覆蓋件、印刷工藝、以及顯示單元和電子設(shè)備的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及覆蓋件、印刷工藝、以及顯示單元和電子設(shè)備的制造方法。該覆蓋件，包括能釋放基底；以及提供于基底上并在印刷中與基底分離的犧牲層。
【專利說(shuō)明】覆蓋件、印刷工藝、以及顯示單元和電子設(shè)備的制造方法
[0001]相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用
[0002]本申請(qǐng)要求于2013年5月24日提交的日本專利申請(qǐng)JP2013-100772的權(quán)益，通過(guò)引用將其整體內(nèi)容結(jié)合于此。

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0003]本公開(kāi)涉及一種用于形成要圖案化的層的覆蓋件(blanket)，諸如，如有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光(EL)顯示單元的有機(jī)層、使用覆蓋件的印刷工藝以及顯示單元和電子設(shè)備的每個(gè)的制造方法。

【背景技術(shù)】
[0004]最近，響應(yīng)于電子設(shè)備的降低成本以及增加面積的需求，已經(jīng)考慮降低材料用量并減小尺寸以及簡(jiǎn)單化制造設(shè)備。因此，使用各種印刷工藝的各種功能電子材料(例如，導(dǎo)體、熒光體、電介質(zhì)等等)的圖案形成受到關(guān)注。印刷工藝的實(shí)例可以包括旋涂、諸如噴墨印刷的吐出型印刷工藝、柔板印刷、以及諸如反向膠板印刷的有版印刷(plate printing)。
[0005]在有版印刷中，例如，在稱為覆蓋件的中間轉(zhuǎn)印體上形成墨水涂層(墨水層)。接著，使墨水層與凸版接觸，并且將覆蓋件上留下的圖案從覆蓋件轉(zhuǎn)印到印刷基板以進(jìn)行印刷(例如，參見(jiàn)日本未經(jīng)審查專利申請(qǐng)公開(kāi)第2000-289320號(hào))。
[0006]然而，因?yàn)楦采w件是由硅橡膠等形成的，其潤(rùn)濕性較低；因此，墨水層在厚度上容易變得不均勻。為了解決該問(wèn)題，已經(jīng)公開(kāi)了一種沒(méi)有厚度不均的均勻墨水層的形成方法，其中有機(jī)溶劑用作墨水溶液的溶劑，有機(jī)溶劑具有低于覆蓋件(即，硅橡膠)的涂布表面的表面自由能，或者添加表面活化劑以形成這種均勻墨水層(例如，參見(jiàn)日本未經(jīng)審查專利申請(qǐng)公開(kāi)第 2003-17261、2005-175061、以及 2005-128346 號(hào))。
[0007]諸如硅橡膠的軟材料容易吸收有機(jī)溶劑。因此，涂布于覆蓋件上的墨水層容易干燥成膜，從而降低了圖案精確性，或者圖案化變得困難。為了解決這個(gè)問(wèn)題，例如，已經(jīng)公開(kāi)了一種防止墨水層干燥的方法，其中，覆蓋件預(yù)先被沉浸于預(yù)定有機(jī)溶劑中從而在墨水涂布到覆蓋件之前膨脹(例如，參見(jiàn)日本未經(jīng)審查專利申請(qǐng)公開(kāi)第2007-160514號(hào))?；蛘?，已經(jīng)公開(kāi)一種形成墨水層的方法，其中，將覆蓋件的墨水涂布表面進(jìn)行等離子體處理從而成為親水性的，并且將硅橡膠較少吸收的水性墨水用于形成墨水層(例如，參見(jiàn)日本未經(jīng)審查專利申請(qǐng)公開(kāi)第2007-95517號(hào))。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]然而，覆蓋件必須在控制膨脹量的情況下進(jìn)行膨脹。此外，因?yàn)槭褂么罅康挠袡C(jī)溶齊U，增加了成本，并且難以適用于大面積。此外，反復(fù)膨脹加速了硅橡膠的退化，并且覆蓋件的壽命降低。此外，當(dāng)?shù)入x子體處理覆蓋件的涂布表面時(shí)，雖然提高了潤(rùn)濕性，但降低了可分離性，并且導(dǎo)致產(chǎn)生殘余物。此外，因?yàn)榈入x子體處理改性(改變)覆蓋件的表面，所以在膨脹的情況下加速了覆蓋件的劣化。
[0009]希望提供覆蓋件和印刷工藝，其各自都能增加用作墨水溶液的溶劑的選擇自由度并且實(shí)現(xiàn)了高質(zhì)量圖案化，以及顯示單元的制造方法和電子設(shè)備的制造方法。
[0010]根據(jù)本技術(shù)的實(shí)施方式，提供一種覆蓋件，包括:能釋放基底；以及提供于基底上并在印刷中與基底分離的犧牲層。
[0011]根據(jù)本技術(shù)的實(shí)施方式，提供一種印刷工藝，包括:在能釋放基底上具有犧牲層的覆蓋件上形成功能墨水層，在印刷中犧牲層與基底分離；將具有預(yù)定圖案的凸部的移除板按壓到墨水層上以在覆蓋件上形成圖案層；以及將圖案層轉(zhuǎn)印到印刷基板。
[0012]根據(jù)本技術(shù)的實(shí)施方式，提供一種顯示單元的制造方法，該方法包括形成顯示裝置，顯示裝置的形成包括:在能釋放基底上具有犧牲層的覆蓋件上形成功能墨水層，在印刷中犧牲層與基底分離；將具有預(yù)定圖案的凸部的移除板按壓到墨水層以在覆蓋件上形成圖案層；以及將圖案層轉(zhuǎn)印到印刷基板。
[0013]根據(jù)本技術(shù)的實(shí)施方式，提供一種電子設(shè)備的制造方法，該方法包括形成顯示單元，顯示單元的形成包括:在能釋放基底上具有犧牲層的覆蓋件上形成功能墨水層，在印刷中犧牲層與基底分離；將具有預(yù)定圖案的凸部的移除板按壓到墨水層上以在覆蓋件上形成圖案層；以及將圖案層轉(zhuǎn)印至印刷基板。
[0014]在根據(jù)本技術(shù)的上述相應(yīng)實(shí)施方式的覆蓋件、印刷工藝、顯示單元的制造方法和電子設(shè)備的制造方法中，將具有犧牲層(在印刷中犧牲層與墨水層一起與基底分離)的覆蓋件形成于基底上，以及使用該覆蓋件進(jìn)行印刷，這樣使得可以將墨水層轉(zhuǎn)印到印刷基板上，從而無(wú)需優(yōu)化墨水溶液等。
[0015]在根據(jù)本技術(shù)的上述相應(yīng)實(shí)施方式的覆蓋件、印刷工藝、顯示單元的制造方法和電子設(shè)備的制造方法中，形成包括提供于基底上的犧牲層(在印刷中犧牲層與墨水層一起與基底分離)的覆蓋件，以及使用該覆蓋件進(jìn)行印刷。這增加了用作墨水溶液的溶劑的選擇自由度，并且實(shí)現(xiàn)了高質(zhì)量的圖案形成。
[0016]應(yīng)當(dāng)理解的是，前面的一般描述和下面的詳細(xì)描述都是示例性的，并且旨在提供所要求保護(hù)的技術(shù)的進(jìn)一步說(shuō)明。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0017]包括附圖以提供對(duì)本公開(kāi)的進(jìn)一步理解，以及結(jié)合在本說(shuō)明書中并且構(gòu)成本說(shuō)明書的一部分。附圖示出了實(shí)施方式，并與說(shuō)明書一起，用于說(shuō)明本技術(shù)的原理。
[0018]圖1是示出根據(jù)本公開(kāi)示例性實(shí)施方式的覆蓋件的構(gòu)造的截面圖。
[0019]圖2A至圖2C是使用在圖1中示出的覆蓋件說(shuō)明印刷工藝的流程的過(guò)程圖。
[0020]圖3A至圖3C是繼圖2C之后的過(guò)程圖。
[0021]圖4A至圖4C是繼圖3C之后的過(guò)程圖。
[0022]圖5A至圖5C是繼圖4C之后的過(guò)程圖。
