋁的總含量高于遠(yuǎn)離該支持基材的另一墨接受層的硼酸、硼酸鹽和水溶性鋯鹽的總含量其氧化鋁和水合氧化鋁的總含量。根據(jù)本發(fā)明，提供噴墨記錄介質(zhì)，其在改善墨吸收性、顯色性和耐泛金光性的同時(shí)，抑制輥痕的產(chǎn)生和彎曲開裂的產(chǎn)生。由以下對(duì)示例性實(shí)施方案的說明，本發(fā)明進(jìn)一步的特征將變得清楚。
具體實(shí)施例方式
以下對(duì)本發(fā)明的詳細(xì)情況進(jìn)行說明?！磭娔涗浗橘|(zhì)〉本發(fā)明的噴墨記錄介質(zhì)具有支持基材和設(shè)置在其上的至少兩個(gè)墨接受層。該至少兩個(gè)墨接受層中的兩個(gè)墨接受層中，一個(gè)墨接受層(下層)與該支持基材接近，另一個(gè)墨接受層(上層)遠(yuǎn)離該支持基材。這兩個(gè)墨接受層均為具有至少0. lg/m2以上的干燥涂布量的層。在該上層上，例如，為了光澤控制等，也可設(shè)置本發(fā)明沒有規(guī)定的最上層，其具有小于 0. lg/m2的涂布量。最上層優(yōu)選為包括，例如，顆粒，例如氣相法二氧化硅、膠體二氧化硅、其他無機(jī)細(xì)顆粒、或有機(jī)細(xì)顆粒，親水性粘結(jié)劑，交聯(lián)劑和活化劑的層。盡管可將該下層直接設(shè)置在該支持基材上，例如，為了改善粘合性、墨固著性等，可在該下層和該支持基材之間設(shè)置本發(fā)明沒有規(guī)定的另一層(預(yù)涂層)。對(duì)該預(yù)涂層并無特別限制，并且可使用具有已知組成的層。盡管后述，本發(fā)明的兩個(gè)墨接受層均含有選自氧化鋁和水合氧化鋁中的至少一種、聚(乙烯醇)、選自硼酸和硼酸鹽中的至少一種和水溶性鋯化合物。另一方面，這兩個(gè)墨接受層以外的墨接受層均不含有選自氧化鋁和水合氧化鋁中的至少一種、聚(乙烯醇)、選自硼酸和硼酸鹽中的至少一種和水溶性鋯化合物的全部。此外，本發(fā)明的噴墨記錄介質(zhì)可在該支持基材的兩個(gè)表面上具有墨接受層。〈支持基材〉作為用于本發(fā)明的支持基材，例如，可提及吸水性支持基材，例如普通紙和涂布紙，和耐水性支持基材，例如合成紙、塑料膜和樹脂涂布紙。特別地，優(yōu)選使用通過用樹脂涂布層覆蓋基紙而形成的樹脂涂布紙。對(duì)樹脂涂布紙的基紙并無特別限制，可使用通常使用的紙，優(yōu)選例如用作照相支持基材的平滑的基紙。作為形成基紙的紙漿，可單獨(dú)使用天然漿、再生漿、合成漿等，或者可將其至少兩種一起混合使用?？蓪⑼ǔＳ糜谠旒埖奶砑觿?，例如施膠劑、紙?jiān)鰪?qiáng)劑、填料、抗靜電劑、熒光增白劑和染料與該基紙一起共混。此外，可以將例如表面施膠劑、紙表面強(qiáng)度劑、熒光增白劑、抗靜電劑、染料、粘合劑施涂到基紙的表面。樹脂涂布紙用基紙的厚度優(yōu)選為50 μ m以上。如果具有50 μ m以上的厚度，該基紙保持足夠的抗拉伸和撕裂的強(qiáng)度并且也能夠抑制其質(zhì)感的下降。盡管對(duì)基紙的厚度的上限沒有特別限制，但其厚度優(yōu)選為350μπι以下。如果厚度為350μπι以下，良好地防止記錄介質(zhì)的處理不方便，并且也良好地防止其成本增加。此外，作為基紙，優(yōu)選具有良好的表面平滑性的紙，其通過例如以如下方式進(jìn)行的表面處理而加工在造紙的過程中或之后通過壓光等施加壓力，并且優(yōu)選使用密度為0. 6-1. 2g/cm3的基紙。密度為1. 2g/cm3以下時(shí)，能夠保持足夠的緩沖性。此外，具有上述密度的基紙的搬運(yùn)性優(yōu)異。此外，密度為0. 6g/cm3以上時(shí)，能夠改善表面平滑性。密度更優(yōu)選為0. 7g/cm3以上。樹脂涂布紙的樹脂涂布層的厚度優(yōu)選為5-50 μ m并且更優(yōu)選為8_40 μ m。根本地， 樹脂涂布層的厚度由與基紙的厚度有關(guān)的卷曲性適當(dāng)確定；但是，厚度為5μπ 以上時(shí)，能夠良好地防止來自樹脂表面的水和/或氣體滲透性的增加和彎曲導(dǎo)致的墨接受層中開裂的產(chǎn)生。此外，厚度為50 μ m以下時(shí)，能夠良好地防止耐卷曲性下降。作為用于樹脂涂布層的樹脂，優(yōu)選使用低密度聚乙烯(LDPE)或高密度聚乙烯 (HDPE)。作為其他樹脂，也可使用線型低密度聚乙烯(LLDPE)、聚丙烯等。
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形成墨接受層的一側(cè)(表面?zhèn)?的樹脂涂布層優(yōu)選為具有改善的不透明性、白色度和色相的樹脂涂布層，其通過將金紅石或銳鈦型氧化鈦、熒光增白劑等添加到聚乙烯中而形成。形成墨接受層的一側(cè)(表面?zhèn)?的樹脂涂布層中二氧化鈦的含量，相對(duì)于樹脂涂布層中的樹脂，優(yōu)選為3-20質(zhì)量％并且更優(yōu)選為4-13質(zhì)量％。作為樹脂涂布紙，可使用例如光澤紙，此外，也可使用具有絹絲表面的紙，例如通過熔融擠出將聚乙烯施涂在基紙的表面上時(shí)通過進(jìn)行所謂的壓花處理而在通常的照相紙中得到的具有絹絲表面的紙。此外，作為用于本發(fā)明的塑料膜，可以提及例如熱塑性樹脂，例如聚乙烯、聚丙烯、 聚苯乙烯、聚(氯乙烯)或聚酯。此外，還可提及例如由熱固性樹脂，例如脲醛樹脂、蜜胺樹脂或酚醛樹脂制造的膜。用于本發(fā)明的塑料膜的厚度優(yōu)選為50 250 μ m。<墨接受層>根據(jù)本發(fā)明的噴墨記錄介質(zhì)的兩個(gè)墨接受層均含有選自氧化鋁和水合氧化鋁中的至少一種、聚(乙烯醇)、選自硼酸和硼酸鹽中的至少一種和水溶性鋯化合物。本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，將水溶性鋯化合物作為第二交聯(lián)劑與用作交聯(lián)劑的選自硼酸和硼酸鹽中的至少一種一起使用時(shí)，能夠顯著改善在墨接受層上形成輥痕的容易程度。另一方面，還發(fā)現(xiàn)通過將選自硼酸和硼酸鹽中的至少一種與水溶性鋯化合物一起使用，通過近來的搬運(yùn)通路具有高曲率的噴墨打印機(jī)在低濕度環(huán)境中進(jìn)行打印時(shí)，容易產(chǎn)生開裂(彎曲開裂)。因此，為了解決將選自硼酸和硼酸鹽中的至少一種與水溶性鋯化合物一起使用所產(chǎn)生的問題并且由上述組合使用抑制引起的輥痕產(chǎn)生，本發(fā)明人進(jìn)一步進(jìn)行了深入研究。 結(jié)果，本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)上述問題的解決方案，即，以將墨接受層形成為具有有至少兩層的多層結(jié)構(gòu)，并且與支持基材接近的墨接受層中相對(duì)于其氧化鋁和水合氧化鋁的總含量的硼酸、 硼酸鹽和水溶性鋯鹽的總含量高于遠(yuǎn)離該支持基材的墨接受層中相對(duì)于其氧化鋁和水合氧化鋁的總含量的硼酸、硼酸鹽和水溶性鋯鹽的總含量的方式形成結(jié)構(gòu)時(shí)，上述問題能夠得以克服。本發(fā)明中，下層的相對(duì)于其氧化鋁和水合氧化鋁的總含量的硼酸、硼酸鹽和水溶性鋯鹽的總含量與上層的相對(duì)于其氧化鋁和水合氧化鋁的總含量的硼酸、硼酸鹽和水溶性鋯鹽的總含量之差優(yōu)選為0. 2-3. 0質(zhì)量％，更優(yōu)選為0. 5-1. 7質(zhì)量％，進(jìn)一步優(yōu)選為 0. 7-1. 5 質(zhì)量 ％。順便提及，墨接受層是墨接受層涂布液的固體材料并且能夠通過將上述墨接受層涂布液施涂于支持基材，然后進(jìn)行干燥而形成。因此，例如，相對(duì)于下層中含有的氧化鋁和水合氧化鋁的總量的其中含有的硼酸、硼酸鹽和水溶性鋯鹽的總量與相對(duì)于形成該下層的墨接受層涂布液中含有的氧化鋁和水合氧化鋁的總含量的其中含有的硼酸、硼酸鹽和水溶性鋯鹽的總含量大致相當(dāng)。如上所述，作為本發(fā)明規(guī)定的兩個(gè)墨接受層以外的最上層、預(yù)涂層等，可使用均具有已知組成的層。以下對(duì)該涂布液詳細(xì)說明。用于本發(fā)明的墨接受層涂布液含有分散液、聚(乙烯醇)、選自硼酸和硼酸鹽中的至少一種和水溶性鋯化合物，在該分散液中用后述的抗絮凝酸將選自氧化鋁和水合氧化鋁中的至少一種解絮凝。[墨接受層涂布溶液](氧化鋁和水合氧化鋁)
