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用于印制容器的設(shè)備和方法

文檔序號(hào):2496124閱讀:221來源:國知局
專利名稱:用于印制容器的設(shè)備和方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種根 據(jù)權(quán)利要求I和8的前序部分特征所述的、用于印制容器的設(shè)備和方法。
背景技術(shù)
為了標(biāo)示容器(例如飲料瓶、PET瓶等)的內(nèi)含物,這些容器絕大多數(shù)借助于標(biāo)簽加以配備。例如預(yù)先印制的標(biāo)簽被粘貼到容器或者瓶子上。此外,可使用如下的收縮標(biāo)簽,所述收縮標(biāo)簽在收縮隧道等中被收縮束緊到容器上。此外公知的是瓶子和容器的外表面借助粘性的顏料或者顏料來印制,并且由此進(jìn)行標(biāo)示。因此,可取消通過粘貼或收縮束緊來施加標(biāo)簽的過程。例如在公開文獻(xiàn)DE 10 2007 050 490 Al中描述了一種用于印制容器的方法。在此,使用了至少兩個(gè)根據(jù)噴墨印制原理工作的印制頭。在印制期間,容器通過傳送元件沿傳送方向運(yùn)動(dòng),其中,印制工具的印制頭在至少一個(gè)印制步驟的部分期間與傳送元件一起運(yùn)動(dòng)。此外,EP 0 209 896 BI指出一種用于裝飾容器的方法和設(shè)備。在此情況下,各個(gè)色點(diǎn)沿著平行的外周線被受程序控制地施加到容器的壁上,以作為柵格圖。在此,容器被轉(zhuǎn)動(dòng),而與此同時(shí)噴嘴布置在滑座上,由此,可調(diào)整距容器的間距。當(dāng)為印制而選擇合適的技術(shù)(例如數(shù)字式DOD噴墨印制、電子照相或其他的合適的數(shù)字式印制技術(shù))時(shí),則相對(duì)于傳統(tǒng)地施加的標(biāo)簽獲得另外的優(yōu)點(diǎn)。這些優(yōu)點(diǎn)尤其地在于印模不是必需的,從而使得可實(shí)現(xiàn)根據(jù)可變內(nèi)含物來進(jìn)行快速的改調(diào)。經(jīng)鼠標(biāo)點(diǎn)擊就實(shí)現(xiàn)了生成印制圖。此外取消了耗用膠卷、顯影劑、化學(xué)試劑、固定帶等,從而使得很小的件數(shù)在經(jīng)濟(jì)性方面同樣是可執(zhí)行的。數(shù)字式的印制技術(shù)使得在所期望的設(shè)計(jì)(對(duì)于營銷等等而言)中的大靈活性成為可能。尤其是,DOD(按需(drop-on-demand))噴墨技術(shù)具有一系列優(yōu)點(diǎn)。該技術(shù)屬于非接觸式印制方法,在其中,不與印制材料發(fā)生接觸。此外,僅在需要時(shí)產(chǎn)生墨滴。此外,UV(紫外線)固化顏料的應(yīng)用是可行的。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的任務(wù)在于,提供一種用于印制容器的快速的可連續(xù)執(zhí)行的方法以及給出一種用于執(zhí)行這樣的方法的設(shè)備。上述任務(wù)通過一種包括權(quán)利要求I和8中特征的設(shè)備和方法來解決。本發(fā)明涉及一種用于印制容器的方法。容器被借助于回轉(zhuǎn)式(umlaufend)、尤其是旋轉(zhuǎn)式傳送裝置來傳送。連續(xù)地回轉(zhuǎn)式或者說旋轉(zhuǎn)式傳送裝置具有至少一個(gè)用于待印制的容器的保持裝置。此外,為傳送裝置配屬有至少一個(gè)基礎(chǔ)模塊,在所述基礎(chǔ)模塊上布置有至少一個(gè)印制頭?;A(chǔ)模塊處在傳送裝置的回轉(zhuǎn)軌道的區(qū)域中,優(yōu)選地處在傳送裝置的回轉(zhuǎn)軌道的外部區(qū)域中。因此,傳送裝置可例如通過所謂的容器傳送帶來形成,為所述傳送帶配屬有用于將待印制的容器移交到傳送帶上的輸入星形件以及用于將經(jīng)印制的容器轉(zhuǎn)交到后面的手操縱裝置處的輸出星形件。在該情況中,此處被稱作基礎(chǔ)模塊的印制模塊處在容器傳送帶附近,從而使得以此傳送的容器可被印制頭夠到?;A(chǔ)模塊可尤其是布置在傳送裝置或者容器傳送帶的外圍外周處。在根據(jù)本發(fā) 明的方法的情形中,待印制的容器被輸送給配屬有至少一個(gè)基礎(chǔ)模塊的印制區(qū)域。在容器被傳送通過該印制區(qū)域期間,基礎(chǔ)模塊至少部分同步地與容器一起移動(dòng)。尤其是基礎(chǔ)模塊同步于回轉(zhuǎn)式或者說旋轉(zhuǎn)式傳送裝置被由始位置傳送至沿傳送方向布置在后面的終位置。在基礎(chǔ)模塊和至少一個(gè)待印制的容器的同步運(yùn)動(dòng)期間,容器通過至少一個(gè)布置在基礎(chǔ)模塊上的印制頭至少部分地被印制。在容器通過回轉(zhuǎn)式傳送裝置進(jìn)一步沿傳送方向被傳送期間,基礎(chǔ)模塊逆著傳送方向運(yùn)動(dòng)回到其始位置中。因此,根據(jù)本發(fā)明的方法設(shè)置有用于容器的連續(xù)地回轉(zhuǎn)式傳送裝置(例如由均勻旋轉(zhuǎn)式容器傳送帶形成)以及可在兩個(gè)端位置之間振蕩式運(yùn)動(dòng)的基礎(chǔ)模塊或者印制模塊,基礎(chǔ)模塊或者印制模塊優(yōu)選實(shí)施繞與傳送裝置相同的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線的轉(zhuǎn)動(dòng)運(yùn)動(dòng)。