本發(fā)明涉及噴墨用處理液。此外，還涉及使用它的墨液組及印花方法。

背景技術(shù)：

1、在噴墨記錄方式中，可知在墨液涂布之前，涂布前處理液。例如，報(bào)告有使用含有微粒作為與墨液中的色料形成凝聚物的成分的處理液的方法。

2、在專利文獻(xiàn)1中公開有在使含有二氧化硅微粒的無色液體附著于被記錄材之后，使含有油性黑的非水系記錄液附著的噴墨記錄方法。另外，在專利文獻(xiàn)2中公開有將含有微?；蛭⒘：驼澈蟿┚酆衔锏娜芤鹤鳛樘幚硪菏褂?。

3、這種含有微粒的液體因以分散狀態(tài)含有反應(yīng)性微粒，所以能夠添加大量的反應(yīng)成分。但是，含有上述反應(yīng)性微粒的液體組合物，基于在成分的制造過程中不可避免地含有腐蝕性離子，為了確保與色料具有反應(yīng)性的成分的分散穩(wěn)定性而添加有氯離子和酸這樣的腐蝕性離子作為副離子等理由，在該液體組合物中高濃度地含有腐蝕性離子。因此，將該液體組合物直接作為處理液的原材料使用時(shí)，多數(shù)情況下會(huì)因該腐蝕性離子而發(fā)生接液上的問題，有可能溶解噴出處理液的頭的金屬系材料。

4、對(duì)于此腐蝕性離子引起的接液性的問題，有報(bào)告稱，通過將含有陽離子性聚合物的處理液中的氯離子濃度規(guī)定為3000ppm以下，可獲得接液性的改善（專利文獻(xiàn)3）。另外，還報(bào)告有一種處理液的制造法，其特征在于，在制造含有一種以上與色料具有反應(yīng)性的成分的處理液時(shí)，通過在制造過程中由離子交換法置換離子的離子交換法，將具有腐蝕性的離子（鹵素離子）置換成腐蝕性較低的離子（專利文獻(xiàn)4）。

5、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

6、專利文獻(xiàn)

7、專利文獻(xiàn)1：日本特開平4－259590號(hào)公報(bào)

8、專利文獻(xiàn)2：日本特開平6－92010號(hào)公報(bào)

9、專利文獻(xiàn)3：日本特開平10－237372號(hào)公報(bào)

10、專利文獻(xiàn)4：日本特開2004－90456號(hào)公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、關(guān)于本發(fā)明的一個(gè)方面的噴墨用處理液，含有陽離子性聚合物和琥珀酸。另外，鹵素離子濃度為5g/l以下，并且ph為7～9.5。

技術(shù)特征：

1.一種噴墨用處理液，其含有陽離子性聚合物和琥珀酸，鹵素離子濃度為5g/l以下，并且ph為7～9.5。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴墨用處理液，其中，所述陽離子性聚合物包含含有四級(jí)銨的陽離子性聚合物。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴墨用處理液，其中，所述陽離子性聚合物的含量，相對(duì)于處理液總體，為0.3重量%以上且35重量%以下。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴墨用處理液，其中，所述琥珀酸的含量，相對(duì)于處理液總體，為0.5重量%以上且20重量%以下。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴墨用處理液，其中，所述陽離子性聚合物與所述琥珀酸的重量比即陽離子性聚合物/琥珀酸為0.20以上且3.50以下。

6.根據(jù)權(quán)利要求1～5中任一項(xiàng)所述的噴墨用處理液，其中，是印花用。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的噴墨用處理液，其中，是使用含有陰離子性顏料的噴墨用墨液的印花用。

8.一種墨液組，其具有：

9.一種印花方法，其中，包括：對(duì)于印花對(duì)象涂布權(quán)利要求1～5中任一項(xiàng)所述的噴墨用處理液，其后，在涂布有所述噴墨用處理液的區(qū)域涂布含有陰離子性顏料的噴墨用墨液。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明的一個(gè)方面涉及一種噴墨用處理液，其含有陽離子性聚合物和琥珀酸，鹵素離子濃度為5g/L以下，并且pH為7～9.5。

技術(shù)研發(fā)人員：杉本博子,保母純平,通山剛,日置潤
受保護(hù)的技術(shù)使用者：京瓷株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/6