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本發(fā)明的墨接受層含有選自氧化鋁和水合氧化鋁中的至少一種作為顏料。本發(fā)明中優(yōu)選使用的水合氧化鋁由下述通式(1)表示。通式(1)Al203_n (OH) 2n · mH20(上式中，η表示0、1、2和3中之一，和m表示0-10并且優(yōu)選0-5。由于HiH2O表示在多數(shù)情況下不負(fù)責(zé)形成晶格的可脫離水相，因此在一些情況下m可不為整數(shù)。此外，將水合氧化鋁煅燒時(shí)，m可為0。但是，η和m不可同時(shí)為0。)在上述的那些中，優(yōu)選具有由X射線衍射法分析的勃姆石結(jié)構(gòu)或無定形結(jié)構(gòu)的水合氧化鋁。作為具體實(shí)例，可提及例如日本專利公開No. 7-232473,8-132731,9-66664和 9-76628中公開的水合氧化鋁。作為用于本發(fā)明的水合氧化鋁的形狀的具體例，可以提及無定形水合氧化鋁或者球狀或板狀水合氧化鋁，并且這些水合氧化鋁可以單獨(dú)或者組合使用。特別地，優(yōu)選初級(jí)粒子的數(shù)均顆粒直徑為5-50nm的水合氧化鋁，并且優(yōu)選具有2以上的縱橫比的板狀水合氧化鋁。通過日本專利公開No. 5-16015中公開的方法能夠得到縱橫比。即，縱橫比由顆粒的“直徑”與其“厚度”之比表示。這種情況下的直徑表示具有與用顯微鏡或電子顯微鏡觀察水合氧化鋁時(shí)得到的顆粒的投影面積相等面積的圓的直徑(圓相當(dāng)直徑)。此外，優(yōu)選具有100-200m2/g的基于BET法計(jì)算的比表面積的水合氧化鋁，更優(yōu)選具有125-175m2/g的比表面積的水合氧化鋁。BET法是一種通過氣相吸附法的粉末的表面積測定方法并且是用于由吸附等溫線得到Ig樣品的總表面積，即比表面積的方法。該BET法通常使用氮?dú)庾鳛槲綒怏w，并且最常使用從吸附氣體的壓力或體積的變化來測定吸附量的方法。該測定中， Brunauer, Emmett和"Teller式，稱為BET式，是表示多分子吸附的等溫線的最著名的式并且已廣泛用于確定比表面積。在上述BET法中，基于BET式得到吸附量并且乘以由一個(gè)吸附分子占據(jù)的表面的面積，由此得到比表面積。BET法中，通過根據(jù)氮吸附解吸法進(jìn)行的測定來測定相對(duì)壓力與吸附量之間的幾個(gè)關(guān)系，通過最小二乘法得到上述關(guān)系的圖的斜率和截距，由此得到比表面積。本發(fā)明中，測定相對(duì)壓力與吸附量之間的10個(gè)關(guān)系以計(jì)算。水合氧化鋁可通過已知方法，例如美國專利No. 4，242, 271和4，202，870中公開的使鋁的醇鹽水解的方法和使鋁酸鈉水解的方法制造。此外，水合氧化鋁也可通過已知方法，例如，例如在日本專利公開No. 57-447605中公開的將硫酸鋁、氯化鋁等的水溶液添加到鋁酸鈉等的水溶液中以中和的方法制造。作為用于本發(fā)明的優(yōu)選的水合氧化鋁的具體例，可提及以下實(shí)例。即，可提及具有通過X射線衍射法分析的勃姆石結(jié)構(gòu)或無定形結(jié)構(gòu)的水合氧化鋁，并且特別地，可提及例如在日本專利公開No. 7-232473,8-132731,9-66664和 9-76628中公開的水合氧化鋁。此外，作為水合氧化鋁的具體例，也可提及可商購的水合氧化鋁(商品名:DISPERAL HP14,由 Sasol Ltd.制造)。作為氧化鋁，可提及例如Y-氧化鋁、α-氧化鋁、δ-氧化鋁、θ -氧化鋁和χ-氧化鋁。在上述這些中，在顯色性和墨吸收性方面優(yōu)選通過氣相法合成的Y-氧化鋁。此外， 通過在400°C _900°C的溫度下將通過已知方法制造的水合氧化鋁加熱和燒成，得到Y(jié)-氧化鋁?？蓪⑸鲜龅乃涎趸X和氧化鋁混合使用。即，將粉末狀水合氧化鋁和粉末狀氧化鋁混合并且分散以形成分散液，或者可將水合氧化鋁分散液和氧化鋁分散液混合使用。特別地，由于尤其使墨吸收性得到改善，因此優(yōu)選將與通過氣相法合成的Y-氧化鋁混合的水合氧化鋁用于本發(fā)明的上層。水合氧化鋁與通過氣相法合成的Y-氧化鋁的混合質(zhì)量比優(yōu)選為50 50 95 5。此外，該混合質(zhì)量比更優(yōu)選為70 30 90 10。 本發(fā)明中，只要不削弱本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)，也可將其他顏料，例如氣相法二氧化硅和氫氧化鎂與選自氧化鋁和水合氧化鋁中的至少一種一起用作顏料。(分散液)優(yōu)選地，用于本發(fā)明的選自氧化鋁和水合氧化鋁中的至少一種為用抗絮凝劑解絮凝的水分散液的狀態(tài)并包含在墨接受層涂布液中。當(dāng)水合氧化鋁和氧化鋁各自獨(dú)立地使用時(shí)，水合氧化鋁分散液和氧化鋁分散液各自作為用抗絮凝劑解絮凝的水分散液制備。含有用于本發(fā)明的選自水合氧化鋁和氧化鋁中的至少一種的分散液含有水合氧化鋁和氧化鋁中的至少一種和抗絮凝劑。本發(fā)明中，優(yōu)選使用酸(抗絮凝酸)作為抗絮凝劑。具體地，作為該抗絮凝酸，優(yōu)選使用由以下通式( 表示的一價(jià)磺酸，原因在于圖像的耐臭氧性顯著優(yōu)異，并且在高濕度環(huán)境中的圖像模糊能夠良好地抑制。通式(2)R-SO3H(通式O)中，R表示氫原子或者具有1-3個(gè)碳原子的支化或未支化的烷基或烯基。但是，R可具有選自氧代基團(tuán)(0X0 group)、鹵素原子、烷氧基(-OR')和酰基 (R' -C0-)中的至少一種作為取代基，并且R'表示氫原子、甲基或乙基。)作為由通式(2)表示的磺酸的具體實(shí)例，可提及以下物質(zhì)。即，可提及例如甲磺酸、乙磺酸、1-丙磺酸、2-丙磺酸、氯甲磺酸、二氯甲磺酸、三氯甲磺酸和三氟甲磺酸。上述的這些化合物可單獨(dú)或組合使用。含有水合氧化鋁和氧化鋁兩者的分散液可以如下方式制備，例如，將粉末狀水合氧化鋁和粉末狀氧化鋁混合在一起，如果需要與上述的添加劑一起將酸和分散介質(zhì)添加于其中。此外，含有水合氧化鋁和氧化鋁兩者的分散液也可以如下方式制備分別制備水合氧化鋁分散液和氧化鋁分散液后，將這兩種分散液混合在一起。涂布液的溶膠固形分濃度優(yōu)選設(shè)定為10-40質(zhì)量％。溶膠固形分濃度為10質(zhì)量％ 以上時(shí)，在涂布過程中能夠良好地防止開裂的產(chǎn)生。溶膠固形分濃度為40質(zhì)量％以下時(shí)， 能夠良好地防止由不穩(wěn)定的溶膠引起的容易膠凝，因此，能夠良好地防止涂布性能降低。考慮到溶膠的粘度穩(wěn)定性，溶膠固形分濃度特別優(yōu)選為20-35質(zhì)量％。順便提及，涂布液的溶膠固形分濃度表示涂布液中溶膠的總固形分的質(zhì)量在其溶膠中所占的百分率。例如，通過酸的種類以及水合氧化鋁和氧化鋁的粒徑和比表面積來確定將用于本發(fā)明的水合氧化鋁和氧化鋁解絮凝的酸的量。特別地，在含有選自水合氧化鋁和氧化鋁中的至少一種的涂布液中，相對(duì)于Ikg的水合氧化鋁和氧化鋁的總量，優(yōu)選含有100-500mmol 的量的抗絮凝酸。當(dāng)抗絮凝酸的量為IOOmmol以上時(shí)，能夠良好地防止溶膠粘度的大幅增加。另一方面，抗絮凝酸的量為500mmol以下的情況下，能夠良好地防止泛金光和beading 的產(chǎn)生，因此能夠良好地防止圖像質(zhì)量降低。含有選自水合氧化鋁和氧化鋁中的至少一種的分散液中的顆粒，也可通過進(jìn)一步進(jìn)行使用粉碎解絮凝機(jī)等的物理處理而使其具有所需的顆粒直徑。作為粉碎解絮凝機(jī)，可使用各種已知的解絮凝機(jī)?？梢蕴峒袄绺邏壕?、超聲波均化器、濕式介質(zhì)型粉碎機(jī) (砂磨機(jī)或球磨機(jī))、連續(xù)高速攪拌型解絮凝機(jī)和超聲波解絮凝機(jī)。