帶有處在其上的印制頭和必要時(shí)同樣布置在基礎(chǔ)模塊上的干燥模塊(見下)的印制模塊同步于傳送裝置并且進(jìn)而同步于容器在沿一方向一起運(yùn)動(dòng)經(jīng)過限定的行程,從而使得印制頭相對(duì)于相應(yīng)的容器固定。一旦印制過程結(jié)束并且到達(dá)端位置或者說終位置,基礎(chǔ)模塊在樞轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)中沿相對(duì)傳送裝置的轉(zhuǎn)動(dòng)運(yùn)動(dòng)或者說旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的相反的方向被回移至另外那個(gè)端位置或者說始位置。在該另外的端位置中,基礎(chǔ)模塊可至少暫時(shí)保持,直至另一容器被印制,從而與傳送裝置的運(yùn)動(dòng)同步的運(yùn)動(dòng)又是必需的。優(yōu)選的是,經(jīng)印制的容器在印制之后經(jīng)受后處理。尤其地,所印上的顏料近似同時(shí)或緊接在印制之后通過至少一個(gè)干燥模塊至少得到干燥。在此,經(jīng)印制的容器例如以UV來照射(尤其地在使用UV固化的顏料材料的情形中),以及被以較熱的空氣繞流等。根據(jù)第一實(shí)施方式,干燥模塊配屬于基礎(chǔ)模塊,并且被裝配在該基礎(chǔ)模塊上。根據(jù)一備選的實(shí)施方式,干燥模塊沿容器的傳送方向布置在基礎(chǔ)模塊后面,從而在容器在傳送裝置中不依賴于基礎(chǔ)模塊地繼續(xù)運(yùn)動(dòng)期間進(jìn)行后處理。同樣可行的是應(yīng)用另外的模塊,該模塊以與在振蕩式運(yùn)動(dòng)中的印制模塊類似的方式與傳送裝置的外圍外周并且進(jìn)而與容器一起運(yùn)動(dòng)。例如,能為容器處理模塊配屬有用于監(jiān)控印制圖或者印制成果的攝像系統(tǒng)等。攝像系統(tǒng)可布置在基礎(chǔ)模塊上或在單獨(dú)的模塊上。根據(jù)另一備選的實(shí)施方式,后處理同樣可在經(jīng)印制的容器從容器處理模塊中輸出之后來進(jìn)行,其中,后處理模塊優(yōu)選地布置在輸出星形件之后。后處理模塊優(yōu)選地可以是干燥隧道、尤其是UV隧道。通過以UV照射,尤其地使印制顏料彼此進(jìn)行粘結(jié)或者交聯(lián)。必要時(shí),容器可在印制之前被預(yù)處理。尤其地,容器可經(jīng)受電暈處理、等離子處理或火焰處理,在其中,待印制的材料的表面能量被提高,由此改善待印制的表面以印制顏料的可潤濕性。附加地或備選地,例如可使用清潔方法或其他的準(zhǔn)備方法(加熱等)。根據(jù)一種優(yōu)選的實(shí)施方式,這優(yōu)選地在將容器輸送至在下面進(jìn)一步詳細(xì)地描述的處理模塊的配屬于回轉(zhuǎn)式傳送裝置的第一分區(qū)中的印制區(qū)域之前就進(jìn)行。根據(jù)一種備選的實(shí)施方式,預(yù)處理模塊同樣可布置在帶有印制頭的基礎(chǔ)模塊上。根據(jù)另一備選的實(shí)施方式,在至容器處理模塊的輸入星形件之前可對(duì)待印制的容器在預(yù)處理站處通過清洗裝置、干燥隧道、火焰裝置(然而優(yōu)選地通過電暈-等離子處理等)進(jìn)行預(yù)處理。根據(jù)一種優(yōu)選的實(shí)施方式,利用本發(fā)明可同時(shí)印制多個(gè)容器(20)。尤其地為此可設(shè)置有用于容器的特別的保持件,該保持件同時(shí)保持兩個(gè)容器,并且輸送給印制區(qū)域,其中,兩個(gè)容器被同時(shí)印制。這樣的印制區(qū)域包括至少兩個(gè)基礎(chǔ)模塊,該基礎(chǔ)模塊與用于容器的所使用的保持件、尤其地與用于一個(gè)容器的保持件或用于各自兩個(gè)容器的雙重保持件相應(yīng)地平行地布置和/或被彼此固定地相聯(lián)接。尤其地,為傳送裝置的回轉(zhuǎn)軌道配屬有兩個(gè)平行地布置的基礎(chǔ)模塊。所述基礎(chǔ)模塊同樣可彼此剛性地相連接。在容器借助于所提及的回轉(zhuǎn)式或者連續(xù)旋轉(zhuǎn)式傳送裝置的傳送的情形中,容器可可選地各自繞其縱軸線運(yùn)動(dòng)。例如,容器可至少部分繞其縱軸線被樞轉(zhuǎn)或旋轉(zhuǎn)。優(yōu)選地,容器至少在經(jīng)過預(yù)處理區(qū)域和/或印制區(qū)域和/或后處理區(qū)域的情形中完整地繞其軸線旋轉(zhuǎn)至少一次。容器優(yōu)選地平放著運(yùn)動(dòng)通過回轉(zhuǎn)式傳送裝置,也就是說容器的縱軸線在很大程度上水平而置。該布置方案具有如下優(yōu)點(diǎn),即,印制頭以有利的方式可平放著得到裝配,從而使得印制頭可豎直向下射出其印制顏料。印制精度可由此相對(duì)于顏料水平射出的立式裝配得到改善。然而,印制頭的平放的布置同樣以容器或者瓶子的平放的布置為前提條件,容器或者瓶子按照可使用的傳送配置必要時(shí)在傳送裝置內(nèi)被從立著的位置樞轉(zhuǎn)到平放的位置中,并且在轉(zhuǎn)交到輸出星形件中之前又必須被回移到立著的位置中。