本專利涉及工業(yè)噴繪機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，具體地涉及一種噴繪機(jī)正壓清洗托盤。

背景技術(shù)：

目前，工業(yè)噴繪機(jī)被廣泛應(yīng)用在瓷磚、玻璃、木材、織物等加工產(chǎn)業(yè)上，通過(guò)噴繪的方式將釉料噴繪至瓷磚的磚胚或玻璃上，然后再進(jìn)行燒制，燒制后釉料顏色和質(zhì)感即會(huì)變化成色?，F(xiàn)有的工業(yè)噴繪機(jī)可應(yīng)用于任意材質(zhì)的平面全彩打印，其顛覆性的數(shù)碼打印理念給瓷磚、玻璃的加工行業(yè)帶來(lái)一股新風(fēng)，以勢(shì)不可擋的席卷了整個(gè)行業(yè)，為客戶大幅度的降低生產(chǎn)成本，提高生產(chǎn)效率創(chuàng)造了良好的條件可代替絲印、移印、轉(zhuǎn)印設(shè)備，無(wú)需制版、無(wú)需套色即可制作出比傳統(tǒng)方式更高的印刷質(zhì)量，且機(jī)器操作簡(jiǎn)單方便、性能穩(wěn)定，完全滿足行業(yè)批量生產(chǎn)要求。再有，噴繪機(jī)的應(yīng)用同時(shí)也大大減少加工過(guò)程中產(chǎn)生的粉塵，能夠降低該過(guò)程的有害物質(zhì)對(duì)操作工人身體的損害，并能進(jìn)一步降低該工業(yè)污染的程度，因此目前該項(xiàng)技術(shù)廣受行業(yè)的推崇。

工業(yè)生產(chǎn)使用噴繪機(jī)的墨路系統(tǒng)結(jié)構(gòu)復(fù)雜，且所用顏料較為特殊，一般是采用有機(jī)溶劑將特殊顏料進(jìn)行溶解，顏料在有機(jī)溶劑中呈懸浮態(tài)，因此噴繪機(jī)經(jīng)過(guò)長(zhǎng)時(shí)間使用，噴頭容易被干的熱熔顏料或污物阻塞，或噴頭周圍容易積集了顏料或灰塵，或在噴頭內(nèi)形成了氣泡，這樣的廢液長(zhǎng)時(shí)間積聚，不僅會(huì)減損噴繪精度和噴頭使用壽命，而且還會(huì)影響噴繪的效果，甚至對(duì)機(jī)器本身造成一定的腐蝕損害。目前工業(yè)生產(chǎn)上多采用正壓墨水清洗噴繪機(jī)噴頭，該清理方式全面而徹底，對(duì)機(jī)器損壞較小，但沖洗過(guò)程容易導(dǎo)致廢墨浸染到放置瓷磚或玻璃的載物臺(tái)，造成二次污染，后續(xù)整理維護(hù)較麻煩，且還不利于廢墨的收集傾倒，自動(dòng)化程度極差，難以適應(yīng)工業(yè)化生產(chǎn)的大型噴繪機(jī)所需。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本專利所要解決的技術(shù)問(wèn)題是克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種使用自動(dòng)化程度高、適用于大型噴繪機(jī)的正壓清洗托盤。

本專利通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)上述目的：

一種噴繪機(jī)正壓清洗托盤，包括上托盤、下托盤和連動(dòng)裝置，所述上托盤設(shè)置于所述下托盤的上方，原始狀態(tài)時(shí)所述上托盤與下托盤層疊放置，工作狀態(tài)時(shí)所述上托盤與下托盤展開(kāi)平鋪于噴繪機(jī)的載物臺(tái)上；所述連動(dòng)裝置設(shè)置于所述上托盤和下托盤的交接處，當(dāng)上托盤或下托盤向一側(cè)移動(dòng)至上、下托盤錯(cuò)開(kāi)時(shí)，所述連動(dòng)裝置用于帶動(dòng)所述上、下托盤一并同側(cè)移動(dòng)；當(dāng)上托盤或下托盤向一側(cè)移動(dòng)至上、下托盤重疊時(shí)，所述連動(dòng)裝置用于帶動(dòng)所述上、下托盤一并同側(cè)移動(dòng)。