含有選自水合氧化鋁和氧化鋁中的至少一種的分散液可進(jìn)一步含有，例如，顏料分散劑、增稠劑、流體改進(jìn)劑、消泡劑、抑泡劑、表面活性劑、脫模劑、滲透劑、著色顏料、著色染料、熒光增白劑、紫外線吸收劑、抗氧劑、防腐劑、殺真菌劑、耐水添加劑、染料固定劑、固化劑和耐候材料。作為用于含有選自水合氧化鋁和氧化鋁中的至少一種的分散液的分散介質(zhì)，優(yōu)選使用水。(聚乙烯醇)本發(fā)明的墨接受層含有聚(乙烯醇)作為粘結(jié)劑。特別地，考慮到墨吸收性，作為聚(乙烯醇)，優(yōu)選使用完全或部分皂化的聚(乙烯醇)或陽離子改性聚(乙烯醇)。此外， 考慮到耐水性和顯色性，更優(yōu)選使用具有2，000以上的重均聚合度和85-98摩爾％的皂化度的聚(乙烯醇)。此外，重均聚合度更優(yōu)選為2，000-5，000。作為陽離子改性聚(乙烯醇)，優(yōu)選例如日本專利公開No. 61-10483中公開的在其主鏈或側(cè)鏈中具有伯-叔氨基之一或季銨基的聚(乙烯醇)。聚(乙烯醇)優(yōu)選以水溶液的狀態(tài)使用。含有聚(乙烯醇)的水溶液的聚(乙烯醇)干燥固形分濃度優(yōu)選為3-20質(zhì)量％。如上所述設(shè)定干燥固形分濃度時(shí)，能夠良好地防止由于涂布液的濃度的過度降低而產(chǎn)生的干燥速度的大幅降低，另一方面，能夠抑制由于涂布液的濃度的增加而產(chǎn)生的其粘度的大幅增加，以致特別地，能夠防止涂布表面的平滑性下降。此外，盡管根據(jù)需要也可將聚(乙烯醇)以外的粘結(jié)劑與其一起使用，但考慮到顯色性，相對(duì)于使用的聚(乙烯醇)的量，該粘結(jié)劑的量優(yōu)選設(shè)定為50質(zhì)量％以下。形成墨接受層的上層的涂布液(以下稱為“上層形成用涂布液”)中含有的聚(乙烯醇)的量，考慮到干燥過程中產(chǎn)生的涂布表面開裂和/或墨吸收性，相對(duì)于上層形成用涂布液中含有的氧化鋁和水合氧化鋁的總固形分的量，優(yōu)選為5. 0-15. 0質(zhì)量％，更優(yōu)選為 5. 0-13. 0質(zhì)量％，進(jìn)一步優(yōu)選為7. 0-11. 0質(zhì)量％。此外，形成墨接受層的下層的涂布液(以下稱為“下層形成用涂布液”)中含有的聚(乙烯醇)的量，考慮到干燥過程中產(chǎn)生的涂布表面開裂和/或墨吸收性，相對(duì)于下層形成用涂布液中含有的氧化鋁和水合氧化鋁的總固形分的量，優(yōu)選為5. 0-15. 0質(zhì)量％，更優(yōu)選為7. 0-15. 0質(zhì)量％，進(jìn)一步優(yōu)選為8. 0-13. 0質(zhì)量％。(硼酸和硼酸鹽)本發(fā)明的墨接受層含有選自硼酸和硼酸鹽中的至少一種。盡管可以將硼酸和硼酸鹽中的至少一種與聚(乙烯醇)一起添加到墨接受層涂布液中，但對(duì)上述化合物的添加順序并不特別限制。這種情況下，作為用作交聯(lián)劑的硼酸，可提及例如原硼酸(H3BO3)、偏硼酸和連二硼酸。作為硼酸鹽，可提及例如原硼酸鹽，例如LBO3JcBO3 JBO3、LaBO3、Ife3 (BO3)2或 Co3(BO3)2 ；二硼酸鹽，例如 Mg2B2O5 或 Co2B2O5 ；偏硼酸鹽，例如 LiBO2、Ca (BO2) 2、NaBO2 或 KBO2 ； 四硼酸鹽，例如 Na2B4O7 · IOH2O,五硼酸鹽，例如 KB5O8 · 4H20、Ca2B6O11 · 7H20 或 CsB5O50 這些硼酸和硼酸鹽中，考慮到涂布液的經(jīng)時(shí)穩(wěn)定性和抑制開裂產(chǎn)生的效果，優(yōu)選使用原硼酸。優(yōu)選以水溶液的狀態(tài)使用原硼酸。含有原硼酸的水溶液的干燥固形分濃度優(yōu)選為0. 5-8. 0質(zhì)量％。如上所述設(shè)定該固形分濃度時(shí)，能夠良好地防止由于涂布液的濃度下降而產(chǎn)生的干燥速度的大幅下降，并且特別地，能夠防止原硼酸沉淀。作為添加硼酸和硼酸鹽的方法，可提及例如以下的方法。可提及，例如，將硼酸和硼酸鹽直接添加到涂布液中后，通過間歇式系統(tǒng)進(jìn)行涂布的方法；預(yù)先將硼酸和硼酸鹽添加到水合氧化鋁或氧化鋁的分散液中，并且
8在涂布前即刻將該分散液與粘結(jié)劑一起連續(xù)地混合，同時(shí)進(jìn)行涂布的方法；將硼酸和硼酸鹽分別溶解于水性介質(zhì)中并且在涂布前即刻在線添加到涂布液中的方法；和施涂含有粘結(jié)劑和水合氧化鋁或氧化鋁的涂布液前后，施涂含有硼酸和硼酸鹽的溶液的方法，并且可以使用任何上述的方法。上層形成用涂布液中含有的硼酸和硼酸鹽的添加量，考慮到涂布液的經(jīng)時(shí)穩(wěn)定性和抑制開裂產(chǎn)生的效果，相對(duì)于其中含有的氧化鋁和水合氧化鋁的總量，優(yōu)選為0. 3-2. 0質(zhì)量％，并且更優(yōu)選為0. 5-1. 5質(zhì)量％。此外，下層形成用涂布液中含有的硼酸和硼酸鹽的添加量，考慮到涂布液的經(jīng)時(shí)穩(wěn)定性和抑制開裂產(chǎn)生的效果，相對(duì)于其中含有的氧化鋁和水合氧化鋁的總量，優(yōu)選為1.0-2. 5質(zhì)量％，并且更優(yōu)選為1.7-2. 2質(zhì)量％。 此外，下層形成用涂布液中相對(duì)于氧化鋁和水合氧化鋁的總量的硼酸和硼酸鹽的添加量優(yōu)選大于上層形成用涂布液中相對(duì)于氧化鋁和水合氧化鋁的總量的硼酸和硼酸鹽的添加量。此外，上層形成用涂布液和下層形成用涂布液的每一種中含有的硼酸和硼酸鹽的量，考慮到涂布液的經(jīng)時(shí)穩(wěn)定性和抑制開裂產(chǎn)生的效果，相對(duì)于每一種涂布液中含有的聚 (乙烯醇)的量，優(yōu)選為2-40質(zhì)量％。上述的硼酸和硼酸鹽的量更優(yōu)選為5-25質(zhì)量％。(水溶性鋯化合物)本發(fā)明的墨接受層含有水溶性鋯化合物。作為水溶性鋯化合物的實(shí)例，可以提及例如醋酸鋯、硝酸鋯、堿式碳酸鋯、氫氧化鋯、碳酸鋯銨、碳酸鋯鉀、硫酸鋯、氟化鋯、氯化鋯、 氯化鋯八水合物、二氯氧化鋯、或羥基氯化鋯。這些水溶性鋯化合物中，特別優(yōu)選醋酸鋯 (醋酸氧鋯)和二氯氧化鋯，原因在于由硼酸產(chǎn)生的交聯(lián)不會(huì)由于墨接受層涂布液的PH的極度減小而受到過多干擾?？蓡为?dú)使用一種水溶性鋯化合物，或者可將其至少兩種組合使用。作為添加水溶性鋯化合物的方法，可提及以下方法。例如，可提及將水溶性鋯化合物直接添加到涂布液中后，通過間歇式系統(tǒng)進(jìn)行涂布的方法；預(yù)先將水溶性鋯化合物添加到水合氧化鋁或氧化鋁的分散液中，并且在涂布前即刻將該分散液與粘結(jié)劑一起連續(xù)地混合，同時(shí)進(jìn)行涂布的方法。此外，例如，也可提及將水溶性鋯化合物溶解于另外的水性介質(zhì)中并且在涂布前即刻在線添加到涂布液中的方法；和施涂含有粘結(jié)劑和水合氧化鋁或氧化鋁的涂布液前后，施涂含有水溶性鋯化合物的溶液的方法，并且可以使用任何上述的方法。上層形成用涂布液和下層形成用涂布液的每一種中含有的水溶性鋯化合物的添加量，考慮到涂布液的經(jīng)時(shí)穩(wěn)定性和抑制開裂產(chǎn)生的效果，相對(duì)于每一種涂布液中含有的聚(乙烯醇)的量，優(yōu)選為2-40質(zhì)量％，并且更優(yōu)選為5-25質(zhì)量％。上層形成用涂布液中含有的水溶性鋯化合物的添加量，考慮到涂布液的經(jīng)時(shí)穩(wěn)定性和抑制開裂產(chǎn)生的效果，相對(duì)于其中含有的氧化鋁和水合氧化鋁的總量，優(yōu)選為 0. 05-1. 00質(zhì)量％，并且更優(yōu)選為0. 1-0. 5質(zhì)量％。