專利名稱：氮化鈦復(fù)合材料金屬掩模板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及ー種金屬掩模板，尤其是一種氮化鈦復(fù)合材料金屬掩模板結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
隨著生活水平的不斷提高，人們對(duì)各種電子電器產(chǎn)品的追求日益小型化，以便攜帶和擺放，但是傳統(tǒng)使用的穿孔插放電子元件的方法已無法再將產(chǎn)品體積縮小；為了電子產(chǎn)品功能更完整，特別是大規(guī)模、高集成1C，不得不采用在模板表面貼片元件；傳統(tǒng)的電子元件表面貼裝技術(shù)有蝕刻的掩膜板結(jié)構(gòu)、激光切割的掩膜板結(jié)構(gòu)，但是蝕刻的掩膜板結(jié)構(gòu)相對(duì)加工的精度較低、電子元件貼裝孔有鴨舌狀固有變形，且加工過程中對(duì)環(huán)境污染大；激光切割的掩膜板結(jié)構(gòu)其貼裝孔位置精確，且加工過程中對(duì)環(huán)境基本沒有污染，但是貼裝孔 內(nèi)有毛刺(貼裝孔內(nèi)的毛刺可以用電拋光消除一部分，但電拋光エ藝對(duì)環(huán)境有一定的污染)；不銹鋼片的硬度在370HVB，使用壽命只有5-8萬次左右，如此，在追求電子產(chǎn)品小型化的時(shí)候，首先需要ー種貼裝孔精度高，設(shè)計(jì)合理，便于貼裝并且使用壽命長(zhǎng)(有效降低成本)的掩模板結(jié)構(gòu)。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供ー種復(fù)合金屬掩模板，能夠有效的提高金屬掩模板的使用壽命及生產(chǎn)效率。本實(shí)用新型是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的氮化鈦復(fù)合材料金屬掩模板，包括不銹鋼片和用于固定不銹鋼片的框體，所述框體包括網(wǎng)框和絲網(wǎng)，所述不銹鋼片底部有層氮化鈦膜。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于1、使用壽命硬度比普通不銹鋼片提高20% -30% (由原來的370HVB提高到450-480HVB)，同時(shí)強(qiáng)度、韌性的提高，讓掩模板耐磨不易變形，大大提高掩模板的重復(fù)使用次數(shù)，即大大的提高了金屬掩膜板的使用壽命，降低了的電子組裝的成本；2、生產(chǎn)效率的提高通過納米技術(shù)微離子濺射產(chǎn)生的膜，納米氮化鈦是ー種稀有金屬，其本身對(duì)錫膏中的助焊劑具有一定的排斥作用，所以大大減少錫膏在掩模板印刷孔內(nèi)壁的殘留從而大大減少掩模的清洗，提高了組裝生產(chǎn)效率。

圖I為本實(shí)用新型實(shí)施例的不銹鋼片結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
參照?qǐng)DI所示，氮化鈦復(fù)合材料金屬掩模板，包括氮化鈦復(fù)合材料金屬掩模板，包括不銹鋼片I和用于固定不銹鋼片I的框體，所述框體包括網(wǎng)框和絲網(wǎng)，所述不銹鋼片I底部有層氮化鈦膜2。本實(shí)用新型并不局限于上述具體實(shí)施方式
，根據(jù)上述說明書的掲示和指導(dǎo)，本實(shí)用新型所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員還可對(duì)上述實(shí)施方式進(jìn)行適當(dāng)?shù)淖兏托薷模渥兏矐?yīng)當(dāng)落入本實(shí)用新型的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。此外，盡管本說明書中使用了ー些特定的術(shù)語，但這 些術(shù)語只是為了方便說明，并不對(duì)本實(shí)用新型構(gòu)成任何限制。
權(quán)利要求1.氮化鈦復(fù)合材料金屬掩模板，其特征在于包括不銹鋼片和用于固定不銹鋼片的框 體，所述框體包括網(wǎng)框和絲網(wǎng)，所述不銹鋼片底部有層氮化鈦膜。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種氮化鈦復(fù)合材料金屬掩模板結(jié)構(gòu)，具體為氮化鈦復(fù)合材料金屬掩模板，包括不銹鋼片和用于固定不銹鋼片的框體，所述框體包括網(wǎng)框和絲網(wǎng)，所述不銹鋼片底部有層氮化鈦膜。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于1、使用壽命硬度比普通不銹鋼片提高20％-30％，同時(shí)強(qiáng)度、韌性的提高，讓掩模板耐磨不易變形，大大提高掩模板的重復(fù)使用次數(shù)，即大大的提高了金屬掩膜板的使用壽命，降低了的電子組裝的成本；2、生產(chǎn)效率的提高通過納米技術(shù)微離子濺射產(chǎn)生的膜，納米氮化鈦是一種稀有金屬，其本身對(duì)錫膏中的助焊劑具有一定的排斥作用，所以大大減少錫膏在掩模板印刷孔內(nèi)壁的殘留從而大大減少掩模的清洗，提高了組裝生產(chǎn)效率。
文檔編號(hào)B41F15/34GK202399621SQ20112056866
公開日2012年8月29日 申請(qǐng)日期2011年12月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月29日
發(fā)明者潘宇強(qiáng) 申請(qǐng)人:潘宇強(qiáng)