容器位置的改變備選地同樣可在輸入星形件或者輸出星形件處進(jìn)行。所介紹的方法尤其是一種連續(xù)的方法,在其中,容器持續(xù)地通過回轉(zhuǎn)式傳送裝置來運(yùn)動(dòng),并且連續(xù)地經(jīng)歷預(yù)處理、印制和后處理的依次的方法步驟或者處理步驟。連續(xù)的傳送并非強(qiáng)制以恒定的傳送速度為條件。因此,傳送裝置或者說旋轉(zhuǎn)式容器傳送帶的回轉(zhuǎn)速度可完全周期性地波動(dòng)。然而有意義的是,傳送帶或者傳送裝置近似以恒定的速度轉(zhuǎn)動(dòng),因?yàn)樗俣鹊谋匦璧倪m配一般通過基礎(chǔ)模塊與布置在其處的印制頭的振蕩速度來進(jìn)行。此外,本發(fā)明涉及一種用于印制容器的回轉(zhuǎn)式處理模塊。該處理模塊布置在用于從前置的設(shè)備中輸入待印制的容器的容器輸入件與用于移出以及用于繼續(xù)傳送經(jīng)印制的容器的容器輸出件之間。處理模塊包括回轉(zhuǎn)式傳送裝置,所述回轉(zhuǎn)式傳送裝置具有至少一個(gè)用于待印制的容器的保持裝置。傳送裝置例如可以是帶有豎向布置的旋轉(zhuǎn)軸線的旋轉(zhuǎn)式傳送星形件、帶有水平布置的旋轉(zhuǎn)軸線的傳送輪或然而同樣可以是具備至少區(qū)段式呈線性的傳送段的閉合回轉(zhuǎn)式輸送帶。此外,加工模塊包括至少一個(gè)基礎(chǔ)模塊,其中,在基礎(chǔ)模塊上布置有至少一個(gè)印制頭?;A(chǔ)模塊優(yōu)選地布置在傳送裝置的回轉(zhuǎn)軌道的外部區(qū)域中,從而使得被保持在該區(qū)域中的容器可由印制頭以及必要時(shí)另外的布置在基礎(chǔ)模塊上的處理裝置來夠到。根據(jù)一種優(yōu)選的實(shí)施方式,處理模塊優(yōu)選地包括三個(gè)分區(qū),在其中容器經(jīng)受不同
的處理步驟。第一分區(qū)是用于使容器的表面對(duì)印制做準(zhǔn)備的預(yù)處理區(qū)域。隨后的區(qū)域構(gòu)成用于對(duì)容器側(cè)表面進(jìn)行直接印制的印制區(qū)域。在該區(qū)域中布置有至少一個(gè)基礎(chǔ)模塊。接到該基礎(chǔ)模塊上的是如下另一分區(qū),在其中,其尤其是指后處理區(qū)域。根據(jù)本發(fā)明,基礎(chǔ)模塊至少區(qū)段式同步于回轉(zhuǎn)式傳送裝置地運(yùn)動(dòng),尤其地基礎(chǔ)模塊執(zhí)行振蕩式運(yùn)動(dòng)。基礎(chǔ)模塊可至少區(qū)段式沿傳送裝置的傳送方向被由始位置運(yùn)動(dòng)到終位置中,以便于是逆著傳送方向又被回送到始位置中。由此容器在其印制期間由基礎(chǔ)模塊伴隨,從而在印制頭與容器之間幾乎不發(fā)生相對(duì)運(yùn)動(dòng)。待印制的容器在回轉(zhuǎn)式傳送裝置的保持裝置中優(yōu)選地平放地且以可繞其盡可能水平地布置的縱軸線運(yùn)動(dòng)的方式布置。尤其地,瓶子可繞其縱軸線樞轉(zhuǎn)和/或旋轉(zhuǎn),并且在預(yù)處理區(qū)域中和/或在印制區(qū)域中和/或在后處理區(qū)域中或在通過傳送裝置的整個(gè)傳送期間持續(xù)地繞其縱軸線旋轉(zhuǎn)。根據(jù)一種優(yōu)選的實(shí)施方式,容器在經(jīng)歷分區(qū)時(shí)各自繞其縱軸線旋轉(zhuǎn)至少一次,從而使得容器的整個(gè)外部側(cè)表面經(jīng)受相應(yīng)的處理。根據(jù)另一實(shí)施方式,在處理模塊上可各自布置有至少一個(gè)預(yù)處理區(qū)域和/或至少一個(gè)后處理區(qū)域(尤其地干燥區(qū)域),從而使得通過基礎(chǔ)模塊執(zhí)行至少兩個(gè)不同的方法步驟預(yù)處理和印制或者印制和后處理或者預(yù)處理和印制和后處理。根據(jù)另一實(shí)施方式,在處理模塊的印制區(qū)域中,布置有在傳送裝置的回轉(zhuǎn)軌道上的外部基礎(chǔ)模塊和內(nèi)部基礎(chǔ)模塊。如果傳送裝置是帶有在很大程度上水平的旋轉(zhuǎn)軸線的立式的輪的話,則內(nèi)部基礎(chǔ)模塊優(yōu)選布置在旋轉(zhuǎn)式傳送裝置的軸線與待印制的容器之間。由此可實(shí)現(xiàn)機(jī)械效率的提高。根據(jù)一種實(shí)施方式,通過外部基礎(chǔ)模塊和內(nèi)部基礎(chǔ)模塊交替地或同時(shí)印制至少兩個(gè)容器。根據(jù)另一實(shí)施方式,在處理模塊的印制區(qū)域中平行地布置有兩個(gè)基礎(chǔ)模塊。因此可以特別的保持裝置同時(shí)印制被雙重保持的瓶子。此外,處理模塊可具有用于調(diào)整在待印制的容器與印制頭之間的最佳的間距的機(jī)構(gòu)。該移調(diào)過程尤其地通過附加的軸線來進(jìn)行。優(yōu)選的是,處理模塊具有相應(yīng)的傳感器件,通過該傳感器件對(duì)容器距印制頭的間距進(jìn)行動(dòng)態(tài)調(diào)整。傳感器件可例如包含攝像系統(tǒng)、圖像識(shí)別系統(tǒng)或其他合適的系統(tǒng),以用于識(shí)別和監(jiān)測印制過程、用于將容器關(guān)于印制頭正確的定位和/或用于監(jiān)控或者監(jiān)測印制結(jié)果。