下層形成用涂布液中含有的水溶性鋯化合物的添加量，考慮到涂布液的經(jīng)時(shí)穩(wěn)定性和抑制開裂產(chǎn)生的效果，相對(duì)于其中含有的氧化鋁和水合氧化鋁的總量，優(yōu)選為0. 3-2. 20質(zhì)量％，并且更優(yōu)選為0. 45-0. 7質(zhì)量％。此外，相對(duì)于下層形成用涂布液中含有的氧化鋁和水合氧化鋁的總量的其中含有的水溶性鋯化合物的添加量優(yōu)選大于相對(duì)于上層形成用涂布液中含有的氧化鋁和水合氧化鋁的總量的其中含有的水溶性鋯化合物的添加量。此外，相對(duì)于上層形成用涂布液中含有的氧化鋁和水合氧化鋁的總量的其中含有的水溶性鋯化合物的添加量優(yōu)選小于相對(duì)于上層形成用涂布液中含有的氧化鋁和水合氧化鋁的總量的其中含有的硼酸和硼酸鹽的添加量。此外，上層形成用涂布液中含有的水溶性鋯化合物的添加量與其中含有的硼酸和硼酸鹽的添加量之比優(yōu)選為1 1 1 10并且更優(yōu)選為1 2 1 8。相對(duì)于下層形成用涂布液中含有的氧化鋁和水合氧化鋁的總量的其中含有的水溶性鋯化合物的添加量優(yōu)選小于相對(duì)于下層形成用涂布液中含有的氧化鋁和水合氧化鋁的總量的其中含有的硼酸和硼酸鹽的添加量。此外，下層形成用涂布液中含有的水溶性鋯化合物的添加量與其中含有的硼酸和硼酸鹽的添加量之比優(yōu)選為1 1 1 8并且更優(yōu)選為1 3 1 6。(添加劑)在上層和下層墨接受層及其涂布液中，如果需要，可含有各種添加劑。例如，可提及固色劑，例如各種陽離子樹脂，樹脂乳液，絮凝劑，例如多價(jià)金屬鹽，表面活性劑，熒光增白劑，增稠劑，消泡劑，抑泡劑，脫模劑，滲透劑，潤滑劑，紫外線吸收劑，抗氧劑，流平劑，防腐劑和PH調(diào)節(jié)劑?？蛇m當(dāng)調(diào)節(jié)其添加量。作為能夠用于本發(fā)明的陽離子樹脂的實(shí)例，可提及例如聚乙烯亞胺系樹脂、聚胺系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚酰胺-表氯醇系樹脂、聚胺-表氯醇系樹脂、聚酰胺-聚胺-表氯醇系樹脂、聚二烯丙胺系樹脂和雙氰胺縮合物。這些陽離子樹脂可單獨(dú)或組合使用。上述陽離子樹脂中，由于具有優(yōu)異的抑制高濕度環(huán)境中的圖像模糊的效果，因此優(yōu)選二烯丙胺系樹脂，特別優(yōu)選二烯丙胺鹽酸鹽-二氧化硫共聚物樹脂。順便提及，由于二烯丙胺鹽酸鹽-二氧化硫共聚物樹脂具有高的墨中染料聚集功能并且在墨接受層的表面上存在時(shí)容易產(chǎn)生泛金光，因此優(yōu)選只向本發(fā)明的下層墨接受層中添加上述共聚物樹脂。 二烯丙胺鹽酸鹽-二氧化硫共聚物樹脂向下層墨接受層的添加量，相對(duì)于其中含有的氧化鋁和水合氧化鋁的總量，優(yōu)選為0. 1-2. 0質(zhì)量％并且更優(yōu)選為0. 3-1. 0質(zhì)量％。作為能夠用于本發(fā)明的樹脂乳液，考慮到與涂布液的混合性、改善墨吸收性的效果和抑制高濕度環(huán)境中的圖像模糊的效果，優(yōu)選陽離子聚氨酯系乳液。特別地，可提及如下的陽離子聚氨酯，其含有硫作為組成成分，其通過至少兩種化合物，即具有至少兩個(gè)活性氫基的含硫化合物和具有至少兩個(gè)異氰酸酯基的多異氰酸酯化合物之間的反應(yīng)而得到。含有硫作為組成成分的高分子量化合物優(yōu)選是通過具有至少兩個(gè)活性氫基的含硫化合物、多異氰酸酯化合物、具有至少兩個(gè)活性氫基作為親水性官能團(tuán)的聚醚化合物和具有至少兩個(gè)活性氫基的胺化合物之間的反應(yīng)而得到的陽離子聚氨酯。此外，通過至少兩種化合物，即具有至少兩個(gè)活性氫基的含硫化合物和具有至少兩個(gè)異氰酸酯基的多異氰酸酯化合物之間的反應(yīng)而得到的高分子量化合物作為粘結(jié)劑發(fā)揮作用。結(jié)果，獲得抑制輥痕的產(chǎn)生和圖像模糊的效果?？紤]到墨吸收性和抑制色不均勻， 優(yōu)選將聚(乙烯醇)和上述高分子量化合物的總量設(shè)定為16.9質(zhì)量％以下，相對(duì)于涂布液。確認(rèn)以高密度將墨接受層中吸收的墨中的著色材料組分固定在其表面層附近。將著色材料組分的染色位置固定在從表面層到20μπι深度的區(qū)域中。在上述區(qū)域中，從表面層到10 μ m深度以高濃度將著色材料組分固定。因此，盡管可將上述含硫化合物均勻地添加在墨接受層中，但優(yōu)選從表面層到20 μ m深度并且更優(yōu)選從表面層到10 μ m深度，將上述化合物添加到其中。
本發(fā)明的墨接受層的上層中，相對(duì)于氧化鋁和水合氧化鋁的總含量的硼酸、硼酸鹽和水溶性鋯鹽的總含量低于下層中的該值。結(jié)果，由于上層的總交聯(lián)劑濃度低，因此上層在高濕度環(huán)境中的耐輥痕性傾向于比下層差。另一方面，低濕度環(huán)境中的耐彎曲開裂性傾向于優(yōu)于下層。因此，需要保持上層和下層之間的涂布量平衡，并且上層的固形分涂布量優(yōu)選為5-20g/m2。此外，上述量更優(yōu)選為7-15g/m2。本發(fā)明的墨接受層的下層中，相對(duì)于氧化鋁和水合氧化鋁的總含量的硼酸、硼酸鹽和水溶性鋯鹽的總含量高于上層中的該值。結(jié)果，由于下層的總交聯(lián)劑濃度高，因此下層在高濕度環(huán)境中的耐輥痕性傾向于優(yōu)于上層。另一方面，低濕度環(huán)境中的耐彎曲開裂性傾向于比上層差。因此，需要保持上層和下層之間的涂布量平衡，并且下層的固形分涂布量優(yōu)選為15-40g/m2。此外，上述量更優(yōu)選為20-35g/m2。作為形成本發(fā)明的墨接受層的方法，可以通過已知的涂布法施涂涂布液。例如，可以提及縫口噴注(slot-die)法、slide bead法、簾式法、擠出法、氣刀法、輥涂法或刮棒涂布(rod bar coating)法。用于本發(fā)明的至少兩個(gè)墨接受層的涂布液，除了通過依次涂布以外還可以通過同時(shí)多層涂布來施涂，然后干燥。特別地，由于具有高生產(chǎn)率，因此采用slide bead法的同時(shí)多層涂布是優(yōu)選的方法。對(duì)于涂布后進(jìn)行的干燥，可適當(dāng)?shù)剡x擇例如熱風(fēng)干燥設(shè)備，例如直線干燥隧道、拱形干燥機(jī)、空氣懸桿(air loop)干燥機(jī)、正弦曲線氣浮干燥機(jī)和加熱干燥機(jī)以及利用紅外線、微波等的干燥機(jī)。[實(shí)施例]以下，盡管參照實(shí)施例和比較例對(duì)本發(fā)明詳細(xì)說明，但本發(fā)明的內(nèi)容并不限于以下實(shí)施例。順便提及，除非另有特別說明，“份”或“ ％，，基于質(zhì)量。(支持基材的形成)在含有游離度450ml CSF(Canadian Standard Freeness)的闊葉樹漂白牛皮菜 (LBKP)、游離度480ml CSF的針葉樹漂白牛皮漿(NBKP)和水的100質(zhì)量份紙漿漿料(LBKP 與NBKP的混合比為8 2，基于質(zhì)量)中，外添0.60質(zhì)量份陽離子化淀粉、10質(zhì)量份重質(zhì)碳酸鈣、15質(zhì)量份輕質(zhì)碳酸鈣、0. 10質(zhì)量份烷基乙烯酮二聚體和0. 03質(zhì)量份陽離子聚丙烯酰胺。如上所述，制備紙料。制備后，通過i^urdrinier抄紙機(jī)進(jìn)行造紙，進(jìn)行三步濕壓，并且通過多筒式干燥機(jī)進(jìn)一步進(jìn)行干燥。隨后，通過使用施膠設(shè)備，將這樣加工的紙料浸漬在氧化淀粉水溶液中以具有1. Og/m2的固體含量(氧化淀粉)，干燥后，進(jìn)行紙張壓光整飾，以致得到定量為155g/m2的基紙。在上述基紙的表面?zhèn)壬?，施涂由低密度聚乙?70份)、高密度聚乙烯QO份)和氧化鈦(10份)組成的樹脂組合物以具有25g/m2的每平方米重量，由此形成樹脂涂布層。 在基紙的后表面?zhèn)壬希?0g/m2的每平方米重量施涂由高密度聚乙烯(50份)和低密度聚乙烯(50份)組成的樹脂組合物以形成樹脂涂布層，由此形成樹脂涂布紙。在該樹脂涂布紙的表面?zhèn)壬线M(jìn)行電暈放電后，通過施涂酸處理明膠來形成易粘合層以具有0. 05g/m2的固形分涂布量，并且在樹脂涂布紙的后表面?zhèn)壬线M(jìn)行電暈放電。隨后， 將含有約0. 4g的Tg(玻璃化轉(zhuǎn)變溫度)約80°C的苯乙烯-丙烯酸酯系膠乳粘結(jié)劑、0. Ig 的抗靜電劑(陽離子聚合物)和0. Ig的作為消光劑的膠體二氧化硅的背層施涂于后表面?zhèn)?，由此形成支持基材。[記錄介質(zhì)1的形成]