[0023]圖6是示出根據(jù)本公開(kāi)示例性實(shí)施方式的顯示單元的總體構(gòu)造的平面圖。
[0024]圖7是示出在圖6中示出的像素驅(qū)動(dòng)電路的實(shí)例的電路圖。
[0025]圖8是在圖6中示出的顯示單元的制造方法的流程圖。
[0026]圖9是示出在圖6中示出的顯示單元的示例性構(gòu)造的截面圖。
[0027]圖10是示出在圖6中示出的顯示單元的另一種示例性構(gòu)造的截面圖。
[0028]圖11是示出根據(jù)本公開(kāi)變形例的覆蓋件的構(gòu)造的截面圖。
[0029]圖12A是示出從其前側(cè)觀看的根據(jù)上述實(shí)施方式的顯示單元的應(yīng)用例I的外觀的立體圖。
[0030]圖12B是示出從其后側(cè)觀看的根據(jù)上述實(shí)施方式及其變形例的任何一者的使用像素的顯示單元的應(yīng)用例I的外觀的立體圖。
[0031]圖13是示出應(yīng)用例2的外觀的立體圖。
[0032]圖14A是示出從其前側(cè)觀看的應(yīng)用例3的外觀的立體圖。
[0033]圖14B是示出從其后側(cè)觀看的應(yīng)用例3的外觀的立體圖。
[0034]圖15是示出應(yīng)用例4的外觀的立體圖。
[0035]圖16是示出應(yīng)用例5的外觀的立體圖。
[0036]圖17A包括處于關(guān)閉狀態(tài)中的應(yīng)用例6的正視圖、左視圖、右視圖、俯視圖、以及仰視圖。
[0037]圖17B包括處于打開(kāi)狀態(tài)中的應(yīng)用例6的正視圖和側(cè)視圖。

【具體實(shí)施方式】
[0038]在下文中，將參考附圖進(jìn)行詳細(xì)地描述本技術(shù)的實(shí)施方式。應(yīng)注意，將按以下順序進(jìn)行說(shuō)明。
[0039]1.實(shí)施方式
[0040]1-1覆蓋件
[0041]1-2制造方法
[0042]1-3顯示單元的構(gòu)造
[0043]1-4功能與操作
[0044]2.變形例
[0045]3.實(shí)施例
[0046]4.應(yīng)用例
[0047][1.實(shí)施方式]
[0048](1-1 覆蓋件)
[0049]圖1示出了根據(jù)本公開(kāi)的實(shí)施方式的覆蓋件(覆蓋件I)的截面構(gòu)造。覆蓋件I用于通過(guò)有版印刷形成構(gòu)成設(shè)置于有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光顯示單元(例如，顯示單元5A，參見(jiàn)圖9)的半導(dǎo)體層20中的薄膜晶體管(TFT)的各個(gè)層，或者形成發(fā)出紅色(R)、綠色(G)和藍(lán)色(B)的光之一的發(fā)光層33C。在有版印刷中，例如,在反向膠板印刷(reverse offset printing)中，在覆蓋件I上形成墨水層A，并且接下來(lái)使墨水層與移除板2(反向印刷版)接觸，將留在覆蓋件I上的圖案(劃線部分A’)從覆蓋件I接觸轉(zhuǎn)印至印刷基板(基板3)以進(jìn)行印刷(參見(jiàn)圖3至5)。在本實(shí)施方式中，詳細(xì)地描述在有版印刷中使用的覆蓋件I的構(gòu)造。
[0050]覆蓋件I具有這樣的構(gòu)造:由不溶于墨水溶液(溶液D2r)(構(gòu)成墨水層A的功能材料溶解在墨水溶液中)所用的溶劑中的材料構(gòu)成的犧牲層12堆疊在能釋放基底11上。
[0051]基底11可由能釋放材料(releasable material,脫模性材料)形成,例如，具有低表面張力的材料，并且例如可優(yōu)選地由硅基材料形成。硅基材料的具體實(shí)例包括硅樹脂，諸如熱固性混煉型(millable)娃橡膠、加成型液體娃橡膠、以及縮聚固化(condensat1ncuring)液體硅橡膠。因?yàn)闋奚鼘?2和墨水層A被涂布在基底11上，所以尤其優(yōu)選使用可借助于UV交聯(lián)或熱交聯(lián)固化的娃樹脂(silicone resin)。
[0052]犧牲層12由潤(rùn)濕性高于基底11的材料構(gòu)成，并且便于墨水層A的涂布。盡管可以根據(jù)其用途適當(dāng)?shù)卦O(shè)置犧牲層12的厚度，但厚度可以是例如0.Ιμπι至ΙΟμπι。因?yàn)槟畬覣形成于犧牲層12的表面上，所以構(gòu)成犧牲層12的材料選自如上所述的均不溶解于墨水溶液(溶液D2r)的溶劑中的材料。具體地，選擇形成犧牲層12的溶液(溶液Dlr)的溶劑，溶劑的溶解參數(shù)(SP值)不同于墨水溶液(溶液D2r)的溶劑的溶解參數(shù)，優(yōu)選相差2或更多，更優(yōu)選相差3或更多，并且最優(yōu)選相差4或更多。
[0053]例如，在墨水溶液的溶劑為水的情況下，用作犧牲層12的材料的實(shí)例可優(yōu)選地包括可溶于芳香族溶劑(諸如甲苯或其他有機(jī)溶劑)中的材料。可溶于甲苯的樹脂的具體實(shí)例可包括聚苯乙烯、聚酯等等。在墨水溶液的溶劑為芳香族溶劑，諸如甲苯、二甲苯或均三甲苯的情況下，犧牲層12優(yōu)選地由可溶于水或醇類溶劑中的材料形成。可溶于水的樹脂的具體實(shí)例可包括聚乙烯醇和諸如乙基纖維素的纖維素。可溶于醇類溶劑的樹脂的具體實(shí)例可包括聚乙烯醇縮丁醛、聚酰胺等等。表I集中地示出了犧牲層12和墨水層A的材料組合以及材料的SP值與SP值之間的差的實(shí)例。應(yīng)注意幾種類型的溶劑可組合用于犧牲層12和墨水層A中的每個(gè)。
[0054]表I
[0055]
犧牲層|sp值I墨水層|sp值I差值~

乙醇~12.7 二甲苯 8.8~3?9
異丙醇11.5 環(huán)己烷8.2 3.3
甲苯~8?9~W 23.4 14.5
異丙醇11.5 茴香醚071 ~2Γ2
[0056](1-2制造方法)
[0057]圖2A至圖5C示出了反向膠板印刷的過(guò)程。首先，如圖2A至2C所示，在基底11上形成犧牲層12以制備覆蓋件I。例如，如圖2A所示，將溶液Dlr吐出到由硅橡膠構(gòu)造成的基底11上。接著，如圖2B所示,通過(guò)棒涂(bar coating)、口模式涂布(die coating)、或旋涂(spin coating)將溶液Dlr遍布基底11的表面上。接著，如圖2C所示,干燥溶液Dlr以在基底11上產(chǎn)生具有犧牲層12的覆蓋件I。
[0058]接著，如圖3A所示，將溶解有功能材料的溶液D2r吐出到覆蓋件I的犧牲層12上。如圖3B所示，溶液D2r通過(guò)棒涂、口模式涂布或旋涂遍布在犧牲層12上，然后干燥，從而如圖3C所示，由功能材料構(gòu)成的墨水層A形成在犧牲層12上。
[0059]接著，如圖4A所示，具有預(yù)定圖案(期望圖案的反轉(zhuǎn)圖案(非劃線部分))的凸部的移除板2被按壓到具有墨水層A的覆蓋件I上。在該步驟中，在小基板的情況下，例如，覆蓋件I和移除板2可布置成彼此平行，并且向覆蓋件I的整個(gè)背面共同施加壓力，從而使得均勻接觸。在大基板的情況下，例如，覆蓋件I稍微傾斜地布置在移除板2上，然后在從覆蓋件I的端部開(kāi)始逐漸接觸的同時(shí)重疊于其上。接著，根據(jù)需要通過(guò)輥?zhàn)拥认蚋采w件I的背側(cè)施加壓力。
[0060]移除板2可以是能夠從覆蓋件I移除非劃線部分的墨水層A的任意板并可由例如諸如玻璃和硅酮的無(wú)機(jī)材料、諸如不銹鋼、銅(Cu)、和鎳(Ni)的金屬、或任何各種抗蝕劑材料構(gòu)成。移除板2具有對(duì)應(yīng)目標(biāo)印刷的圖案的凹部。使移除板2與覆蓋件I接觸以便移除板2的凹部與墨水層A相對(duì)，因此，如圖4C所示，在覆蓋件I上形成由具有與移除板2的凹部的圖案相同的圖案的功能材料構(gòu)成的劃線部分A’。在移除板2上形成具有與凹部的圖案反向的圖案(與凸部的圖案相同的圖案)的功能材料構(gòu)成的非劃線部分域A”。