根據(jù)一種實(shí)施方式,印制頭通過傳感器來加以控制。尤其地傳感器識(shí)別出待印制的容器的輪廓,并且距印制頭的間距由于由此獲得的數(shù)據(jù)被相應(yīng)地進(jìn)行動(dòng)態(tài)適配,以便于任何時(shí)候都具有在容器與印制頭之間的最佳的間距,并且因此可獲得最佳的印制結(jié)果。在該實(shí)施方式中,印制頭的位置和/或容器在回轉(zhuǎn)式傳送裝置處的位置因此為被固定地預(yù)先調(diào)整,而是依賴于待印制的容器被動(dòng)態(tài)調(diào)節(jié)。尤其地,印制頭或者基礎(chǔ)模塊的定位可在印制過程期間得到適配,這尤其地在具備橢圓形的直徑的容器的印制的情形中,是有利的,因?yàn)樵谌萜髋c印制頭之間的間距在容器繞其縱軸線的旋轉(zhuǎn)的情形中總是一再變化。傳感器例如可以是圖像識(shí)別系統(tǒng),該圖像識(shí)別系統(tǒng)將所測定的數(shù)據(jù)(尤其是待印制的容器的輪廓、高度和寬度)傳送到計(jì)算單元。借助經(jīng)傳輸?shù)臄?shù)據(jù)計(jì)算出容器與印制頭之間的最佳間距。于是,計(jì)算單元對(duì)印制頭在基礎(chǔ)模塊上的相應(yīng)的定位或者基礎(chǔ)模塊的相應(yīng)的定位加以控制。利用根據(jù)本發(fā)明的方法 和所描述的設(shè)備即可行的是對(duì)持續(xù)運(yùn)動(dòng)的容器進(jìn)行連續(xù)地印制。機(jī)器由于容器至少暫時(shí)在印制站處立著而至今所需的定時(shí)動(dòng)作(Taktung)可以取消。在這時(shí),容器可以持久地保持在運(yùn)動(dòng)中,從而使得整個(gè)操作變得簡單,并且機(jī)械效率可被提高。方法和設(shè)備被尤其地用于直接印制到容器的側(cè)表面上。備選地,同樣存在如下可能性,即,對(duì)處在容器上的標(biāo)簽或涂層或外包裝加以印制。


下面,借助附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例及其優(yōu)點(diǎn)作進(jìn)一步闡釋。各元件彼此在圖中的尺寸比例并不總是相應(yīng)于實(shí)際的尺寸比例,這是因?yàn)橐恍┬腕w得到簡化,并且其他型體為了更好的圖解說明而與其他元件相適應(yīng)地放大示出。圖I以示意圖示示出了用于印制容器的設(shè)備的第一實(shí)施方式。圖2以示意圖示示出了用于印制容器的設(shè)備的第二實(shí)施方式。圖3示出了用于印制容器的設(shè)備的第三實(shí)施方式。圖4示出了用于印制容器的設(shè)備的第四實(shí)施方式。圖5示出了用于兩個(gè)容器的保持裝置。圖6示出了用于兩個(gè)容器的保持裝置的另一實(shí)施方式。圖7示出了用于同時(shí)印制被雙重保持的容器的設(shè)備的一種實(shí)施方式。圖8示出了用于同時(shí)印制被雙重保持的容器的設(shè)備的另一實(shí)施方式。對(duì)于本發(fā)明的相同的或相同作用的元件而言使用相同的附圖標(biāo)記。此外,為清楚起見僅在各圖中示出對(duì)于相應(yīng)的圖的描述而言必需的附圖標(biāo)記。所示的實(shí)施方式僅表現(xiàn)為對(duì)根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備或根據(jù)本發(fā)明的方法如何設(shè)計(jì)的示例,而不是封閉式的限定。
具體實(shí)施例方式圖I以示意圖示示出了用于印制容器20的設(shè)備Ia的第一實(shí)施方式。在所示的實(shí)施例中,裝置Ia包括輸入裝置12、旋轉(zhuǎn)式處理模塊IOa和輸出裝置14。待印制的容器20通過輸入裝置12 (尤其地通過標(biāo)準(zhǔn)傳送星形件,例如輸入星形件)被輸送給旋轉(zhuǎn)式處理模塊10a。輸入裝置12可(如此處示出的那樣)附加地承擔(dān)如下功能,即,在移交到水平線上之前或在移交到水平線上期間,使瓶子或者容器20傾斜,從而使得其在該位置中被移交到裝置Ia中,并且在該處在水平的位置中被繼續(xù)傳送。對(duì)此適合的例如是所謂的90°轉(zhuǎn)動(dòng)式星形件13,如在圖I中示出的那樣。備選地,待印制的物品或者容器20同樣可在旋轉(zhuǎn)式處理模塊IOa上通過合適的轉(zhuǎn)向裝置被送到水平的位置中(未示出)。該轉(zhuǎn)向過程則如在實(shí)施例中示出的那樣,可在通往處理模塊IOa的“啟程區(qū)域(Anfahrtbereich) ”中進(jìn)行,或備選地在處理模塊IOa內(nèi)進(jìn)行。容器20的水平的位置基于至少一個(gè)所使用的印制頭32的物理邊界而是有利的。在該情況中,印制可憑借平放的印制頭32來進(jìn)行,印制頭32可向下并且進(jìn)而在無負(fù)面影響的情形中基于作用的重力噴射其印制顏料。容器20被移交到旋轉(zhuǎn)式處理模塊IOa的連續(xù)旋轉(zhuǎn)式傳送裝置11處。傳送裝置11是垂直豎起的輪,該輪繞其水平布置的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線DA旋轉(zhuǎn)。