(水合氧化鋁分散液的制備)向333份離子交換水中加入1. 65份甲磺酸作為抗絮凝酸。在用均相混合機(jī)(商品名Τ· K. Homomixer MARK 112. 5 型，由 iTokushu Kika Co. ,Ltd.制造)在 3，OOOrpm 的旋轉(zhuǎn)條件下對(duì)該甲磺酸水溶液進(jìn)行攪拌的同時(shí)，一點(diǎn)一點(diǎn)地加入100份水合氧化鋁(DISPERAL HP14，由Msol Inc.制造)。加入完成后，繼續(xù)進(jìn)行攪拌30分鐘，這樣制備固形分濃度為 23%的水合氧化鋁分散液。(氧化鋁分散液的制備)作為抗絮凝酸，將1. 65份甲磺酸添加到333份離子交換水中。通過均相混合機(jī) (商品名Τ· K. Homomixer MARK 112. 5 型，由 iTokushu Kika Co.，Ltd.制造)在 3，OOOrpm 的旋轉(zhuǎn)條件下對(duì)該甲磺酸水溶液進(jìn)行攪拌。進(jìn)行攪拌的同時(shí)，一點(diǎn)一點(diǎn)地加入100份氣相法Y-氧化鋁(Aeroxide Alu C，由Evonik Degussa GmbH制造)。加入完成后，繼續(xù)進(jìn)行攪拌30分鐘，這樣制備固形分濃度為23%的氧化鋁分散液。(陽離子聚氨酯系乳液的制備)如下所述制備陽離子聚氨酯乳液。向裝備有攪拌設(shè)備、溫度計(jì)和回流冷凝管的反應(yīng)容器中，裝入109g丙酮作為反應(yīng)溶劑。進(jìn)行攪拌的同時(shí)，將40. OOg的3，6- 二硫雜-1，8-辛二醇和6. 79g的甲基二乙醇胺溶解，將溫度升高到40°C后，加入62. 07g異佛爾酮二異氰酸酯。然后將溫度升高到50°C， 然后加入0. 2g的錫系催化劑，將溫度進(jìn)一步升高到55°C，進(jìn)行攪拌的同時(shí)，進(jìn)行反應(yīng)4小時(shí)。反應(yīng)完成后，將反應(yīng)溶液冷卻到室溫，并且加入3. 09g的濃度為85%的甲酸，以致使反應(yīng)產(chǎn)物陽離子化。進(jìn)一步加入446g水后，通過真空濃縮將丙酮除去，并且用水進(jìn)行濃度調(diào)節(jié)，以致形成固體含量為20%的陽離子乳液1。通過激光粒徑分析裝置PARIII (由Otsuka Electronics Co.，Ltd.制造)測定的得到的陽離子乳液1的平均顆粒直徑為50nm。(氣相法二氧化硅分散液的制備)對(duì)于420份離子交換水，在吸引型分散攪拌機(jī)Cont i-TDS中加入5份二甲基二烯丙基氯化銨均聚物(商品名Sharoll DC902P，由 Dai-Ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.制造)。此外，在最大旋轉(zhuǎn)速度下一點(diǎn)一點(diǎn)地加入100份氣相法二氧化硅(商品名 AER0SIL300,由Nippon Aerosil Co.，Ltd.制造)并且分散24小時(shí)，由此得到固形分濃度為20%的氣相法二氧化硅分散液。接下來，使用如上所述制備的液體制備具有以下組成的墨接受層用涂布液(上層和下層用)。制備涂布液組合物以使顏料的總固體含量為100份。(上層涂布液Al的組成)·水合氧化鋁分散液 348. 00份·氧化鋁分散液87. 00份·陽離子聚氨酯乳液 15. 00份·聚(乙烯醇)水溶液(PVA235，由Kuraray Co.，Ltd.制造，重均聚合度3，500， 皂化度88摩爾％，固體含量8質(zhì)量％ ) 112. 50份 表面活性劑(Surfynol 465，由 Nissin Chemical Industry CO. , Ltd.制造) 0. 70 份 醋酸氧鋯(Zircosol ZA-30，由 Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Co. , Ltd.制造，固體含量30質(zhì)量％)0.67份·原硼酸水溶液(固體含量5質(zhì)量％ ) 23. 00份(下層涂布液Bl的組成) 水合氧化鋁分散液 435. 00份·聚(乙烯醇)水溶液(PVA235，由Kuraray Co.，Ltd.制造，重均聚合度3，500， 皂化度88摩爾％，固體含量8質(zhì)量％ ) 112. 50份 醋酸氧鋯(Zircosol ZA-30，由 Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Co. , Ltd.制造，固體含量30質(zhì)量％)1.67份·原硼酸水溶液(固體含量5質(zhì)量％ ) 40. 00份(墨接受層的形成)通過多層滑動(dòng)料斗型涂布裝置將上述兩種涂布液施涂在支持基材的表面?zhèn)壬弦孕纬珊嫌?jì)兩層，即一個(gè)上層和一個(gè)下層，以使下層墨接受層的固形分涂布量為25g/m2和上層墨接受層的固形分涂布量為10g/m2。接下來，在60°C下對(duì)這樣施涂的涂布液進(jìn)行干燥， 結(jié)果得到具有墨接受層的記錄介質(zhì)1。[記錄介質(zhì)2的形成]在記錄介質(zhì)1的墨接受層的形成中，除了將下層墨接受層的固形分涂布量和上層墨接受層的固形分涂布量分別變?yōu)?2g/m2和3g/m2以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)2。[記錄介質(zhì)3的形成]在記錄介質(zhì)1的墨接受層的形成中，除了將下層墨接受層的固形分涂布量和上層墨接受層的固形分涂布量分別變?yōu)?5g/m2和20g/m2以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)3。[記錄介質(zhì)4的形成]在記錄介質(zhì)1的墨接受層的形成中，除了將下層墨接受層的固形分涂布量變?yōu)?15g/m2以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)4。[記錄介質(zhì)5的形成]在記錄介質(zhì)1的墨接受層的形成中，除了將下層墨接受層的固形分涂布量變?yōu)?40g/m2以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)5。[記錄介質(zhì)6的形成]在記錄介質(zhì)1的上層涂布液Al的組成中，將醋酸氧鋯的添加量變?yōu)?. 17份以外， 以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)6。[記錄介質(zhì)7的形成]在記錄介質(zhì)1的上層涂布液Al的組成中，將醋酸氧鋯的添加量變?yōu)?. 67份以外， 以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)7。[記錄介質(zhì)8的形成]在記錄介質(zhì)1的下層涂布液Bl的組成中，將醋酸氧鋯的添加量變?yōu)?. 00份以外， 以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)8。[記錄介質(zhì)9的形成]在記錄介質(zhì)1的下層涂布液Bl的組成中，將醋酸氧鋯的添加量變?yōu)?. 00份以外，