[0061]因?yàn)楸仨殞奚鼘?2和墨水層A與基底11的表面分離，移除板2的凹凸表面優(yōu)選地由比基底11更容易潤(rùn)濕的材料構(gòu)成，或者優(yōu)選被表面處理。例如，通過(guò)噴沙、光刻和蝕亥|J、聚焦離子束(FBI)等技術(shù)形成移除板2的凹凸。此外，優(yōu)選使移除板2在覆蓋件I上形成墨水層A之后的較短時(shí)間(例如，I分鐘)內(nèi)與覆蓋件I接觸。這是因?yàn)槿绻呀?jīng)過(guò)去相當(dāng)長(zhǎng)的時(shí)間，包含于墨水層A中的溶劑揮發(fā)，并且墨水層A過(guò)于干燥。
[0062]接著，如圖5A所示，準(zhǔn)備將作為印刷基板的基板3A，并且將覆蓋件I的劃線部分A’和基板3A的圖案形成位置對(duì)齊以彼此相對(duì)。接著，如圖5B所示，例如，通過(guò)上述按壓法將覆蓋件I按壓到基板3A上，然后如圖5C所示，將覆蓋件I從基板3A分開(kāi)。因此，將劃線部分A’與犧牲層12’ 一起印刷到基板3A上。可優(yōu)選地在形成劃線部分A’之后的例如30分鐘內(nèi)進(jìn)行覆蓋件I和基板3A之間的接觸。這是因?yàn)槿绻呀?jīng)過(guò)去相當(dāng)長(zhǎng)的時(shí)間，溶液D2r的溶劑揮發(fā)，所以難以從覆蓋件I轉(zhuǎn)印(分離)劃線部分A’。
[0063]最終，將具有在劃線部分A’上的犧牲層12’的基板3A浸入預(yù)定溶劑中以從劃線部分A’的表面溶解移除犧牲層12’，從而，制造出其上設(shè)置有具有期望圖案的劃線部分A’的基板3A。用于移除犧牲層12’的溶劑僅溶解構(gòu)成犧牲層12的材料而不溶解構(gòu)成劃線部分A’的材料。
[0064](1-3顯示單元的構(gòu)造)
[0065]圖6示出了根據(jù)本公開(kāi)示例性實(shí)施方式的顯示單元(顯示單元5)的示例性平面構(gòu)造。例如，顯示單元5可用于進(jìn)行檢測(cè)的監(jiān)視器，并且可具有這樣的構(gòu)造:在顯示區(qū)域IlOA中例如以矩陣布置有多個(gè)像素(紅色像素4R、綠色像素4G、和藍(lán)色像素4B)。例如,像素部4可具有紅色發(fā)光元件1R (紅色像素4R)、綠色發(fā)光元件1G (綠色像素4G)、以及藍(lán)色發(fā)光元件1B (藍(lán)色像素4B)。發(fā)光元件10R、1G和1B各自不僅可由有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光器件構(gòu)成，也可由例如無(wú)機(jī)場(chǎng)致發(fā)光器件、半導(dǎo)體激光器、發(fā)光二極管(LED)等構(gòu)成。信號(hào)線驅(qū)動(dòng)電路120和掃描線驅(qū)動(dòng)電路130各自為用于圖像顯示的驅(qū)動(dòng)器，被設(shè)置在顯示區(qū)域IlOA的周邊(邊緣區(qū)域110B)。
[0066]像素驅(qū)動(dòng)電路140被設(shè)置在顯示區(qū)域IlOA中。圖7示出了像素驅(qū)動(dòng)電路140的實(shí)例。像素驅(qū)動(dòng)電路140是在下文描述的下部電極31的下層中設(shè)置的有源驅(qū)動(dòng)電路。具體地，像素驅(qū)動(dòng)電路140包括驅(qū)動(dòng)晶體管Trl、寫入晶體管Tr2、晶體管Trl和Tr2之間的電容器(保持電容)Cs，和串聯(lián)連接到第一電源線(Vcc)和第二電源線(GND)之間的驅(qū)動(dòng)晶體管Trl的發(fā)光元件10R(10G或10B)。驅(qū)動(dòng)晶體管Trl和寫入晶體管Tr2各自由典型的薄膜晶體管構(gòu)成，并且可具有反向交錯(cuò)結(jié)構(gòu)(所謂的底柵型；柵電極、溝道層和一對(duì)源電極和漏電極以這種順序堆疊的結(jié)構(gòu))或交錯(cuò)結(jié)構(gòu)(頂柵型；溝道層、柵電極和一對(duì)源電極和漏電極以這種順序堆疊的結(jié)構(gòu))，但并不限于此。
[0067]在像素驅(qū)動(dòng)電路140中，多個(gè)信號(hào)線120A被布置在列方向上，且多條掃描線130被布置在行方向上。各條信號(hào)線120A和各條掃描線130A的交叉點(diǎn)對(duì)應(yīng)于發(fā)光元件10RU0G和1B之一。各條信號(hào)線120A連接到信號(hào)線驅(qū)動(dòng)電路120，且圖像信號(hào)通過(guò)信號(hào)線120A從信號(hào)線驅(qū)動(dòng)電路120供給到寫入晶體管Tr2的源電極。各條掃描線130A連接到掃描線驅(qū)動(dòng)電路130，且掃描信號(hào)通過(guò)掃描線130A順序地從掃描線驅(qū)動(dòng)電路130供給到寫入晶體管Tr2的柵電極。
[0068]圖8是示出在圖6中示出的顯示單元5的制造方法的流程圖。圖9示出通過(guò)該制造方法生產(chǎn)的顯示單元5 (顯示單元5A)的示例性截面構(gòu)造。在顯示單元5A中，半導(dǎo)體層20和顯示層30以這種順序堆疊在基板3上。例如，半導(dǎo)體層20可以包括驅(qū)動(dòng)晶體管Trl、寫入晶體管Tr2等等。顯示層30可設(shè)置于半導(dǎo)體層20上，并可包括發(fā)光元件10。在顯示單元5(5A)中，在圖2A至圖5C中示出通過(guò)反向膠板印刷形成的設(shè)置在半導(dǎo)體層20中的晶體管的各層以及發(fā)光元件10 (10R、1G和10B)的發(fā)光層33C (紅色發(fā)光層33CR、綠色發(fā)光層33CG、以及藍(lán)色發(fā)光層33CB)。現(xiàn)在描述使用覆蓋件I形成發(fā)光層33C的實(shí)例。
[0069](形成半導(dǎo)體層20的步驟)
[0070]首先，例如通過(guò)濺射工藝或真空蒸發(fā)工藝在基板3的整個(gè)表面上形成由柵電極、柵極絕緣膜、溝道層、一對(duì)源電極和漏電極構(gòu)(均未示出)造成的半導(dǎo)體層20(步驟S101)。具體地，形成將成為柵電極的金屬膜，然后通過(guò)例如光刻工藝和蝕刻而圖案化金屬膜來(lái)形成柵電極。
[0071]接著，在基板3和柵電極的每個(gè)的整個(gè)表面上按順序形成柵極絕緣膜和溝道層。具體地，例如通過(guò)等離子化學(xué)氣相沉積(PECVD)工藝在基板3的整個(gè)表面上形成氧化硅膜以生產(chǎn)柵極絕緣膜。可通過(guò)濺射工藝形成柵極絕緣膜。接著，在柵極絕緣膜上形成例如非晶硅構(gòu)成的溝道層。通過(guò)例如直流(DC)濺射工藝在柵極絕緣膜上薄膜形成非晶硅來(lái)形成溝道層。接著，通過(guò)光刻工藝和蝕刻來(lái)圖案化溝道層。
[0072]接著在溝道層上形成一對(duì)源電極和漏電極。具體地，例如由濺射工藝形成諸如Cu的金屬膜，然后形成一對(duì)源電極和漏電極從而具有通過(guò)用光刻工藝蝕刻的預(yù)定圖案形式。因此，完成了構(gòu)成像素驅(qū)動(dòng)電路140的薄膜晶體管(例如，驅(qū)動(dòng)晶體管Trl)。
[0073](形成下部電極的步驟)