傳送裝置11具有用于容器20的特別的保持裝置(未示出),在其中,容器20如此地被定中心并且被夾緊,即,其可繞其縱軸線X運(yùn)動(dòng)、尤其地被樞轉(zhuǎn)和/或旋轉(zhuǎn)。容器20在移交到旋轉(zhuǎn)式傳送裝置11處之后通行第一分區(qū)I,在第一分區(qū)I中進(jìn)行預(yù)處理。每個(gè)容器20須在預(yù)處理模塊40中優(yōu)選地進(jìn)行至少一個(gè)360°轉(zhuǎn)動(dòng),從而容器20 的整個(gè)外周得到處理。該過程優(yōu)選連續(xù)進(jìn)行。根據(jù)另一實(shí)施方式,該過程同樣可非連續(xù)地或者定時(shí)地進(jìn)行。隨后,容器20由于傳送裝置11沿運(yùn)動(dòng)方向B的持續(xù)的運(yùn)動(dòng)而達(dá)到印制區(qū)域D。在此,印制區(qū)域D是帶有至少一個(gè)基礎(chǔ)站29的印制區(qū)域D,在基礎(chǔ)站29上,在始位置AP中布置有至少一個(gè)印制頭32和至少一個(gè)中間干燥站35。在圖I中示出了三個(gè)并排布置的基礎(chǔ)模塊,從而使得各自可平行地并且同時(shí)加工三個(gè)容器20?;A(chǔ)站29振蕩式運(yùn)動(dòng),這意味著,首先容器20沿運(yùn)動(dòng)方向B經(jīng)過機(jī)械角度a直至終位置EP的運(yùn)動(dòng)被同步地隨行。這基于傳送裝置11沿運(yùn)動(dòng)方向B連續(xù)的運(yùn)動(dòng)而使得對(duì)容器20的連續(xù)處理成為可能,容器20在印制過程期間優(yōu)選連續(xù)繞其縱軸線X轉(zhuǎn)動(dòng)。在此,印制顏料通過印制頭32到容器20 上的施加盡可能從上方來進(jìn)行。印制頭32在該處理階段中不具有相對(duì)于容器20的相對(duì)運(yùn)動(dòng)。在一種備選的實(shí)施方式中,在基礎(chǔ)站29上除了中間干燥站35之外,同樣可安置有多個(gè)印制頭32,并且特別是同樣安置有多個(gè)相同顏料的印制頭32。也就是說,其所述多個(gè)印制頭32可同時(shí)印制多個(gè)容器20,由此提高裝置10的效率。在離開印制區(qū)域D之后,容器20通行第二區(qū)域II,在第二區(qū)域II中,至少一次后處理通過后處理模塊42 (尤其地最終干燥件44)進(jìn)行。此處,容器20例如通過UV光得到連續(xù)干燥,其中,容器20被再次優(yōu)選連續(xù)地繞其縱軸線X轉(zhuǎn)動(dòng)。根據(jù)另一實(shí)施方式,后處理過程同樣可連續(xù)地或者定時(shí)地進(jìn)行。接下來,容器20被移交到輸出裝置14處,輸出裝置14與輸入裝置12相似,并且其在所示的實(shí)施例中,同樣是90°轉(zhuǎn)動(dòng)式星形件15,90°轉(zhuǎn)動(dòng)式星形件15將容器20從平放的位置中轉(zhuǎn)變到豎立位置中,以用于繼續(xù)傳送至接在后面的加工裝置,例如打包裝置等。在容器20被傳送至第二分區(qū)II或者通行第二分區(qū)II或者通過輸出裝置14、15被從旋轉(zhuǎn)式處理模塊IOa中移出期間,至少一個(gè)基礎(chǔ)站29逆著傳送裝置11的運(yùn)動(dòng)方向B回移到始位置AP中,并且此時(shí)為印制新輸送來的容器20而重新做好準(zhǔn)備。圖2示出了用于印制容器20的帶有旋轉(zhuǎn)式處理模塊IOb的設(shè)備Ib的第二實(shí)施方式。在此情況下,使用另一基礎(chǔ)站30,其帶有至少一個(gè)印制頭32和至少一個(gè)布置在容器20與旋轉(zhuǎn)式傳送裝置11的軸線之間的中間干燥站35。這使得機(jī)械效率的提高成為可能。兩個(gè)基礎(chǔ)站29和30同步振蕩。在此,待印制的容器20同時(shí)被由兩個(gè)基礎(chǔ)站29和30來加載,并且可例如從兩側(cè)被印制。備選地,兩個(gè)基礎(chǔ)站29、30同樣可具有具備不同的顏料的印制頭32,并且通過容器20繞其縱軸線X的旋轉(zhuǎn)可將其依次以不同的顏料來印制。該布置使得機(jī)械效率得到有利的提聞。此外同樣可行的是將基礎(chǔ)站29、30輪流地運(yùn)動(dòng)。在非同步的運(yùn)動(dòng)的情形中可行的是,不同的容器20交替地被由外部基礎(chǔ)站29或由內(nèi)部基礎(chǔ)站30加以印制。圖3示出了用于印制容器的帶有旋轉(zhuǎn)式處理模塊IOc的設(shè)備Ic的第三實(shí)施方式。在此,旋轉(zhuǎn)式處理模塊IOc的旋轉(zhuǎn)式傳送裝置11的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線DA近似豎直地布置。容器20同樣各自通過一保持裝置23可運(yùn)動(dòng)地布置在傳送裝置11處。在所示的實(shí)施例中,容器20樞轉(zhuǎn)到水平線中的過程在旋轉(zhuǎn)式傳送裝置11的容器臺(tái)上進(jìn)行。輸入裝置12或者輸出裝置14各自實(shí)施成標(biāo)準(zhǔn)輸入星形件16或者標(biāo)準(zhǔn)輸出星形件17。至少一個(gè)印制頭32布置在旋轉(zhuǎn)式傳送裝置11上方,從而使得印制又可“傳統(tǒng)地”由上向下地進(jìn)行。此外可行的是,附加的印制頭(未示出)繞容器20來布置,例如用于多色印制。備選地同樣可對(duì)容器通過多個(gè)印制頭進(jìn)行同時(shí)印制。圖4以示意圖示示出了用于印制容器20的設(shè)備Id的第四實(shí)施方式。該裝置在很大程度上相應(yīng)于圖I中所描述的實(shí)施方式,為此,可取消對(duì)裝置的許多組成部分的重復(fù)的描述。在基礎(chǔ)站31上各自布置有至少一個(gè)預(yù)處理模塊60、至少一個(gè)印制頭32和至少一個(gè)后處理模塊62,從而使得三個(gè)方法步驟(預(yù)處理、印制和后處理)均通過基礎(chǔ)模塊31來進(jìn)行。