由于工業(yè)化生產(chǎn)的噴繪機(jī)較大型，因此正壓清洗時(shí)所需的清洗托盤相應(yīng)地也應(yīng)具有較大的盛水面積，然而噴繪機(jī)的載物臺(tái)面積有限，因此本專利采用層疊式的清洗托盤，占據(jù)載物臺(tái)的面積較少，再者安裝本專利時(shí)，可在本專利與載物臺(tái)間留有一定空間，從而大大降低固定安裝托盤對(duì)生產(chǎn)作業(yè)的影響，方便將托盤長(zhǎng)期固定安裝于載物臺(tái)上，而無(wú)須使用時(shí)才安裝，提高工作效率。本專利設(shè)置所述連動(dòng)裝置以避免托盤以伸縮式展開(kāi)時(shí)上下托盤發(fā)生脫節(jié)，從而保證接水的效果。此外，兩托盤間存在連動(dòng)的牽連關(guān)系，也有利于以其中一個(gè)托盤作為主動(dòng)托盤牽引整體的移動(dòng)，而無(wú)須分開(kāi)操控其移動(dòng)。

上述方案中，本專利還包括驅(qū)動(dòng)裝置，所述驅(qū)動(dòng)裝置與上托盤或下托盤相連，用于帶動(dòng)上托盤或下托盤沿載物臺(tái)橫向移動(dòng)。優(yōu)選地，所述驅(qū)動(dòng)裝置可為皮帶－動(dòng)輪式的驅(qū)動(dòng)裝置，包括電機(jī)、動(dòng)輪和皮帶，所述動(dòng)輪分別固定設(shè)置于載物臺(tái)的兩側(cè)，所述皮帶經(jīng)繞所述動(dòng)輪，所述電機(jī)與動(dòng)輪相連，用于驅(qū)動(dòng)動(dòng)輪帶動(dòng)所述皮帶傳動(dòng)，所述上托盤或下托盤與所述皮帶相連。當(dāng)啟動(dòng)電機(jī)時(shí)，即可實(shí)現(xiàn)牽引上托盤或下托盤向前移動(dòng)，既能帶動(dòng)展開(kāi)托盤，又能牽引整體移動(dòng)至噴車下方。該模式的驅(qū)動(dòng)裝置具有機(jī)械組件簡(jiǎn)單、損壞率較低、易于維護(hù)等優(yōu)點(diǎn)。

此外，所述驅(qū)動(dòng)裝置也可為選擇另一種方案：所述驅(qū)動(dòng)裝置包括驅(qū)動(dòng)機(jī)車和滑槽，所述滑槽安裝于載物臺(tái)兩側(cè)，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)車與上托盤或下托盤相連，沿所述滑槽自由滑動(dòng)。當(dāng)啟動(dòng)驅(qū)動(dòng)機(jī)車時(shí)即可實(shí)現(xiàn)牽引上托盤或下托盤向前移動(dòng)，既能帶動(dòng)展開(kāi)托盤，又能牽引整體移動(dòng)至噴車下方。該模式的驅(qū)動(dòng)裝置具有安裝簡(jiǎn)單、移動(dòng)便捷等優(yōu)點(diǎn)。

上述方案中，所述上托盤和下托盤分別設(shè)有支架，所述支架用于連接安裝于載物臺(tái)兩側(cè)的滑軌，所述滑軌與支架之間設(shè)有滑塊，使所述上托盤和下托盤沿滑軌自由移動(dòng)。所述支架作為支撐件同時(shí)，也將所述上托盤和下托盤安裝于載物臺(tái)兩側(cè)的滑軌上，當(dāng)所述上托盤的支架高度大于所述下托盤的支架高度時(shí)，上托盤與下托盤能自由相對(duì)移動(dòng)，從而實(shí)現(xiàn)其伸縮收展?fàn)顟B(tài)的轉(zhuǎn)換。滑塊的設(shè)置有利于減少托盤沿滑軌移動(dòng)時(shí)的摩擦力，既能實(shí)現(xiàn)狀態(tài)的快速切換，又能減少支架與滑軌間經(jīng)長(zhǎng)期使用后產(chǎn)生的磨損。