[0074]接著，例如，在其上形成有諸如像素驅(qū)動(dòng)電路的半導(dǎo)體層20的基板3的整個(gè)表面上形成例如由氧化銦錫(ITO)構(gòu)成的透明導(dǎo)電膜，并圖案化透明導(dǎo)電膜以便設(shè)置下部電極31用于紅色發(fā)光元件10R、綠色發(fā)光元件10G、和藍(lán)色發(fā)光元件1B中的每個(gè)(步驟S102)。這時(shí)，下部電極31被連接至像素驅(qū)動(dòng)電路的驅(qū)動(dòng)晶體管。雖然基板3可由諸如石英、玻璃、金屬箔、樹脂膜和樹脂片等已知材料形成，但基板3優(yōu)選由石英或玻璃形成。下部電極31可由單種金屬元素(例如鉻(Cr)、金(Au)、鉬(Pt)、N1、Cu、鎢(W)和銀(Ag))或其任意合金形成，或者可由氧化銦錫(InZnO)、氧化鋅(ZnO)和鋁(Al)的合金等的透明導(dǎo)電膜形成。
[0075](形成隔壁的步驟)
[0076]接著，例如，由例如化學(xué)氣相沉積(CVD)工藝在下部電極31和基板3的每個(gè)上形成諸如S12的無(wú)機(jī)絕緣膜，并且通過(guò)光刻工藝技術(shù)和蝕刻技術(shù)圖案化，從而形成隔壁32 (步驟S103)。隔壁32確保下部電極31與上部電極34之間的絕緣，并且將發(fā)光區(qū)域限定為期望形狀；因此，設(shè)置對(duì)應(yīng)于發(fā)光區(qū)域的開(kāi)口。形成隔壁32后，將(在形成隔壁32和下部電極31的一側(cè)的)表面進(jìn)行氧等離子體處理，以便清潔下部電極31的表面。
[0077](形成有機(jī)層的步驟)
[0078]接著，通過(guò)將空穴注入層33A、空穴傳輸層33B、發(fā)光層33C、電子傳輸層33D、電子注入層33E以這種順序堆疊而在下部電極31和隔壁32上形成有機(jī)層33(步驟S104)。
[0079]首先，如下文的詳細(xì)描述，例如，可將以下材料用于空穴注入層33A、空穴傳輸層33B中的每個(gè)。用于空穴注入層33A的材料的實(shí)例可以包括導(dǎo)電聚合物，諸如聚苯胺、聚噻吩、聚卩比咯、聚噻吩乙塊(polythienylenevinylene)、聚亞噻吩亞乙烯(polythienylenevinylene)、聚喹啉、聚喹喔啉、及其衍生物；在其主鏈或側(cè)鏈中包括芳族胺結(jié)構(gòu)的聚合物；金屬酞菁(銅酞菁)；和碳。此外，可使用苯胺低聚物或聚二氧噻吩(例如聚(3，4-亞乙二氧基噻酹)(PEDOT))。此外，可使用從H.C.Starck獲得的Naf1n(商標(biāo))和Liqu1n(商標(biāo))，從 Nissan Chemical Industries, Ltd 獲得的 “ELsource”(商標(biāo))，以及從 SokenChemical&Engineering C0., Ltd 獲得的導(dǎo)電聚合物 “Verazol ”。
[0080]用于空穴傳輸層33B的材料的實(shí)例可以包括聚合物材料，諸如聚乙烯咔唑、聚芴、聚苯胺、聚硅烷、在其側(cè)鏈或主鏈中包括芳族胺的聚硅氧烷衍生物、聚噻吩及其衍生物、以及聚吡咯。
[0081]在形成空穴傳輸層33B之后，通過(guò)反向膠板印刷形成紅色發(fā)光元件1R的紅色發(fā)光層33CR、綠色發(fā)光元件1G的綠色發(fā)光層33CG、以及藍(lán)色發(fā)光元件1B的藍(lán)色發(fā)光層33CB。
[0082]具體地，通過(guò)上述反向膠板印刷(圖2A至圖5C)形成紅色發(fā)光層33CR(綠色發(fā)光層33CG、或藍(lán)色發(fā)光層33CB)。首先，如圖2A至圖2C所示，在基底11上制備具有犧牲層12的覆蓋件I。接著，如圖3A中所示，將溶解有功能材料的溶液D2r (例如，紅色發(fā)光層33CR的溶液)吐出到覆蓋件I的犧牲層12上，然后，如圖3B所示，通過(guò)旋涂散布溶液D2r以形成由如圖3C所示的溶液D2r構(gòu)成的墨水層A。如果在空氣中形成紅色發(fā)光層33CR、綠色發(fā)光層33CG、和藍(lán)色發(fā)光層33CB，發(fā)光元件10RU0G和1B的每個(gè)的發(fā)光壽命可能會(huì)降低；因此，優(yōu)選在氮?dú)夥障聢?zhí)行印刷。
[0083]因此，在覆蓋件I上形成由紅色發(fā)光層33CR的溶液D2r構(gòu)成的墨水層A，然后如圖4A所示將移除板2按壓到墨水層A。
[0084]如上所述，移除板2在其一個(gè)表面上具有凹凸。在這種情況下，移除板2具有對(duì)應(yīng)期望圖案的凹部(例如，紅色發(fā)光層33CR)。使移除板2與覆蓋件I接觸(圖4B)使得移除板2的凹部與墨水層A相對(duì)，因此，如圖4C所示，墨水層A的非劃線部分A”與犧牲層12 —起被轉(zhuǎn)印到移除板2的凸部，在覆蓋件I上形成具有與移除板2的凹部的圖案相同的圖案的劃線部分A’。
[0085]接著，如圖5A所示，準(zhǔn)備具有一直到空穴傳輸層33B的基板3，重新對(duì)齊劃線部分A’和空穴傳輸層33B以彼此相對(duì)。在這種情況下，將覆蓋件I的劃線部分A’調(diào)整到對(duì)應(yīng)紅色發(fā)光元件1R的位置。接著，如圖5B所示，覆蓋件I被按壓到基板3A，然后如圖5C所示從基板3分離覆蓋件I。因此，在空穴傳輸層33B上印刷出將成為紅色發(fā)光層33CR的劃線部分A’以及犧牲層12’。將基板3加熱至從劃線部分A’完全移除溶劑。接著，將基板3浸入專門溶解構(gòu)成犧牲層12’的材料的溶劑中。因此，將劃線部分A’上的犧牲層12’移除，并且形成紅色發(fā)光層33CR。接著，使用新的覆蓋件I通過(guò)類似的步驟分別形成綠色發(fā)光層33CG和藍(lán)色發(fā)光層33CB。
[0086]作為溶液D2r的溶質(zhì)的功能材料構(gòu)成紅色發(fā)光層33CR、綠色發(fā)光層33CG和藍(lán)色發(fā)光層33CB，并且在施加電場(chǎng)時(shí)通過(guò)再結(jié)合電子和空穴來(lái)產(chǎn)生光。功能材料的實(shí)例可以包括聚芴類聚合物衍生物、(聚)對(duì)苯撐乙烯撐衍生物、聚苯撐衍生物、聚乙烯咔唑衍生物、聚噻吩衍生物、二萘嵌苯類染料、香豆素類染料、以及羅丹明類染料。上述聚合物可各自用有機(jī)EL材料摻雜。要使用的摻雜材料可以包括紅熒烯、二萘嵌苯、9，10-二苯基蒽、四苯基丁二烯、尼羅紅(Nile red)和香豆素6。
[0087]除了如上所述的聚合材料以外，溶液D2r還可以包括低分子材料。使用低分子材料使得可以在基板3上以高清晰度形成紅色發(fā)光層33CR、綠色發(fā)光層33CG和藍(lán)色發(fā)光層33CB并且改善顯示單元5的分辨率。
[0088]如同圖10所示的顯示單元5B，藍(lán)色發(fā)光層33CB可形成為對(duì)于發(fā)光元件10RU0G和1B所共有的層。在這種情況下，在形成紅色發(fā)光層33CR和綠色發(fā)光層33CG之后，通過(guò)蒸發(fā)工藝在紅色發(fā)光層33CR、綠色發(fā)光層33CG和空穴傳輸層33B中每個(gè)的整個(gè)表面上形成藍(lán)色發(fā)光層33CB。用作藍(lán)色發(fā)光層33CB(將成為公共層)的材料的實(shí)例可以包括蒽化合物作為主體材料，并摻雜有藍(lán)色或綠色熒光染料作為客體材料。因此，產(chǎn)生藍(lán)光或綠光。
[0089]接著，在紅色發(fā)光層33CR、綠色發(fā)光層33CG和藍(lán)色發(fā)光層33CB (圖9)上或者在藍(lán)色發(fā)光層33CB(圖10)的整個(gè)表面上通過(guò)蒸發(fā)工藝依次形成電子傳輸層33D、電子注入層33E、以及上部電極34。