通過雙重保持件50 (參見圖5和6)和兩個(gè)布置在印制區(qū)域D中的基礎(chǔ)模塊31的使用可對(duì)至少兩個(gè)容器20進(jìn)行同時(shí)印制。圖5示出了保持裝置50,以用于使用在旋轉(zhuǎn)式傳送裝置11中的用于兩個(gè)容器20。該保持裝置50包括兩個(gè)固定地相聯(lián)接的用于容器20的保持件。利用所示的保持裝置50,可以同時(shí)傳送兩個(gè)水平定向的容器20,并且各自繞其縱軸線X運(yùn)動(dòng)。由此,可使機(jī)械效率加倍。然而,為了對(duì)經(jīng)處理的容器20進(jìn)行輸入和輸出,兩個(gè)輸入裝置和兩個(gè)輸出裝置12、14(未示出,參見圖I)是必需的,而運(yùn)動(dòng)的構(gòu)件的大部分,尤其地至少一個(gè)印制頭基礎(chǔ)站29可被共同利用。備選地同樣可行的是,保持件從一側(cè)被裝備容器20,接下來,保持件被樞轉(zhuǎn)大約180°,輸入裝置或者輸出裝置12、14 (未示出,參見圖I)轉(zhuǎn)動(dòng)一圈,并且接下來第二容器20被插到雙重保持件50上。圖6示出了保持裝置52,保持裝置52使得如下成為可能,即,盡可能水平平放地同時(shí)傳送兩個(gè)容器20。保持裝置52例如用于用在相應(yīng)于圖7的處理模塊IOe中,由此,通過在保持裝置52處的兩個(gè)容器同時(shí)進(jìn)行傳送,可以實(shí)現(xiàn)機(jī)械效率的加倍。容器20由輸入星形件16至傳送裝置11的移交過程以及容器20的定位在圖7中所示的實(shí)施方式中如由圖3可知的那樣來進(jìn)行,其中,容器20總是朝旋轉(zhuǎn)式傳送裝置11的中心的方向被樞轉(zhuǎn),而同時(shí)第二容器20被從機(jī)器中心樞轉(zhuǎn)離開。在旋轉(zhuǎn)式傳送裝置11與輸出星形件17之間的移交部位之前,容器軸線X又被送入豎直方向,從而容器20可被移交到輸出裝置14、17處,并且保持裝置52對(duì)于新的容器20的容納而言又是空出來的。對(duì)于容器傳送而言,為此僅需一個(gè)輸入星形件和輸出星形件,而運(yùn)動(dòng)的構(gòu)件的大部分可被共同利用。圖7示出了用于以旋轉(zhuǎn)式處理模塊IOe對(duì)經(jīng)雙重保持的容器20進(jìn)行同時(shí)印制的設(shè)備Ie的一種實(shí)施方式。在此,旋轉(zhuǎn)式處理模塊IOe的傳送裝置11的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線DA近似豎
直地布置。各兩個(gè)容器20通過各一個(gè)雙重保持裝置52可運(yùn)動(dòng)地布置在傳送裝置11處。在所示的實(shí)施例中,容器20到水平線上的樞轉(zhuǎn)過程在旋轉(zhuǎn)式傳送裝置11的容器臺(tái)上進(jìn)行。輸入裝置12或者輸出裝置14各自實(shí)施成標(biāo)準(zhǔn)輸入星形件16或者標(biāo)準(zhǔn)輸出星形件17。裝置Id包括至少兩個(gè)印制頭32,其中,各自在旋轉(zhuǎn)式傳送裝置11上方,第一印制頭32布置在第一基礎(chǔ)模塊29上,并且第二印制頭32布置在第二基礎(chǔ)模塊30上。尤其地,印制頭32處在盡可能相等高度水平上,并且處在內(nèi)側(cè)的印制頭32和處在外側(cè)的印制頭32同時(shí)對(duì)雙重保持件52的兩個(gè)容器20進(jìn)行印制。此外可行的是,附加的印制頭32(未示出)圍繞容器20布置,例如為了進(jìn)行多色印制。備選地,同樣可對(duì)容器各自通過多個(gè)印制頭32同時(shí)進(jìn)行印制。圖8示出了對(duì)被雙重保持的容器20進(jìn)行同時(shí)印制的設(shè)備If的另一實(shí)施方式。輸入裝置12或者輸出裝置14各自實(shí)施成轉(zhuǎn)動(dòng)式星形件13、15。備選地,輸入裝置12或者輸出裝置14可實(shí)施成標(biāo)準(zhǔn)輸入星形件16或者標(biāo)準(zhǔn)輸出星形件17,并且在傳送裝置11的容器臺(tái)(未示出)上對(duì)容器20進(jìn)行水平定位。裝置If各自在旋轉(zhuǎn)式傳送裝置11上方同樣包括在第一基礎(chǔ)模塊29和第二基礎(chǔ)模塊30上的至少兩個(gè)印制頭32,并且因此所述至少兩個(gè)印制頭32以處于盡可能水平地平放的容器20上方的方式布置。尤其地,印制頭32處在盡可能相同高度水平上,并且處在內(nèi)部和外部的印制頭32同時(shí)對(duì)兩個(gè)被保持在雙重保持件52處的容器20加以印制。本發(fā)明參照一種優(yōu)選的實(shí)施方式進(jìn)行描述。然而對(duì)于專業(yè)人士而言如下所述是可以設(shè)想的,即可對(duì)本發(fā)明進(jìn)行改動(dòng)或修改,而在此不離開下列權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