上述方案中，所述上托盤和下托盤分別設(shè)有隔斷，所述隔斷上設(shè)有導(dǎo)流孔，所述下托盤的隔斷高度小于所述上托盤與下托盤的垂直間距。通過(guò)在托盤上設(shè)置隔斷，避免當(dāng)大量廢墨流入托盤時(shí)產(chǎn)生嚴(yán)重的飛濺時(shí)，對(duì)相鄰的非同色噴頭造成二次污染。由于所述上托盤與下托盤間設(shè)有連動(dòng)裝置，因此相應(yīng)地需要所述下托盤的隔斷高度小于所述上托盤下側(cè)的連動(dòng)裝置與下托盤的垂直間距，以方便上下托盤相對(duì)移動(dòng)時(shí)，下托盤的隔斷不會(huì)干涉連動(dòng)裝置。

上述方案中，所述上托盤設(shè)有排墨孔，所述上托盤排墨孔設(shè)置于靠近下托盤的一側(cè)，使廢墨從排墨孔集中排放至下托盤，方便使用者清洗完成后對(duì)廢墨的進(jìn)行集中處理。

上述方案中，所述下托盤設(shè)有排墨孔，載物臺(tái)一側(cè)設(shè)有沿下托盤移動(dòng)方向延伸的排墨槽，所述下托盤排墨孔與排墨槽相對(duì)應(yīng)，使廢墨從排墨孔排放至排墨槽。當(dāng)廢墨匯集到下托盤上，通過(guò)所述排墨孔即可將廢墨盡數(shù)排向排墨槽，無(wú)須使用者后續(xù)進(jìn)行傾倒操作，提高過(guò)程的自動(dòng)化程度。

本專利還包括附隨托盤，所述附隨托盤設(shè)置于所述下托盤的下方，原始狀態(tài)時(shí)與所述上托盤、下托盤層疊放置，工作狀態(tài)時(shí)與所述上托盤、下托盤展開(kāi)平鋪于噴繪機(jī)的載物臺(tái)上；所述附隨托盤與所述下托盤之間也設(shè)有所述連動(dòng)裝置，所述連動(dòng)裝置用于帶動(dòng)所述附隨托盤隨所述下托盤一并同側(cè)移動(dòng)。

優(yōu)選地，所述附隨托盤包括2或3個(gè)子托盤，所述子托盤之間也設(shè)有所述連動(dòng)裝置，所述連動(dòng)裝置用于帶動(dòng)所述子托盤一并同側(cè)移動(dòng)。

上述方案中，本專利作兩層托盤的設(shè)計(jì)以節(jié)省放置托盤的空間，鑒于此可進(jìn)一步設(shè)計(jì)三層甚至多層托盤相層疊組合放置、伸縮展開(kāi)使用的模式，以實(shí)現(xiàn)放置空間的進(jìn)一步節(jié)省。

上述方案中，所述連動(dòng)裝置為擋塊，通過(guò)在上托盤靠近下托盤一側(cè)的邊緣下方設(shè)置擋塊，所述下托盤至少在對(duì)應(yīng)擋塊移動(dòng)方向的兩側(cè)設(shè)置有凸出的擋邊，由于所述擋塊會(huì)對(duì)下托盤的前后側(cè)邊緣產(chǎn)生阻擋效果，即可實(shí)現(xiàn)當(dāng)上托盤或下托盤向一側(cè)移動(dòng)至兩托盤錯(cuò)開(kāi)時(shí)，前行的托盤繼續(xù)帶動(dòng)后行的托盤一并同側(cè)移動(dòng)；當(dāng)上托盤或下托盤向一側(cè)移動(dòng)至兩托盤重疊時(shí)，前行的托盤也能繼續(xù)帶動(dòng)后行的托盤一并同側(cè)移動(dòng)。

