本發(fā)明涉及液體噴出裝置、有機發(fā)光裝置的制造方法及噴頭的操作方法。

背景技術：

1、近年來，在各種功能元件的制造中，嘗試使用噴墨裝置形成圖案。使用噴墨裝置形成圖案的技術具有材料的使用效率高、由于是非真空工藝所以有利于制造裝置的小型化等優(yōu)點。近年來，使用有機el元件的有機發(fā)光裝置(oled裝置)的開發(fā)日益盛行。由于有機el材料價格昂貴，因此期待利用材料的使用效率優(yōu)異的噴墨裝置。

2、如果持續(xù)生產器件，則噴墨頭(以下稱為噴頭)的表面狀態(tài)發(fā)生變化，因此，為了使其表面狀態(tài)恢復為原狀，可以進行維護。噴頭的維護可以在與涂敷位置不同的維護位置進行。但是，如果在將噴頭移動到維護位置進行維護之后將噴頭返回到涂敷位置，則可能產生噴頭的位置偏移。另外，在為了維護以外的目的而使噴頭從涂敷位置移動到其它的位置后返回到涂敷位置的情況下，也可能產生噴頭的位置偏移。

3、另外，雖然與本發(fā)明沒有直接的關系，但在專利文獻1中記載了具有使搭載有噴出液滴的多個記錄頭的基座構件升降的升降機構的圖像形成裝置。

4、在先技術文獻

5、專利文獻

6、專利文獻1：日本特開2010-30270號公報

技術實現(xiàn)思路

1、發(fā)明要解決的課題

2、本發(fā)明提供了一種有利于減少通過使包括噴出液體的噴出部的噴頭移動而可能產生的噴頭的位置偏移的技術。

3、用于解決課題的方案

4、本發(fā)明的第一方式涉及一種液體噴出裝置，其特征在于，所述液體噴出裝置具備：升降機構，使支承部在第一高度與比所述第一高度低的第二高度之間升降，該支承部對保持有噴出液體的噴頭的滑架進行支承；保持部，在所述支承部位于所述第二高度時保持所述滑架；以及定位機構，在所述支承部位于所述第二高度時對所述滑架進行定位，在所述支承部從所述第一高度下降到所述第二高度的期間，所述保持部從所述支承部接受所述滑架，在所述支承部從所述第二高度上升到所述第一高度的期間，所述支承部從所述保持部接受所述滑架。

5、本發(fā)明的第二方式涉及一種有機發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：涂敷工序，通過構成為噴出含有有機發(fā)光材料的液體的第一方式的液體噴出裝置，在處理對象物的多個部位涂敷有機發(fā)光材料；以及處理工序，對所述處理對象物進行處理而得到有機發(fā)光裝置。

6、本發(fā)明的第三方式涉及一種操作方法，是對保持有噴出液體的噴頭的滑架進行操作的操作方法，其特征在于，所述操作方法包括：使支承所述滑架的支承部從第一高度下降到比所述第一高度低的第二高度的工序；在從所述第一高度下降到所述第二高度的期間，保持部從所述支承部接受并保持所述滑架的工序；在所述支承部位于所述第二高度時對所述滑架進行定位的工序；以及在所述支承部從所述第二高度上升到所述第一高度的期間，所述支承部從所述保持部接受所述滑架的工序。

7、發(fā)明的效果

8、根據(jù)本發(fā)明，提供了一種有利于減少通過使包括噴出液體的噴出部的噴頭移動而可能產生的噴頭的位置偏移的技術。

技術特征：

1.一種液體噴出裝置，其特征在于，

2.根據(jù)權利要求1所述的液體噴出裝置，其特征在于，

3.根據(jù)權利要求2所述的液體噴出裝置，其特征在于，

4.根據(jù)權利要求3所述的液體噴出裝置，其特征在于，

5.根據(jù)權利要求2所述的液體噴出裝置，其特征在于，

6.根據(jù)權利要求3所述的液體噴出裝置，其特征在于，

7.根據(jù)權利要求6所述的液體噴出裝置，其特征在于，

8.根據(jù)權利要求7所述的液體噴出裝置，其特征在于，

9.根據(jù)權利要求1所述的液體噴出裝置，其特征在于，

10.根據(jù)權利要求9所述的液體噴出裝置，其特征在于，

11.根據(jù)權利要求10所述的液體噴出裝置，其特征在于，

12.根據(jù)權利要求1所述的液體噴出裝置，其特征在于，

13.根據(jù)權利要求1～12中任一項所述的液體噴出裝置，其特征在于，

14.根據(jù)權利要求1～12中任一項所述的液體噴出裝置，其特征在于，

15.根據(jù)權利要求1所述的液體噴出裝置，其特征在于，

16.根據(jù)權利要求1所述的液體噴出裝置，其特征在于，

17.根據(jù)權利要求15所述的液體噴出裝置，其特征在于，

18.一種有機發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于，

19.根據(jù)權利要求18所述的制造方法，其特征在于，

20.一種操作方法，是對保持有噴出液體的噴頭的滑架進行操作的操作方法，其特征在于，

技術總結
本發(fā)明提供液體噴出裝置、有機發(fā)光裝置的制造方法及噴頭的操作方法，液體噴出裝置具備：升降機構，使對保持有噴出液體的噴頭的滑架進行支承的支承部在第一高度與比所述第一高度低的第二高度之間升降；保持部，在所述支承部位于所述第二高度時保持所述滑架；以及定位機構，在所述支承部位于所述第二高度時對所述滑架進行定位，在所述支承部從所述第一高度下降到所述第二高度的期間，所述保持部從所述支承部接受所述滑架，在所述支承部從所述第二高度上升到所述第一高度的期間，所述支承部從所述保持部接受所述滑架。

技術研發(fā)人員：伊藤茂
受保護的技術使用者：佳能株式會社
技術研發(fā)日：
技術公布日：2025/1/2