附圖標(biāo)記列表I、la、Ib用于印制容器的設(shè)備IcUd用于印制容器的設(shè)備IOUOa旋轉(zhuǎn)式處理模塊IObUOcUOd旋轉(zhuǎn)式處理模塊11傳送裝置12輸入裝置1390°轉(zhuǎn)動(dòng)式星形件14輸出裝置1590°轉(zhuǎn)動(dòng)式星形件16輸入星形件17輸出星形件20容器22保持裝置23保持裝置29基礎(chǔ)站30基礎(chǔ)站31基礎(chǔ)站32印制頭35中間處理站40預(yù)處理模塊42后處理模塊44干燥件50用于兩個(gè)容器的保持裝置52用于兩個(gè)容器的保持裝置60預(yù)處理模塊62后處理模塊a機(jī)械角度AP始位置B運(yùn)動(dòng)方向
EP終位置I 第一分區(qū)D第二分區(qū)DA轉(zhuǎn)動(dòng)軸線II第三分區(qū)X縱軸線。
權(quán)利要求
1.用于印制容器(20)的方法,其中,將所述容器(20)借助于回轉(zhuǎn)式傳送裝置(11)傳送,所述回轉(zhuǎn)式傳送裝置(11)具有至少一個(gè)用于待印制的容器(20)的保持裝置(23、50、52),其中,為所述回轉(zhuǎn)式傳送裝置(11)配屬有至少一個(gè)基礎(chǔ)模塊(29、30、31),在所述至少一個(gè)基礎(chǔ)模塊(29、30、31)上布置有至少一個(gè)印制頭(32),并且其中,所述至少一個(gè)基礎(chǔ)模塊(29、30、31)布置在所述傳送裝置(11)的回轉(zhuǎn)軌道的區(qū)域中,其特征在于下面的步驟 -將所述容器(20)輸送至印制區(qū)域(D),其中,為所述印制區(qū)域(D)配屬有至少一個(gè)基礎(chǔ)模塊(29、30、31); -將所述至少一個(gè)基礎(chǔ)模塊(29、30)至少部分同步地與通過所述回轉(zhuǎn)式傳送裝置(11)傳送的所述待印制的容器(20) —起引導(dǎo),其中,所述基礎(chǔ)模塊(29、30)在所述印制區(qū)域(D)中占據(jù)在所述回轉(zhuǎn)式傳送裝置(11)處的始位置(AP)和終位置(EP); -當(dāng)基礎(chǔ)模塊(29、30)和回轉(zhuǎn)式傳送裝置(11)在所述始位置(AP)與所述終位置(EP)之間做同步運(yùn)動(dòng)期間,借助于布置在所述基礎(chǔ)模塊(29、30)上的所述至少一個(gè)印制頭(32)對(duì)所述容器(20)進(jìn)行印制; -逆著所述回轉(zhuǎn)式傳送裝置(11)的傳送方向(B)將所述基礎(chǔ)模塊(29、30)回引到所述始位置(AP)中,而與此同時(shí)將所述容器(20)通過所述回轉(zhuǎn)式傳送裝置(11)沿傳送方向(B)繼續(xù)傳送。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的方法,其中,所述容器(20)在所述印制之前經(jīng)受預(yù)處理,和/或其中,所述容器(20)在所述印制之后經(jīng)受后處理。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的方法,其中,將多個(gè)容器(20)同時(shí)印制。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法,其中,將所述容器(20)在所述印制期間和/或在所述預(yù)處理期間和/或在所述后處理期間繞所述容器(20)的縱軸線(X)樞轉(zhuǎn)和/或旋轉(zhuǎn)。
5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法,其中,對(duì)所述容器(20)的預(yù)處理使所述容器(20)的表面為印制過程做好準(zhǔn)備,尤其是其中,所述預(yù)處理包括火焰處理、電暈處理或等離子處理。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法,其中,對(duì)經(jīng)印制的容器(20)的后處理包括對(duì)所述經(jīng)印制的容器(20)進(jìn)行最終干燥、尤其是以熱空氣進(jìn)行干燥或以UV進(jìn)行交聯(lián)。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法,其中,連續(xù)地進(jìn)行如下方法步驟對(duì)所述容器(20)的預(yù)處理、印制和后處理,其中,將所述容器(20)持續(xù)地通過所述回轉(zhuǎn)式傳送裝置(11)運(yùn)動(dòng)。