[0090]電子傳輸層33D改善紅色發(fā)光層33CR、綠色發(fā)光層33CG、以及藍(lán)色發(fā)光層33CB中的每個(gè)的電子傳輸效率。電子傳輸層33D的材料的實(shí)例可以包括喹啉、二萘嵌苯、鄰二氮雜菲、雙苯乙烯(bisstyryl)、卩比嗪、三唑、卩惡唑、富勒烯、卩惡二唑氧、荷酮、其任何衍生物、及其金屬絡(luò)合物。材料的具體實(shí)例可以包括三(8-羥基喹啉)鋁(經(jīng)?？s寫為如Alq3)、蒽、萘、菲、芘、二萘嵌苯、丁二烯、香豆素、C6tl、吖啶、均二苯代乙烯、1，10-菲咯啉(I, ΙΟ-phenanthroline)、其任何衍生物、及其金屬絡(luò)合物。
[0091]電子注入層33E提高了電子注入效率。電子注入層33E的材料的實(shí)例可以包括作為鋰(Li)的氧化物的氧化鋰(Li2O)、作為銫(Cs)的復(fù)合氧化物的碳酸銫(Cs2CO3)、及其混合物。用于電子注入層33E的材料的實(shí)例可以進(jìn)一步包括具有小的功函數(shù)的金屬的簡(jiǎn)單物質(zhì)(simple substance),諸如包括I丐(Ca)和鋇(Ba)的堿土金屬、諸如鋰和銫的堿金屬、銦(In)、和鎂(Mg)，及其任何合金。此外,材料可以包括氧化物、復(fù)合氧化物、和金屬的氟化物的簡(jiǎn)單物質(zhì)，及其混合物。
[0092](形成上部電極的步驟)
[0093]接著，在電子注入層33E上形成上部電極34(步驟S105)。上部電極34在基板3上形成為固態(tài)膜同時(shí)通過(guò)隔壁32和有機(jī)層14與下部電極31隔離，并且用作對(duì)于紅色發(fā)光元件10R、綠色發(fā)光元件1G和藍(lán)色發(fā)光元件1B所共有的電極。上部電極34可由例如鋁、鎂(Mg)、鈣(Ca)或鈉(Na)的導(dǎo)電金屬膜形成。上部電極34優(yōu)選地由在薄膜中具有良好的導(dǎo)電性并且吸光度小的鎂和銀的合金(鎂-銀合金)形成。鎂-銀合金的鎂與銀之比優(yōu)選地在Mg/Ag = 20/1到1/1的厚度比的范圍內(nèi)，但并不限于此。鋁和鋰(Li)的合金(Al-Li合金)可用作上部電極34的材料。
[0094]上部電極34可由包含有機(jī)熒光物質(zhì)(例如鋁喹啉絡(luò)合物、苯乙烯胺衍生物、或酞菁衍生物)的混合層形成。在這種情況下，可進(jìn)一步形成諸如鎂-銀合金的透光層作為第三層。
[0095]形成上部電極34之后，例如通過(guò)蒸發(fā)工藝或CVD工藝形成由具有低滲水性的非晶硅氮構(gòu)成的保護(hù)層35。形成保護(hù)層35之后，其上設(shè)置屏蔽膜和未描繪的彩色濾光片的密封基板6粘結(jié)到保護(hù)層35上，在它們之間使用未描繪的粘合層。這是制造如圖9和圖10所示的顯示單元5(5A或5B)的結(jié)束步驟。
[0096]在顯示單元5中，掃描信號(hào)通過(guò)寫入晶體管Tr2的柵電極從掃描線驅(qū)動(dòng)電路130供應(yīng)至每個(gè)像素，并且圖像信號(hào)通過(guò)寫入晶體管Tr2從信號(hào)線驅(qū)動(dòng)電路120供應(yīng)到保持電容Cs。具體地，根據(jù)保持電容Cs中保持的信號(hào)控制驅(qū)動(dòng)晶體管Trl為接通或斷開(kāi)，從而將驅(qū)動(dòng)電流Id注入到紅色發(fā)光元件10R、綠色發(fā)光元件10G、以及藍(lán)色發(fā)光元件1B的每個(gè)中，并且空穴和電子彼此重新組合產(chǎn)生發(fā)光。在底部發(fā)光的情況下通過(guò)下部電極31和基板3提取光，而在頂部發(fā)光的情況下通過(guò)上部電極34、波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換部、以及密封基板35提取光。
[0097](1-4功能和效果)
[0098]在典型的印刷工藝中，例如，如下進(jìn)行圖案形成。首先，根據(jù)圖案化圖像生產(chǎn)用于平版印刷(planographic printing)、凹版印刷、或者凸版印刷的印刷板,并且適當(dāng)量的墨水用口模式涂布機(jī)、滾筒等沉積在印刷板的表面中的墨水接收部分中。接著，將圖案轉(zhuǎn)印至具有例如氯橡膠形成的表面的橡膠覆蓋件。所轉(zhuǎn)印的圖案進(jìn)一步轉(zhuǎn)印(印刷)至印刷基板，從而將圖案形成在印刷基板上。
[0099]在如上所述的工藝中，許多滾筒用于將墨水提供于板上，并且墨水在滾筒之間捏和的同時(shí)轉(zhuǎn)印。在這時(shí)候，所謂的絲化(stringing)現(xiàn)象出現(xiàn)在墨水在滾筒之間轉(zhuǎn)印的表面上，由于墨水的溶劑的蒸發(fā)或粘合劑樹脂的老化等引起絲化。此外，在滾筒上墨水中出現(xiàn)的厚度不均勻性(所謂的瓜紋)使得顯示單元產(chǎn)生的圖像的質(zhì)量降低。
[0100]已經(jīng)開(kāi)發(fā)諸如上述的反向膠板印刷的有版印刷工藝作作為抑制出現(xiàn)絲化現(xiàn)象和瓜紋的方法。在有版印刷中，在覆蓋件上形成墨水層之后，使墨水層與具有與期望圖案相反的圖像的凸部的凸版(移除板)接觸，并且覆蓋件上留下的圖案從覆蓋件接觸轉(zhuǎn)印至印刷基板，以便進(jìn)行印刷。覆蓋件必須具有可釋放性，其使得當(dāng)形成于覆蓋件上的墨水層與印刷基板接觸時(shí)允許轉(zhuǎn)印整個(gè)接觸表面。優(yōu)異的能釋放材料的實(shí)例可以包括通常基于聚二甲硅氧烷的硅橡膠。
[0101]然而，由硅橡膠等構(gòu)成的覆蓋件的涂布表面的表面自由能性較小，并且墨水潤(rùn)濕性低。因此，墨水容易在厚度上變得不均勻，并且已難以生產(chǎn)分辨率高并且圖像可再現(xiàn)性高的高質(zhì)印刷品。此外，諸如硅橡膠的軟材料容易吸收墨水溶液的溶劑，因此涂布于覆蓋件上的墨水層容易變干。因此，如上所述在圖案的邊緣中可能出現(xiàn)絲化，或者墨水層被變成薄膜，并且因此圖案準(zhǔn)確度可能降低，或者可能妨礙圖案化。
[0102]為了克服這種缺點(diǎn)，已經(jīng)提出一種預(yù)先增加膨脹覆蓋件I的步驟的方法以及增加移除溶劑的步驟的方法。然而，這些方法不利地導(dǎo)致方法復(fù)雜化并且增加成本。如果進(jìn)一步發(fā)生不完全移除溶劑的現(xiàn)象，發(fā)生反向擴(kuò)散現(xiàn)象，即，溶劑擴(kuò)散回到覆蓋件I上的圖案化的有機(jī)物上；因此，在干燥步驟的過(guò)程中圖案收縮。因此，尺寸發(fā)生改變，導(dǎo)致分辨率降低，顯示單元的顯示亮度不均勻等等。此外，反復(fù)的膨脹和收縮加速了硅樹脂組分的劣化，并且減少覆蓋件使用壽命。
[0103]另一方面，基于硅橡膠不吸水的情況以及從可操作性和環(huán)境負(fù)荷的觀點(diǎn)來(lái)看提出使用水性墨水的方法。在使用水性墨水的情況下，必須改進(jìn)覆蓋件的涂布表面的潤(rùn)濕性。在一些方法中，添加表面活化劑以減少要使用的水性墨水的表面張力，或者等離子體處理覆蓋件的表面從而改性。然而，如果添加表面活化劑，墨水溶液由于表面活化劑而起泡沫。這不利地導(dǎo)致在墨水層中形成小孔等，由于所添加的表面活化劑的影響降低了墨水層到印刷基板的可轉(zhuǎn)印性，功能材料的功能劣化等等。此外，雖然通過(guò)等離子體處理使得涂布表面改性而改善了潤(rùn)濕性，但因此不利地劣化作為硅酮覆蓋件的特征的可分離性。此外，因?yàn)閾Q言之表面改性是表面改質(zhì)，覆蓋件的劣化不利地變得更快。
[0104]相反，在本實(shí)施方式中，提供了具有犧牲層12的覆蓋件1，犧牲層12可分離地設(shè)置在由硅橡膠等構(gòu)成的基底11上，并且墨水層A設(shè)置于犧牲層12上。這允許墨水層A與犧牲層12 —起從基底11分離并轉(zhuǎn)印到基板3上。具體地，這樣不需要通過(guò)有機(jī)溶劑使覆蓋件I膨脹或通過(guò)等離子體處理等覆蓋件1，而這些都是覆蓋件I劣化的原因，并且消除了復(fù)雜的操作，例如墨水溶液(溶液Dr2)的調(diào)整(例如添加表面活化劑)。