本專利通過(guò)多個(gè)托盤的層疊式組裝應(yīng)用，實(shí)現(xiàn)了對(duì)噴頭進(jìn)行正壓式清洗所排放廢墨的承接收集，避免廢墨對(duì)噴繪機(jī)載物臺(tái)造成二次污染，減少清洗清理的后續(xù)收拾整理工作。另一方面，原始狀態(tài)下多個(gè)托盤層疊放置，工作狀態(tài)時(shí)多個(gè)托盤展開(kāi)平鋪，此設(shè)計(jì)大大減省了對(duì)載物臺(tái)面積的占用，方便將其長(zhǎng)期固定安裝于載物臺(tái)上，隨時(shí)使用而無(wú)須重新安裝，極大提高了工作效率。此外，本專利通過(guò)設(shè)置驅(qū)動(dòng)裝置、排墨孔等，將機(jī)器的啟動(dòng)、展開(kāi)、承接廢墨、排放廢墨步驟統(tǒng)一起來(lái)，進(jìn)一步提高了機(jī)器的自動(dòng)化程度，省卻了大量的人力成本，具有安裝簡(jiǎn)單、使用自動(dòng)化、設(shè)計(jì)人性化等優(yōu)點(diǎn)。

附圖說(shuō)明

圖1是本專利的原始狀態(tài)示意圖。

圖2是本專利的整體示意圖。

圖3為本專利上下托盤連動(dòng)的局部放大圖。

圖4為噴繪機(jī)的整體結(jié)構(gòu)。

圖5為噴繪機(jī)托盤第一狀態(tài)的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖6為噴繪機(jī)托盤第二狀態(tài)的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中：100上托盤、200下托盤、300支架、400滑軌、510電機(jī)、520動(dòng)輪、530皮帶、600隔斷、700排墨孔、800排墨槽。

具體實(shí)施方式

為進(jìn)一步說(shuō)明本專利的結(jié)構(gòu)和工作原理，以下結(jié)合附圖舉例對(duì)本專利做進(jìn)一步地詳細(xì)說(shuō)明。其中，附圖僅用于示例性說(shuō)明，表示的僅是示意圖，而非實(shí)物圖，不能理解為對(duì)本專利的限制。

如圖1所示，本實(shí)施例公開(kāi)了一種噴繪機(jī)正壓清洗托盤，包括上托盤100和下托盤200，所述上托盤100設(shè)置于所述下托盤200的上方。圖中所示為本實(shí)施例的原始狀態(tài)，即上托盤100與下托盤200呈層疊放置。所述上托盤100與下托盤200分別裝有支架300，上托盤100的支架300高于下托盤的支架300。所述支架300的另一側(cè)與安裝于載物臺(tái)兩側(cè)的滑軌400相連，所述滑軌400與支架300之間設(shè)有滑塊（未在圖中示出），使所述上托盤100和下托盤200沿滑軌400自由移動(dòng)，并且兩托盤能分別相對(duì)移動(dòng)而各不影響。優(yōu)選地，當(dāng)兩托盤完全重疊時(shí)，所述上托盤100的支架300與下托盤200的支架300正好相抵，從而方便兩托盤實(shí)現(xiàn)同時(shí)同側(cè)移動(dòng)。

如圖3所述，本實(shí)施例在上托盤100與下托盤200交接處設(shè)有連動(dòng)裝置，該連動(dòng)裝置為擋塊101。所述擋塊設(shè)置于所述上托盤100后側(cè)邊緣的下方兩角，當(dāng)上托盤100或下托盤200作為前行托盤向一側(cè)移動(dòng)至兩托盤完開(kāi)時(shí)，所述擋塊101即與所述下托盤200的前側(cè)邊緣201相抵；當(dāng)上托盤100或下托盤200作為前行托盤向一側(cè)移動(dòng)至兩托盤重疊時(shí)，所述擋塊即與所述下托盤200的后側(cè)邊緣相抵，同時(shí)兩托盤的支架300相抵，從而實(shí)現(xiàn)兩托盤一并同側(cè)移動(dòng)。

如圖2所示，本實(shí)施例還設(shè)有動(dòng)輪－皮帶式的驅(qū)動(dòng)裝置，所述驅(qū)動(dòng)裝置包括電機(jī)510、動(dòng)輪520和皮帶530，所述動(dòng)輪520分別固定設(shè)置于載物臺(tái)的兩側(cè)，所述皮帶530經(jīng)繞同側(cè)的動(dòng)輪520，所述電機(jī)510與動(dòng)輪520相連，能由控制臺(tái)控制啟動(dòng)。圖中，本實(shí)施例以上托盤100作為前行的主動(dòng)托盤，因此所述上托盤100的支架300設(shè)有一外延與所述皮帶530相連，使之能隨皮帶530傳動(dòng)而前后移動(dòng)。當(dāng)然可將下托盤200設(shè)為前行的主動(dòng)托盤作為另一實(shí)施例。此外，也可在前行的主動(dòng)托盤兩側(cè)固定安裝驅(qū)動(dòng)機(jī)車作為驅(qū)動(dòng)裝置，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)車能沿安裝于載物臺(tái)兩側(cè)的滑槽自由滑動(dòng)，以此方案作為另一實(shí)施例。