13以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)9。[記錄介質(zhì)10的形成]在記錄介質(zhì)1的上層涂布液Al的組成中，將原硼酸水溶液的添加量變?yōu)?. 00份以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)10。[記錄介質(zhì)11的形成]在記錄介質(zhì)1的上層涂布液Al的組成中，將原硼酸水溶液的添加量變?yōu)?0. 00份以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)11。[記錄介質(zhì)12的形成]在記錄介質(zhì)1的下層涂布液Bl的組成中，將原硼酸水溶液的添加量變?yōu)?0. 00份以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)12。[記錄介質(zhì)13的形成]在記錄介質(zhì)1的下層涂布液Bl的組成中，將原硼酸水溶液的添加量變?yōu)?0. 00份以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)13。[記錄介質(zhì)14的形成]在記錄介質(zhì)1的上層涂布液Al的組成中，將醋酸氧鋯的添加量和原硼酸水溶液的添加量分別變?yōu)?. 67份和30. 00份以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)14。[記錄介質(zhì)15的形成]在記錄介質(zhì)1的上層涂布液Al的組成中，將醋酸氧鋯的添加量和原硼酸水溶液的添加量分別變?yōu)?. 17份和6. 00份以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)15。[記錄介質(zhì)16的形成]在記錄介質(zhì)1的下層涂布液Bl的組成中，將醋酸氧鋯的添加量和原硼酸水溶液的添加量分別變?yōu)?. 00份和50. 00份以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)16。[記錄介質(zhì)17的形成]在記錄介質(zhì)1的下層涂布液Bl的組成中，將醋酸氧鋯的添加量和原硼酸水溶液的添加量分別變?yōu)?. 33份和20. 00份以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)17。[記錄介質(zhì)18的形成]在記錄介質(zhì)1的上層涂布液Al的組成中，將聚(乙烯醇)水溶液的添加量變?yōu)?62. 50份以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)18。[記錄介質(zhì)19的形成]在記錄介質(zhì)1的上層涂布液Al的組成中，將聚(乙烯醇)水溶液的添加量變?yōu)?162. 50份以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)19。[記錄介質(zhì)20的形成]在記錄介質(zhì)1的下層涂布液Bl的組成中，將聚(乙烯醇)水溶液的添加量變?yōu)?87. 50份以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)20。[記錄介質(zhì)21的形成]在記錄介質(zhì)1的下層涂布液Bl的組成中，將聚(乙烯醇)水溶液的添加量變?yōu)?187. 50份以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)21。[記錄介質(zhì)22的形成]在記錄介質(zhì)1的上層涂布液Al的組成中，將醋酸氧鋯的添加量變?yōu)?. 33份以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)22。[記錄介質(zhì)23的形成]在記錄介質(zhì)1的上層涂布液Al的組成中，將原硼酸水溶液的添加量變?yōu)?0. 00份以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)23。[記錄介質(zhì)M的形成]在記錄介質(zhì)1的上層涂布液Al和下層涂布液Bl的組成中，將醋酸氧鋯變?yōu)槎妊趸?由Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Co. ,Ltd.制造，固體含量33質(zhì)量％ )以外， 以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)24。[記錄介質(zhì)25的形成]在記錄介質(zhì)1的上層涂布液Al和下層涂布液Bl的組成中，將醋酸氧鋯變?yōu)橄跛嵫蹁?Zircosol ZN，由 Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Co. , Ltd.制造，固體含量25 質(zhì)量％ )以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)25。[記錄介質(zhì)沈的形成]在記錄介質(zhì)1的上層涂布液Al和下層涂布液Bl的組成中，將聚(乙烯醇)水溶液變?yōu)椴煌木?乙烯醇)水溶液(譯沈，由JAPAN VAM &P0VAL CO.，LTD.制造，重均聚合度2，600，皂化度97摩爾％，固體含量8質(zhì)量％ )。除了上述以外以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)26。[記錄介質(zhì)27的形成]在記錄介質(zhì)1的上層涂布液Al和下層涂布液Bl的組成中，將聚(乙烯醇)水溶液變?yōu)椴煌木?乙烯醇)水溶液(PVA420,由Kuraray Co.，Ltd.制造，重均聚合度2，000， 皂化度80摩爾％，固體含量8質(zhì)量％ )。除了上述以外以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)27。[記錄介質(zhì)觀的形成]將記錄介質(zhì)1的下層涂布液Bl的組成變?yōu)橐韵陆M成B2以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)觀。(下層涂布液B2的組成) 水合氧化鋁分散液 435. 00份·聚(乙烯醇)水溶液(PVA235，由Kuraray Co.，Ltd.制造，重均聚合度3，500， 皂化度88摩爾％，固體含量8質(zhì)量％ ) 112. 50份 二烯丙胺鹽酸鹽-二氧化硫共聚物樹脂(PAS-92，由Nitto Boseki Co.，Ltd.制造，固體含量20質(zhì)量％)2. 50份 醋酸氧鋯(Zircosol ZA-30，由 Daiichi Kigenso Kagaku KogyoCo. ,Ltd.制造， 固體含量30質(zhì)量％)1.67份·原硼酸水溶液(固體含量5質(zhì)量％ ) 40. 00份[記錄介質(zhì)四的形成]將記錄介質(zhì)1的上層涂布液Al的組成變?yōu)橐韵陆M成A2以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)四。(上層涂布液A2的組成)·水合氧化鋁分散液 348. 00份