[0105]如上所述，根據(jù)本技術(shù)示例性實(shí)施方式的覆蓋件和印刷工藝，提供具有在印刷中可從基底11分離的犧牲層12的覆蓋件1，并且使用覆蓋件I進(jìn)行印刷。這使得可以在基板3的劃線部分A’上進(jìn)行印刷，而無(wú)需用有機(jī)溶劑使覆蓋件I膨脹，或通過(guò)等離子體處理等表面處理覆蓋件1，這些是覆蓋件I劣化的原因，也沒(méi)有諸如調(diào)整墨水溶液(溶液Dr2)的復(fù)雜操作。換言之，這增大了用作墨水溶液溶劑的選擇自由度，并且實(shí)現(xiàn)了高質(zhì)量圖案化。
[0106]如上所述，例如當(dāng)在具有硅橡膠的涂布表面的覆蓋件上直接形成將成為例如有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光顯示單元的發(fā)光層的墨水層時(shí)，包含于硅橡膠中的低分子硅氧烷被洗提，并且低分子硅氧烷可能混入到發(fā)光層和例如電子傳輸層之間的界面中。低分子硅氧烷干擾至發(fā)光層的電荷傳輸，從而引起諸如發(fā)光效率的性能退化。在本實(shí)施方式的覆蓋件I中，在包含低分子硅氧烷中的硅橡膠(基底11)與墨水層A之間設(shè)置有犧牲層12，這抑制了低分子硅氧燒混入墨水層A。因此，可以提供聞品質(zhì)顯不單兀和聞品質(zhì)電子設(shè)備。
[0107]此外，因?yàn)槟畬覣(劃線部分A’)在具有犧牲層12(犧牲層12’)的情況下從覆蓋件I轉(zhuǎn)印到基板3，在覆蓋件I上不會(huì)留下墨水層的殘余物。換言之，容易清潔覆蓋件I。
[0108]雖然已經(jīng)用示例性案例描述了該實(shí)施方式，在示例性案例中僅將使用覆蓋件I的印刷工藝應(yīng)用于發(fā)光層33C，但并不限于此。印刷工藝適用于形成其他層，即，構(gòu)成半導(dǎo)體層20的薄膜晶體管的層、其他布線、有機(jī)層33中發(fā)光層33C以外的層、或諸如彩色濾光片的圖案層。
[0109][2.變形例]
[0110]圖11示出了根據(jù)上述實(shí)施方式的變形例的覆蓋件(覆蓋件1A)的截面構(gòu)造。覆蓋件IA與上述實(shí)施方式不同的是壓縮層13和剝落層14被設(shè)在基底11與犧牲層12之間。
[0111]如同上述實(shí)施方式，例如，基底11可由硅酮類材料形成。此外，在本變形例中，因?yàn)橛糜诟倪M(jìn)犧牲層12 (在其上設(shè)置墨水層A)的分離的剝落層14設(shè)置于壓縮層13與犧牲層12之間，基底11可由除了可分離材料以外的材料形成。使用的材料的具體實(shí)例可以包括樹脂膜，諸如聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚酰亞胺、聚丙烯和聚碳酸酯，金屬膜，諸如不銹鋼，由各種纖維中任意一種構(gòu)成的布，無(wú)紡布，橡膠等等。
[0112]在包含功能材料的溶液Dr2的溶劑與上述實(shí)施方式中的類似的情況下，即為水的情況下，犧牲層12優(yōu)選地由可溶于醇類溶劑和其他有機(jī)溶劑中的材料形成。在溶液Dr2的溶劑是芳族溶劑(諸如甲苯、二甲苯、或均三甲苯)的情況下，犧牲層12優(yōu)選地由溶于水的材料形成。
[0113]壓縮層13可由彈性材料形成，例如，泡沫、橡膠等。使用的材料的具體實(shí)例可以包括聚氨酯、聚乙烯等等。
[0114]剝落層14可由能釋放材料形成，例如，具有低表面張力的材料，并且優(yōu)選由用作上述實(shí)施方式中的基底11的硅酮類材料形成。硅酮類材料的具體實(shí)例可以包括硅樹脂，諸如熱固性混煉型硅橡膠、加成型液體硅橡膠、以及縮聚固化液體硅橡膠。
[0115]因此，在本變形例中，彈性壓縮層13被設(shè)置于構(gòu)成覆蓋件IA的堆疊結(jié)構(gòu)中，從而可以在印刷中允許覆蓋件IA更溫和地與基板3接觸。因此，進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)高清晰度印刷。
[0116]雖然在本變形例中壓縮層13設(shè)置于基底11與犧牲層12之間，但是壓縮層13可以設(shè)置于例如后側(cè)，即，基底11的與犧牲層12相反的一側(cè)上?；?1還可以用作壓縮層
13。此外，剝落層14還可以用作壓縮層13。
[0117][3.實(shí)施例]
[0118]現(xiàn)在描述本公開(kāi)的具體實(shí)施例。
[0119](實(shí)驗(yàn)I)
[0120]生產(chǎn)在上述實(shí)施方式中所描述的覆蓋件1，并且形成布線。首先，制備不銹鋼膜作為基底11，并且將粘合劑涂布于不銹鋼膜。接著，使用一組分的縮合液體硅橡膠通過(guò)刮刀涂布機(jī)形成層，并且在25°保持一周以固化硅橡膠，從而形成剝落層14。接著，將溶解有聚乙烯醇縮丁醛樹脂的異丙醇溶液作為溶液Drl涂布于剝落層14上以形成犧牲層12，以便生產(chǎn)覆蓋件I (實(shí)驗(yàn)例1-1)。
[0121 ] 接著，將導(dǎo)電組合物作為溶液D2r涂布于犧牲層12上以便形成墨水層A，在導(dǎo)電組合物中以5wt%的比率將用油酸進(jìn)行了表面處理的銀納米粒子(平均粒徑1nm)分散于環(huán)己烷中。接著，形成包括玻璃的移除板2，玻璃表面具有L/S = 5/5 μ m(長(zhǎng)寬比1:1)的凹凸，并且允許移除板與墨水層A接觸以移除非像素部分A’ ’，使得劃線區(qū)A’具有期望圖案并且在覆蓋件I上形成犧牲層12’。
[0122]接著，將劃線部分A’轉(zhuǎn)印到基板3。接著，烘烤基板3，然后浸入異丙醇中，從而劃線部分A’上的犧牲層12’被溶解移除。通過(guò)這種操作，在基板3上形成導(dǎo)電布線L/S =5/5 μ m。將該印刷步驟重復(fù)N次。
[0123]除了實(shí)驗(yàn)例1-1，作為比較例，在以下各個(gè)條件下將布線L/S = 5/5 μ m轉(zhuǎn)印到基板3，但不設(shè)置犧牲層12。首先，在實(shí)驗(yàn)例1-2中，將墨水層A直接設(shè)置在剝落層14上。在實(shí)驗(yàn)例1-3中，基底11的表面在氮?dú)?0.2Torr)氣氛下進(jìn)行等離子體處理(20W，30秒)，然后將墨水層A直接設(shè)置于剝落層14上。在實(shí)驗(yàn)例1-4中，將基底11浸入辛烷中一個(gè)小時(shí)從而充分地膨脹，然后將墨水層A直接設(shè)置于剝落層14上。
[0124]表2集中示出了在各個(gè)實(shí)驗(yàn)例1-1至1-4中第一次印刷和第η次印刷各自是否成功。
[0125]表2
[0126]
I第一次印刷I...I第n次印刷
實(shí)驗(yàn)例1-1 ?100次以上
實(shí)驗(yàn)例1-2 未成功未成功
實(shí)驗(yàn)例1-3JlX
實(shí)驗(yàn)例1-4 ^10次
[0127]如在表2中所示，在設(shè)置了犧牲層12的實(shí)驗(yàn)例1-1中能夠反復(fù)使用覆蓋件1100次以上。另一方面，在溶液D2r直接涂布于剝落層14上的實(shí)驗(yàn)例1-2中墨水層A不能夠均勻地形成于覆蓋件上。在覆蓋件I進(jìn)行了等離子體處理的實(shí)驗(yàn)例1-3中，雖然墨水層A能夠均勻地形成于覆蓋件I上，但是幾次使用(在此例中，3次)之后在覆蓋件I的表面中出現(xiàn)所謂破裂的細(xì)裂紋，并且在印刷布線中形成了斷開(kāi)部分。此外，在覆蓋件I浸入溶劑中從而膨脹的實(shí)驗(yàn)例1-4中，覆蓋件I的表面的粗糙度逐漸增大，并且在使用10次之后在轉(zhuǎn)印后的覆蓋件I的表面上看到墨水層A的殘余物。