圖中可見(jiàn)，本實(shí)施例的所述上托盤100和下托盤200分別設(shè)有兩個(gè)隔斷600，所述隔斷600上設(shè)有導(dǎo)流孔，所述下托盤200的隔斷600高度小于所述上托盤100與下托盤200的垂直間距。

如圖3所示，所述上托盤100靠近下托盤200的一側(cè)設(shè)有成排分布的多個(gè)排墨孔700，該排墨孔700與下托盤200相通，使廢墨得以集中排放至下托盤200。而所述下托盤200靠近支架300處也設(shè)有排墨孔700，該排墨孔700與排墨槽800相連通，使廢墨從排墨孔700排放至排墨槽800。優(yōu)選地，所述上托盤100向所述下托盤200傾斜，上托盤100與載物臺(tái)所成銳角為15°。

除此之外，本專利還可在以上技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，對(duì)上述實(shí)施例進(jìn)行多層式的改進(jìn)設(shè)計(jì)，即在所述下托盤的下方設(shè)置附隨托盤作為另外的實(shí)施例。所述附隨托盤在原始狀態(tài)時(shí)與所述上托盤100、下托盤200層疊放置，工作狀態(tài)時(shí)與所述上托盤100、下托盤200展開(kāi)平鋪于噴繪機(jī)的載物臺(tái)上；所述附隨托盤與所述下托盤200之間也設(shè)有所述連動(dòng)裝置。優(yōu)選地，所述附隨托盤包括2或3個(gè)子托盤，所述子托盤之間也設(shè)有所述連動(dòng)裝置。

噴繪機(jī)的整體結(jié)構(gòu)如圖4所示，上下托盤位于噴繪機(jī)的一側(cè)。原始狀態(tài)時(shí)，上托盤100與下托盤200呈層疊放置，當(dāng)需要對(duì)噴頭進(jìn)行正壓式清洗時(shí)，使用者即可在控制臺(tái)控制切換到本實(shí)施例的工作狀態(tài)：?jiǎn)?dòng)所述電機(jī)510，電機(jī)510驅(qū)動(dòng)動(dòng)輪帶動(dòng)所述皮帶530轉(zhuǎn)動(dòng)，繼而帶動(dòng)與之連接的上托盤100向前移動(dòng)，當(dāng)所述上托盤100前移至兩托盤邊緣相交，在所述擋塊的作用下，皮帶530的持續(xù)傳動(dòng)將繼續(xù)帶動(dòng)上托盤100前移繼而牽引下托盤200整體前移，如圖5所示，當(dāng)前移至噴頭下方使用者即可停止電機(jī)同時(shí)啟動(dòng)清洗程序。清洗完畢的廢墨均落入到噴頭下方的托盤上，從下托盤200上的排墨孔700排走。當(dāng)清洗完畢后，托盤上的廢墨排盡，即可重復(fù)上述步驟，重新啟動(dòng)電機(jī)510，將托盤收起來(lái)，如圖6所示，置于載物臺(tái)邊上。全程實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化，只需使用者在控制臺(tái)進(jìn)行操作，而無(wú)須人工清理，極大地提高了生產(chǎn)作業(yè)效率。

顯然，本專利的上述實(shí)施例僅僅是為清楚地說(shuō)明本專利所作的舉例，而并非是對(duì)本專利的實(shí)施方式的限定。對(duì)于所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在上述說(shuō)明的基礎(chǔ)上還可以做出其它不同形式的變化或變動(dòng)。這里無(wú)需也無(wú)法對(duì)所有的實(shí)施方式予以窮舉。凡在本專利的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本專利權(quán)利要求的保護(hù)范圍之內(nèi)。