氧化鋁分散液87. 00份·聚(乙烯醇)水溶液(PVA235，由Kuraray Co.，Ltd.制造，重均聚合度3，500， 皂化度88摩爾％，固體含量8質(zhì)量％ ) 112. 50份 表面活性劑(Surfynol 465，由 Nissin Chemical Industry CO. , Ltd.制造) 0. 70 份 醋酸氧鋯(Zircosol ZA-30，由 Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Co. , Ltd.制造，固體含量30質(zhì)量％)0.67份·原硼酸水溶液(固體含量5質(zhì)量％ ) 23. 00份[記錄介質(zhì)30的形成]將記錄介質(zhì)1的上層涂布液Al的組成變?yōu)橐韵陆M成A3以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)30。(上層涂布液A3的組成) 水合氧化鋁分散液 435. 00份·陽離子聚氨酯乳液 15. 00份·聚(乙烯醇)水溶液(PVA235，由Kuraray Co.，Ltd.制造，重均聚合度3，500， 皂化度88摩爾％，固體含量8質(zhì)量％ ) 112. 50份 表面活性劑(Surfynol 465，由 Nissin Chemical Industry CO. , Ltd.制造) 0. 70 份 醋酸氧鋯(Zircosol ZA-30，由 Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Co. , Ltd.制造，固體含量30質(zhì)量％)0.67份·原硼酸水溶液(固體含量5質(zhì)量％ )23. 00份[記錄介質(zhì)31的形成]在記錄介質(zhì)1的上層涂布液Al的組成中，將醋酸氧鋯的添加量變?yōu)?. 33份以外， 以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)31。[記錄介質(zhì)32的形成]在記錄介質(zhì)1的下層涂布液Bl的組成中，將醋酸氧鋯的添加量變?yōu)?. 33份以外， 以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)32。[記錄介質(zhì)33的形成]在記錄介質(zhì)1的上層涂布液Al和下層涂布液Bl的組成中，沒有添加醋酸氧鋯以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)33。[記錄介質(zhì)34的形成]在記錄介質(zhì)1的上層涂布液Al的組成中，沒有添加醋酸氧鋯以外，以與記錄介質(zhì) 1類似的方式得到記錄介質(zhì)34。[記錄介質(zhì)35的形成]在記錄介質(zhì)1的下層涂布液Bl的組成中，沒有添加醋酸氧鋯以外，以與記錄介質(zhì) 1類似的方式得到記錄介質(zhì)35。[記錄介質(zhì)36的形成]在記錄介質(zhì)1的上層涂布液Al和下層涂布液Bl的組成中，沒有添加原硼酸水溶液以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)36。
[記錄介質(zhì)37的形成]在記錄介質(zhì)1的上層涂布液Al的組成中，沒有添加原硼酸水溶液以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)37。[記錄介質(zhì)38的形成]在記錄介質(zhì)1的下層涂布液Bl的組成中，沒有添加原硼酸水溶液以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)38。[記錄介質(zhì)39的形成]在記錄介質(zhì)1的上層涂布液Al的組成中，將醋酸氧鋯的添加量和原硼酸水溶液的添加量分別變?yōu)?. 50份和2. 00份以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)39。[記錄介質(zhì)40的形成]在記錄介質(zhì)1的下層涂布液Bl的組成中，將醋酸氧鋯的添加量和原硼酸水溶液的添加量分別變?yōu)?. 20份和1. 15份以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)40。[記錄介質(zhì)41的形成]在記錄介質(zhì)1的上層涂布液Al的組成中，將醋酸氧鋯的添加量和原硼酸水溶液的添加量分別變?yōu)?. 80份和2. 00份以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)41。[記錄介質(zhì)42的形成]在記錄介質(zhì)1的下層涂布液Bl的組成中，將醋酸氧鋯的添加量和原硼酸水溶液的添加量分別變?yōu)?. 20份和1. 00份以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)42。[記錄介質(zhì)43的形成]在記錄介質(zhì)1的上層涂布液Al的組成中，沒有添加醋酸氧鋯，并且將原硼酸水溶液的添加量變?yōu)?. 35份。此外，在記錄介質(zhì)1的下層涂布液Bl的組成中，沒有添加醋酸氧鋯，并且將原硼酸水溶液的添加量變?yōu)?. 50份。除了上述以外以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)43。[記錄介質(zhì)44的形成]將記錄介質(zhì)1的上層涂布液Al的組成變?yōu)橐韵陆M成A4以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)44。(上層涂布液A4的組成) 氣相法二氧化硅分散液 500. 00份·陽離子聚氨酯乳液15. 00份·聚(乙烯醇)溶液(PVA235,由Kuraray Co.，Ltd.制造，重均聚合度3，500，皂化度88摩爾％，固體含量8質(zhì)量％ ) 250. 00份 表面活性劑(Surfynol 465，由 Nissin Chemical Industry CO. , Ltd.制造) 0. 70 份 醋酸氧鋯(Zircosol ZA-30，由 Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Co. , Ltd.制造，固體含量30質(zhì)量％)3. 33份·原硼酸水溶液(固體含量5質(zhì)量％ ) 60. 00份[記錄介質(zhì)45的形成]將記錄介質(zhì)1的下層涂布液Bl的組成變?yōu)橐韵陆M成B3以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)45。
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(下層涂布液B3的組成)·氣相法二氧化硅分散液500. 00份·聚(乙烯醇)水溶液(PVA235,由Kuraray Co.，Ltd.制造，重均聚合度3，500， 皂化度88摩爾％，固體含量8質(zhì)量％ ) 250. 00份 醋酸氧鋯(Zircosol ZA-30，由 Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Co. , Ltd.制造，固體含量30質(zhì)量％)6. 67份·原硼酸水溶液(固體含量5質(zhì)量％ ) 80. 00份[記錄介質(zhì)46的形成]將記錄介質(zhì)1的上層涂布液Al的組成變?yōu)樯鲜鼋M成A4，并且將記錄介質(zhì)1的下層涂布液Bl的組成變?yōu)樯鲜鼋M成B3以外，以與記錄介質(zhì)1類似的方式得到記錄介質(zhì)46。[評(píng)價(jià)方法]<耐開裂性>觀察上述各記錄介質(zhì)的墨接受層的表面，并且基于以下標(biāo)準(zhǔn)對(duì)其耐開裂性進(jìn)行評(píng)價(jià)?！さ燃?jí)5 通過使用顯微鏡，沒有觀察到裂紋。·等級(jí)4 盡管用肉眼沒有觀察到裂紋，但通過使用顯微鏡，部分地觀察到微小的裂紋。·等級(jí)3 盡管用肉眼沒有觀察到裂紋，但通過使用顯微鏡，觀察到許多微小的裂紋?！さ燃?jí)2 用肉眼部分地觀察到裂紋?！さ燃?jí)1 用肉眼觀察到許多裂紋。<耐泛金光性>在溫度30°C和相對(duì)濕度80%的高濕度環(huán)境中將上述記錄介質(zhì)均保持6小時(shí)后，使用噴墨打印機(jī)MP980(商品名，由CANON KABUSHIKI KAISHA制造)在與上述相同的環(huán)境中在各記錄介質(zhì)上形成青色的實(shí)心圖像。隨后，基于以下標(biāo)準(zhǔn)通過目視觀察評(píng)價(jià)泛金光的產(chǎn)生?！さ燃?jí)5 沒有觀察到泛金光的產(chǎn)生?！さ燃?jí)4 在反射光中輕微地觀察到紅色?！さ燃?jí)3 在反射光中某種程度上觀察到紅色。·等級(jí)2 觀察到具有金屬光澤的泛金光?！さ燃?jí)1 由于泛金光而使光澤喪失。<顯色性>使用iP4600 (商品名，由CANON KABUSHIKI KAISHA制造)用黑色(Bk)墨在上述各記錄介質(zhì)上記錄具有100%的負(fù)載(duty)的圖像。進(jìn)行記錄后，使用光學(xué)反射密度計(jì)(530 分光密度計(jì)，由X-Rite Inc.制造)測定光學(xué)密度，并且基于以下標(biāo)準(zhǔn)確定等級(jí)。·等級(jí) 5 2. 20 以上·等級(jí)4 2. 10以上且小于2. 20 等級(jí)3 :2. 00以上且小于2. 10·等級(jí)2 1. 90以上且小于2. 00