[0128](實(shí)驗(yàn)2)
[0129]通過(guò)與實(shí)驗(yàn)I相似的步驟生產(chǎn)了覆蓋件1，并且形成薄膜晶體管的溝道層。在這種情況下，溝道層由在下面的化學(xué)式I中示出的有機(jī)材料(二噁烷蒽嵌蒽化合物)形成。因?yàn)槎f烷蒽嵌蒽化合物不溶于乙二醇中，將溶解了聚酰胺樹脂的乙醇溶液涂布到基底11以形成犧牲層12 (實(shí)驗(yàn)例2-1)。
[0130]化學(xué)式I
[0131]
[0132]接著，二噁烷蒽嵌蒽化合物溶解于二甲苯，成為溶液D2r，然后涂布于犧牲層12上以形成墨水層A。接著，允許具有凹凸的移除板2與墨水層A接觸以移除非像素部分A’’，使得具有期望圖案的劃線部分A’和犧牲層12’形成于覆蓋件I上。
[0133]接著，將劃線部分A’轉(zhuǎn)印到基板3。接著，烘烤基板3，然后浸入乙醇中；從而溶解移除犧牲層12。通過(guò)這種操作，在基板3上產(chǎn)生具有二噁烷蒽嵌蒽化合物作為溝道層的薄膜晶體管。將該印刷步驟重復(fù)N次。
[0134]除了實(shí)驗(yàn)例2-1，作為比較例，在以下各個(gè)條件下將溝道層轉(zhuǎn)印到基板3而不提供犧牲層12。首先，在實(shí)驗(yàn)例2-2中，將墨水層A直接提供于基底11上。在實(shí)驗(yàn)例2-3中，基底11的表面在氮?dú)?0.2Torr)氣氛下進(jìn)行等離子體處理(20W，30秒)，然后將墨水層A直接提供于基底11上。在實(shí)驗(yàn)例2-4中，將基底11浸入二甲苯中一個(gè)小時(shí)從而充分地膨脹，然后將墨水層A直接提供于基底11上。
[0135]表3集中示出了在各個(gè)實(shí)驗(yàn)例2-1至2-4中第一次印刷和第η次印刷分別是否成功。
[0136]表3
[0137]

I第一次印刷I...I第n次印刷
實(shí)驗(yàn)例2-1^ 100次以上
實(shí)驗(yàn)例2-2未成功未成功
實(shí)驗(yàn)例2-33?
實(shí)驗(yàn)例2-410?
[0138]如在表3中所示，在提供犧牲層12的實(shí)驗(yàn)例2-1中能夠反復(fù)使用覆蓋件I達(dá)100次以上。另一方面，在溶液D2r直接涂布于剝落層14上的實(shí)驗(yàn)例2-2中墨水層A不能夠均勻地形成于覆蓋件上。在覆蓋件I進(jìn)行等離子體處理的實(shí)驗(yàn)例2-3中，雖然墨水層A能夠均勻地形成于覆蓋件I上，但是幾次使用(在此例中，3次)之后在覆蓋件I的表面中出現(xiàn)破裂，并且不能形成具有預(yù)定形狀的溝道層。此外，在覆蓋件I浸入溶劑中從而膨脹的實(shí)驗(yàn)例2-4中，覆蓋件I的表面的粗糙度逐漸增大，并且在使用10次之后在轉(zhuǎn)印后的覆蓋件I的表面上看到墨水層A的殘余物。
[0139][4.應(yīng)用例]
[0140](模塊和應(yīng)用例)
[0141]現(xiàn)在描述在上述實(shí)施方式中描述的顯示單元5 (5A或5B)的應(yīng)用例。根據(jù)上述實(shí)施方式的顯示單元適用于各種領(lǐng)域中的電子設(shè)備的顯示單元，其顯示外部輸入的或內(nèi)部生成的圖像信號(hào)作為靜止圖像或視頻圖像，包括電視設(shè)備、數(shù)字照相機(jī)、筆記本式個(gè)人計(jì)算機(jī)、移動(dòng)終端裝置(諸如移動(dòng)式電話)、以及便攜式視頻攝像機(jī)。
[0142](應(yīng)用例I)
[0143]圖12A和圖12B示出智能電話的外觀。例如，智能手機(jī)包括顯示部分310 (顯示單元5)、非顯示部分(外殼)320、以及操作部分330?？蓪⒉僮鞑糠?30提供于非顯示部分320的前表面或頂表面上。
[0144](應(yīng)用例2)
[0145]圖13示出了電視設(shè)備的構(gòu)成的外觀。例如，電視設(shè)備包括具有前面板410和濾光玻璃420的圖像顯示屏部分400 (顯示單元5)。
[0146](應(yīng)用例3)
[0147]圖14A和圖14B示出了數(shù)字式靜態(tài)攝影機(jī)的外觀構(gòu)造，分別示出了數(shù)字式靜態(tài)攝影機(jī)的前表面和后表面。例如，數(shù)字式靜態(tài)攝影機(jī)包括用于閃光的發(fā)光部分510、顯示部分520 (顯示單元5)、菜單開(kāi)關(guān)530、以及快門按鈕540。
[0148](應(yīng)用例4)
[0149]圖15示出了筆記本式個(gè)人計(jì)算機(jī)的外觀構(gòu)造。例如，筆記本式個(gè)人計(jì)算機(jī)包括主體610、用于字符等的輸入操作的鍵盤620、以及顯示圖像的顯示部分630 (顯示單元5)。
[0150](應(yīng)用例5)
[0151]圖16示出了便攜式視頻攝像機(jī)的外觀構(gòu)造。例如，便攜式視頻攝像機(jī)包括主體部分710、設(shè)置于主體部分710的前側(cè)面上的拍攝物體的透鏡720、用于拍攝的啟停開(kāi)關(guān)730、以及顯示部分740 (顯示單元5)。
[0152](應(yīng)用例6)
[0153]圖17A和圖17B各自示出了移動(dòng)式電話的外觀構(gòu)造。圖17A包括處于關(guān)閉狀態(tài)中的移動(dòng)電話的正視圖、左視圖、右視圖、俯視圖和仰視圖。圖17B包括處于打開(kāi)狀態(tài)中的移動(dòng)電話的正視圖和側(cè)視圖。例如，移動(dòng)電話可由通過(guò)鉸鏈部分830彼此連接的上殼體810和下殼體820構(gòu)成，并且可具有顯示器840 (顯示單元5)、子顯示器850、閃光燈860、以及攝像器870。
[0154]雖然本公開(kāi)已經(jīng)描述了示例性實(shí)施方式、其變形例、及在上文中的實(shí)施例，但本公開(kāi)并不限于此，并且可對(duì)其進(jìn)行各種修改或改動(dòng)。例如，雖然上述實(shí)施方式、變形例、實(shí)施例已經(jīng)描述了示例性案例，其中使用溶液D2r以形成紅色發(fā)光層33CR或綠色發(fā)光層33CG，可通過(guò)圖案化形成另一種有機(jī)層33，諸如空穴注入層33A或空穴傳輸層33B。特別地，當(dāng)通過(guò)圖案化形成空穴注入層33A時(shí)，可抑制泄漏電流。此外，使用在上述實(shí)施方式、變形例、以及實(shí)施例中所描述的有版印刷形成用于構(gòu)成半導(dǎo)體層20的薄膜晶體管，從而提高每種材料的使用效率。
[0155]此外，雖然上述實(shí)施方式、變形例、以及實(shí)施例已經(jīng)描述了發(fā)光元件10RU0G和1B的具體構(gòu)造，但是每個(gè)發(fā)光元件可以不包括所有的層，或者可以進(jìn)一步包括其他層。此夕卜，雖然上述實(shí)施方式、變形例、以及實(shí)施例已經(jīng)描述了包括除藍(lán)色發(fā)光元件以外的紅色和綠色發(fā)光元件的顯示單元，但本公開(kāi)不限于此，并適用于其中通過(guò)印刷工藝可形成任何功能層的通常的顯示單元。例如，本公開(kāi)可適用于包括藍(lán)色發(fā)光元件和黃色發(fā)光元件的顯示單元。
[0156]此外，雖然上述實(shí)施方式、變形例、以及實(shí)施例已經(jīng)描述了有源矩陣顯示單元5A或5B的情況，但本公開(kāi)適用于無(wú)源矩陣顯示單元。此外，有源矩陣驅(qū)動(dòng)的像素驅(qū)動(dòng)電路的構(gòu)造不限于上述實(shí)施方式所描述的，并且可根據(jù)需要增加電容元件或晶體管。在這種情況下，根據(jù)修改的像素驅(qū)動(dòng)電路可提供除了信號(hào)線驅(qū)動(dòng)電路120和掃描線驅(qū)動(dòng)電路130以外的必要的驅(qū)動(dòng)電路。