8.用于印制容器(20)的回轉(zhuǎn)式處理模塊(10、10a、10b、10c、10d、10e、10f),所述回轉(zhuǎn)式處理模塊(10、10a、10b、10c、10d、10e、10f)布置在容器輸入件(12、13、16)與容器輸出件(14、15、17)之間,所述回轉(zhuǎn)式處理模塊(10、10a、10b、10c、IOcU 10e、10f)帶有 回轉(zhuǎn)式傳送裝置(11),所述回轉(zhuǎn)式傳送裝置(11)具有至少一個(gè)用于待印制的容器(20)的保持裝置(23、50、52); 至少一個(gè)基礎(chǔ)模塊(29、30),其中,所述基礎(chǔ)模塊(29、30)包括至少一個(gè)印制頭(32),并且其中,所述基礎(chǔ)模塊(29、30)布置在所述傳送裝置(11)的回轉(zhuǎn)軌道的區(qū)域中, 其特征在于,所述回轉(zhuǎn)式處理模塊(10、10a、10b、10c、IOd)包括至少一個(gè)預(yù)處理模塊(40,60)和/或至少一個(gè)后處理模塊(42、62)和/或至少一個(gè)印制區(qū)域(D),其中,所述印制區(qū)域(D)包括至少一個(gè)基礎(chǔ)模塊(29、30、31),所述至少一個(gè)基礎(chǔ)模塊(29、30、31)能至少區(qū)段式同步于所述回轉(zhuǎn)式傳送裝置(11)地運(yùn)動(dòng)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的回轉(zhuǎn)式處理模塊(10、10a、10b、10c、10d、10e、10f),其中,所述至少一個(gè)預(yù)處理模塊(40、60)和/或所述至少一個(gè)后處理模塊(42、62)布置在所述至少一個(gè)基礎(chǔ)模塊(29、30、31)上。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的回轉(zhuǎn)式處理模塊(10、10a、10b、10c、IOd),其中,所述基礎(chǔ)模塊(29、30、31)是能振蕩式運(yùn)動(dòng)的。
11.根據(jù)權(quán)利要求8至10中任一項(xiàng)所述的回轉(zhuǎn)式處理模塊(10、10a、10b、10c、10d、10e、IOf),其中,所述基礎(chǔ)模塊(29、30、31)能至少區(qū)段式逆著所述回轉(zhuǎn)式傳送裝置(11)的傳送方向⑶運(yùn)動(dòng)。
12.根據(jù)權(quán)利要求8至11中任一項(xiàng)所述的回轉(zhuǎn)式處理模塊(10、10a、10b、10c、10d、10e、10f),其中,所述待印制的容器(20)以在所述回轉(zhuǎn)式傳送裝置(11)的所述保持裝置(23,50,52)中平放著并且以能繞所述容器(20)的盡可能水平地布置的縱軸線(X)運(yùn)動(dòng)的方式來布置。
13.根據(jù)權(quán)利要求8至12中任一項(xiàng)所述的回轉(zhuǎn)式處理模塊(10、10a、10b、10c、10d、10e、10f),其中,所述處理模塊(10、10a、10b、10c、IOcUlOe)包括用于一個(gè)容器(20)的保持裝置(23)或者包括用于兩個(gè)容器(20)的保持裝置(50、52)。
14.根據(jù)權(quán)利要求8至13中任一項(xiàng)所述的回轉(zhuǎn)式處理模塊(10、10a、10b、10c、10d、10e、10f),為所述回轉(zhuǎn)式處理模塊(10、10a、10b、10c、10d、10e、10f)在所述印制區(qū)域中配屬有兩個(gè)基礎(chǔ)模塊(29、30、31),其中,所述基礎(chǔ)模塊(29、30、31)平行地布置和/或固定地彼此聯(lián)接,尤其是指如下的處理模塊,為其在所述印制區(qū)域(D)中配屬有處在所述傳送裝置(11)的回轉(zhuǎn)軌道處的外部基礎(chǔ)模塊(29)和內(nèi)部基礎(chǔ)模塊(30)。
15.根據(jù)權(quán)利要求8至14中任一項(xiàng)所述的回轉(zhuǎn)式處理模塊(10、10a、10b、10c、10d、10e、10f),其中,所述回轉(zhuǎn)式傳送裝置(11)是旋轉(zhuǎn)式傳送裝置或傳送星形件,或其中,所述旋轉(zhuǎn)式傳送裝置至少是區(qū)段式呈線性的。
全文摘要
本發(fā)明涉及用于印制容器的設(shè)備和方法。在此,容器(20)被輸送給印制區(qū)域(D),其中,為印制區(qū)域配屬有至少一個(gè)基礎(chǔ)模塊(29、30、31)。基礎(chǔ)模塊至少部分同步地與被回轉(zhuǎn)式傳送裝置(11)傳送的待印制的容器一起引導(dǎo)。在此,基礎(chǔ)模塊在印制區(qū)域中占據(jù)回轉(zhuǎn)式傳送裝置(11)處的始位置(AP)和終位置(EP)。當(dāng)基礎(chǔ)模塊(29、30、31)和容器(20)在始位置(AP)與終位置(EP)之間做同步運(yùn)動(dòng)期間,容器(20)借助至少一個(gè)布置在基礎(chǔ)模塊(29、30)上的印制頭(32)來印制。接下來,基礎(chǔ)模塊(29、30)逆著回轉(zhuǎn)式傳送裝置(11)的傳送方向(B)回送到始位置(AP)中,而與此同時(shí),容器(20)通過回轉(zhuǎn)式傳送裝置(11)沿傳送方向(B)繼續(xù)傳送。
文檔編號(hào)B41F17/18GK102615956SQ20121002090
公開日2012年8月1日 申請(qǐng)日期2012年1月30日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月25日
發(fā)明者安德烈亞斯·克勞斯 申請(qǐng)人:克羅內(nèi)斯股份公司
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