等級(jí) 1:小于 1.90<墨吸收性>對(duì)上述各記錄介質(zhì)的墨吸收性進(jìn)行評(píng)價(jià)。使用對(duì)iP4600(商品名，由CANON KABUSHIKI KAISHA制造)的打印處理方法進(jìn)行了改造的裝置進(jìn)行打印。打印圖案使用了具有64灰度等級(jí)(gradations)的實(shí)心綠色(以6. 25%的負(fù)載的增量的64灰度等級(jí)，負(fù)載從 0%至400% )。具體地，以6. 25%的負(fù)載的增量形成負(fù)載在0% -400%范圍內(nèi)的64種一平方英寸實(shí)心圖像。通過雙向打印形成各實(shí)心圖像，其中以25英寸/秒的速率使墨盒往復(fù)2 次時(shí)完成打印。順便提及，400%的負(fù)載表示使用分辨率600dpi的噴墨頭，每1/600平方英寸供給44ng的墨。由于墨吸收性與beading具有大致的相關(guān)性，因此通過評(píng)價(jià)beading來評(píng)價(jià)記錄介質(zhì)的墨吸收性。beading表示將供給到表面的墨滴在墨接受層中吸收前，該墨滴與相鄰的墨滴接觸以形成具有色不均勻性的圖像的現(xiàn)象。通過目視觀察進(jìn)行評(píng)價(jià)，并且基于下述評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)確定等級(jí)?！さ燃?jí)4 在300%的負(fù)載下沒有觀察到beading?！さ燃?jí)3 盡管在250% _300 %范圍內(nèi)的負(fù)載下輕微地觀察到beading，但在小于 250%的負(fù)載下沒有觀察到beading。·等級(jí)2 盡管在200% -250%范圍內(nèi)的負(fù)載下輕微地觀察到beading，但在小于 200%的負(fù)載下沒有觀察到beading?！さ燃?jí)1 甚至在小于200%的負(fù)載下也觀察到Beading。<耐輥痕性>在溫度30°C和相對(duì)濕度80%的高濕度環(huán)境中將上述記錄介質(zhì)均保持6小時(shí)后，使用噴墨打印機(jī)PIXUS MP990(商品名，由CANON KABUSHIKI KAISHA制造)的鉬模式(缺省設(shè)定)在與上述相同的環(huán)境中在各記錄介質(zhì)上打印黑色的實(shí)心圖像?；谝韵聵?biāo)準(zhǔn)通過目視觀察評(píng)價(jià)在搬運(yùn)輥通過部打印圖像的表面上的擦傷?！さ燃?jí)5 沒有觀察到輥痕?！さ燃?jí)4 觀察到一個(gè)輕微的輥痕?！さ燃?jí)3 觀察到多個(gè)輕微的輥痕?！さ燃?jí)2 除了輕微的輥痕外，還觀察到一個(gè)清楚的輥痕?！さ燃?jí)1 觀察到多個(gè)清楚的輥痕?！茨蛷澢_裂性〉在溫度15°C和相對(duì)濕度10%下進(jìn)行上述記錄介質(zhì)的濕度調(diào)節(jié)后，將記錄介質(zhì)卷繞于直徑為6、12、16和20mm的圓筒以確定墨接受層中產(chǎn)生裂紋的圓筒的直徑，并且基于以下標(biāo)準(zhǔn)通過目視觀察來進(jìn)行評(píng)價(jià)?！さ燃?jí)5 在全部圓筒中沒有產(chǎn)生彎曲開裂?！さ燃?jí)4 只在使用直徑6mm的圓筒時(shí)產(chǎn)生彎曲開裂?！さ燃?jí)3 只在使用直徑6和12mm的圓筒時(shí)產(chǎn)生彎曲開裂?！さ燃?jí)2 只在使用直徑6、12和16mm的圓筒時(shí)產(chǎn)生彎曲開裂。·等級(jí)1 在使用直徑6、12、16和20mm的全部圓筒時(shí)產(chǎn)生彎曲開裂。將上述噴墨記錄介質(zhì)的層結(jié)構(gòu)和評(píng)價(jià)結(jié)果示于表1和2中。〔0275]
權(quán)利要求
1.噴墨記錄介質(zhì)，包括支持基材；和設(shè)置在該支持基材上的至少兩個(gè)墨接受層，其中在該至少兩個(gè)墨接受層中，兩個(gè)墨接受層均含有選自氧化鋁和水合氧化鋁中的至少一種、聚(乙烯醇)、選自硼酸和硼酸鹽中的至少一種和水溶性鋯化合物，并且接近該支持基材的該兩個(gè)墨接受層中的一個(gè)的硼酸、硼酸鹽和水溶性鋯鹽的總含量: 其氧化鋁和水合氧化鋁的總含量高于遠(yuǎn)離該支持基材的該兩個(gè)墨接受層中的另一個(gè)的硼酸、硼酸鹽和水溶性鋯鹽的總含量其氧化鋁和水合氧化鋁的總含量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的噴墨記錄介質(zhì)，其中該水溶性鋯鹽包括醋酸氧鋯。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的噴墨記錄介質(zhì)，其中該接近支持基材的墨接受層的硼酸、硼酸鹽和水溶性鋯鹽的總含量其氧化鋁和水合氧化鋁的總含量與該遠(yuǎn)離支持基材的墨接受層的硼酸、硼酸鹽和水溶性鋯鹽的總含量其氧化鋁和水合氧化鋁的總含量之差為0. 2-3. 0 質(zhì)量％。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)的噴墨記錄介質(zhì)，其中該接近支持基材的墨接受層的硼酸和硼酸鹽的總量其氧化鋁和水合氧化鋁的總量為1. 0-2. 5質(zhì)量％，并且該遠(yuǎn)離支持基材的墨接受層的硼酸和硼酸鹽的總量其氧化鋁和水合氧化鋁的總量為0. 3-2. 0質(zhì)量％。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)的噴墨記錄介質(zhì)，其中該接近支持基材的墨接受層的水溶性鋯化合物的量其氧化鋁和水合氧化鋁的總量為0. 3-2. 20質(zhì)量％，并且該遠(yuǎn)離支持基材的墨接受層的水溶性鋯化合物的量其氧化鋁和水合氧化鋁的總量為0. 05-1. 00質(zhì)量％。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)的噴墨記錄介質(zhì)，其中該接近支持基材的墨接受層的聚 (乙烯醇)的量其氧化鋁和水合氧化鋁的總量為7. 0-15. 0質(zhì)量％，并且該遠(yuǎn)離支持基材的墨接受層的聚(乙烯醇)的量其氧化鋁和水合氧化鋁的總量為5. 0-13. 0質(zhì)量％。
全文摘要
在具有至少兩個(gè)墨接受層的噴墨記錄介質(zhì)中，接近支持基材的下層墨接受層的硼酸、硼酸鹽和水溶性鋯鹽的總含量其氧化鋁和水合氧化鋁的總含量高于遠(yuǎn)離該支持基材的上層墨接受層的硼酸、硼酸鹽和水溶性鋯鹽的總含量其氧化鋁和水合氧化鋁的總含量。
文檔編號(hào)B41M5/00GK102248828SQ201110098408
公開日2011年11月23日 申請(qǐng)日期2011年4月20日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月20日
發(fā)明者仁藤康弘, 八田直也, 加茂久男, 小栗勲, 田栗亮, 蘇秀兒, 野口哲朗 申請(qǐng)人:佳能株式會(huì)社