[0157]此外，雖然上述實(shí)施方式、變形例、以及實(shí)施例已經(jīng)描述了頂部發(fā)光型的顯示單元5A或5B情況，但本公開(kāi)可適用于從底部提取光的底部發(fā)光型或者從頂部和底部?jī)烧咛崛」獾念愋偷娘@示單元5A或5B。
[0158]從本公開(kāi)的上述示例性實(shí)施方式中至少可以實(shí)現(xiàn)以下配置。
[0159](I) 一種覆蓋件，包括:
[0160]能釋放基底(releasablebase);以及
[0161 ] 犧牲層，提供于基底上并且在印刷中與基底分離。
[0162](2)根據(jù)(I)的覆蓋件，其中通過(guò)在犧牲層上涂布提供包含功能材料的墨水層，并且犧牲層由不溶于包含在墨水層中的溶劑的材料構(gòu)成。
[0163](3)根據(jù)(I)或(2)的覆蓋件，其中，形成犧牲層的溶液的溶劑的溶解參數(shù)與形成墨水層的溶液的溶劑的溶解參數(shù)相差2以上。
[0164](4)根據(jù)⑴至(3)中任一項(xiàng)的覆蓋件，其中基底是可壓縮的。
[0165](5)根據(jù)(I)至(4)中任一項(xiàng)的覆蓋件，其中，犧牲層與墨水層一起被轉(zhuǎn)印至印刷基板。
[0166](6)根據(jù)⑴至(5)中任一項(xiàng)的覆蓋件，其中基底由硅樹脂構(gòu)成。
[0167](7) —種印刷工藝，包括:
[0168]在能釋放基底上具有犧牲層的覆蓋件上形成功能墨水層，在印刷中犧牲層與基底分離；
[0169]將具有預(yù)定圖案的凸部的移除板按壓到墨水層以在覆蓋件上形成圖案層；以及
[0170]將圖案層轉(zhuǎn)印至印刷基板。
[0171](8)根據(jù)(7)的印刷工藝，進(jìn)一步包括在將圖案層轉(zhuǎn)印到印刷基板之后從墨水層的表面移除犧牲層。
[0172](9)根據(jù)(7)或(8)的印刷工藝，其中圖案層由墨水層和犧牲層構(gòu)成。
[0173](10)根據(jù)(7)至(9)中任一項(xiàng)的印刷工藝，進(jìn)一步包括在基底上形成犧牲層。
[0174](11) 一種制造顯示單元的方法，所述方法包括:
[0175]形成顯示裝置，
[0176]顯示裝置的形成包括:
[0177]在能釋放基底上具有犧牲層的覆蓋件上形成功能墨水層，在印刷中犧牲層與基底分離；
[0178]將具有預(yù)定圖案的凸部的移除板按壓到墨水層以在覆蓋件上形成圖案層；以及
[0179]將圖案層轉(zhuǎn)印至印刷基板。
[0180](12)根據(jù)(11)的方法，其中所述顯示裝置包括:在基板上的具有布線層的半導(dǎo)體層，以及在一對(duì)第一電極和第二電極之間的至少包括發(fā)光層的有機(jī)層；以及
[0181]布線層和包括發(fā)光層的有機(jī)層中的一者或者兩者在能釋放基底上用具有在印刷中從所述基底分離的所述犧牲層的所述覆蓋件形成。
[0182](13) 一種制造電子設(shè)備的方法，方法包括
[0183]形成顯示單元，
[0184]顯示單元的形成包括:
[0185]在能釋放基底上具有犧牲層的覆蓋件上形成功能墨水層，犧牲層在印刷中與基底分離；
[0186]將具有預(yù)定圖案的凸部的移除板按壓到墨水層以在覆蓋件上形成圖案層；以及
[0187]將圖案層轉(zhuǎn)印至印刷基板。
[0188]本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)理解的是，只要不脫離附加權(quán)利要求或其等同物的范圍，可根據(jù)設(shè)計(jì)要求和其他因素進(jìn)行各種修改、組合、次組合和修改。
【權(quán)利要求】
1.一種覆蓋件，包括: 能釋放基底；以及 犧牲層，設(shè)置在所述基底上并且在印刷中從所述基底分離。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的覆蓋件，其中，通過(guò)在所述犧牲層上涂布來(lái)設(shè)置包含功能材料的墨水層，并且所述犧牲層由不溶于包含在所述墨水層中的溶劑的材料構(gòu)成。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的覆蓋件，其中，形成所述犧牲層的溶液的溶劑的溶解參數(shù)與形成所述墨水層的溶液的溶劑的溶解參數(shù)相差2或更多。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的覆蓋件，其中，所述基底是可壓縮的。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的覆蓋件，其中，所述犧牲層與所述墨水層一起被轉(zhuǎn)印至印刷基板。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的覆蓋件，其中，所述基底是由硅樹脂構(gòu)成。
7.一種印刷工藝，包括: 在能釋放基底上具有犧牲層的覆蓋件上形成功能墨水層，在印刷中所述犧牲層從所述基底分離； 將具有預(yù)定圖案的凸部的移除板按壓到所述墨水層以在所述覆蓋件上形成圖案層；以及 將所述圖案層轉(zhuǎn)印至印刷基板。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的印刷工藝，進(jìn)一步包括在將所述圖案層轉(zhuǎn)印至所述印刷基板之后從所述墨水層的表面移除所述犧牲層。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的印刷工藝，其中，所述圖案層由所述墨水層和所述犧牲層構(gòu)成。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的印刷工藝，進(jìn)一步包括在所述基底上形成所述犧牲層。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的印刷工藝，其中，形成所述犧牲層的溶液的溶劑的溶解參數(shù)與形成所述墨水層的溶液的溶劑的溶解參數(shù)相差2或更大。
12.—種顯示單元的制造方法,所述方法包括: 形成顯示裝置， 形成所述顯示裝置包括: 在能釋放基底上具有犧牲層的覆蓋件上形成功能墨水層，所述犧牲層在印刷中從所述基底分離； 將具有預(yù)定圖案的凸部的移除板按壓到所述墨水層以在所述覆蓋件上形成圖案層；以及 將所述圖案層轉(zhuǎn)印至印刷基板。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中，所述顯示裝置包括:在基板上的具有布線層的半導(dǎo)體層、以及在一對(duì)第一電極和第二電極之間的至少包括發(fā)光層的有機(jī)層；以及 所述布線層和包括所述發(fā)光層的所述有機(jī)層中的一者或兩者用在所述能釋放基底上具有在印刷中從所述基底分離的所述犧牲層的所述覆蓋件形成。
14.一種電子設(shè)備的制造方法，所述方法包括: 形成顯示單元， 形成所述顯示單元包括: 在能釋放基底上具有犧牲層的覆蓋件上形成功能墨水層，所述犧牲層在印刷中與所述基底分離； 將具有預(yù)定圖案的凸部的移除板按壓到所述墨水層以在所述覆蓋件上形成圖案層；以及 將所述圖案層轉(zhuǎn)印至印刷基板。
【文檔編號(hào)】B41M5/025GK104175735SQ201410209184
【公開(kāi)日】2014年12月3日 申請(qǐng)日期:2014年5月16日 優(yōu)先權(quán)日:2013年5月24日
【發(fā)明者】福田敏生 申請(qǐng)人:索尼公司